JP2020507073A - 架橋構造を有する電離放射線コンバータおよびその製造方法 - Google Patents
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- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 title claims abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 24
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 7
- 230000005611 electricity Effects 0.000 abstract description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 5
- 230000005250 beta ray Effects 0.000 abstract description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 abstract 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 6
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 5
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YZCKVEUIGOORGS-NJFSPNSNSA-N Tritium Chemical compound [3H] YZCKVEUIGOORGS-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 boron ion Chemical class 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 229910052722 tritium Inorganic materials 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005260 alpha ray Effects 0.000 description 1
- 230000000747 cardiac effect Effects 0.000 description 1
- 229910052729 chemical element Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007847 structural defect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000001356 surgical procedure Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21H—OBTAINING ENERGY FROM RADIOACTIVE SOURCES; APPLICATIONS OF RADIATION FROM RADIOACTIVE SOURCES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; UTILISING COSMIC RADIATION
- G21H1/00—Arrangements for obtaining electrical energy from radioactive sources, e.g. from radioactive isotopes, nuclear or atomic batteries
- G21H1/06—Cells wherein radiation is applied to the junction of different semiconductor materials
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/547—Monocrystalline silicon PV cells
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
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Abstract
Description
本発明は、電離放射線エネルギーから電気(EMF)へのコンバータに関する。本発明は、無人航空、爆発性が高い領域(例えば、地雷)、アクセスが困難な領域に配置された夜間インジケータ、医療(心臓ペースメーカ)等に使用することができる。
例えば、患者の心臓(心臓ペースメーカ)に直接埋め込まれる埋込みセンサおよびペースメーカ、等の医療である。有効寿命が長い(単独寿命が25年以上)を有する耐久性のある電源によって、心臓ペースメーカの電源交換のための繰り返しの手術の必要性がなくなる。
低ドープされたn(p)導電型半導体ウェハを含む装置構成が知られており(米国特許出願公開第20140225472号、公開日2014年8月14日)。このウェハの表面に導電電極(すなわち、カソード(アソード))が配置された高ドープされたn+(p+)領域を含む。ウェハの上部に半導体ウェハとp−n接合を形成する高ドープされたp+(n+)領域がある。表面p+(n+)領域は、絶縁誘電体および導電アノード電極(すなわち、カソード(アノード))の層がある。導電アノード電極は放射性同位体である。
ここで、Uid=φt×Ln(Isc/IS+1)であり、φtは熱ポテンシャルであり、Iscは放射線によって発生する短絡電流である。
放射性同位体の放射面(Sem)が大きく、したがって、バルクp−n接合部の面積(Spn,b)が大きいため、コンバータの単位体積当たりのエネルギーEuが増大することが、第1の課題に対する本発明の技術的成果である。
技術的パラメータが異なる、異なる例のベータコンバータ設計が可能である。例えば、図1および2に示すコンバータは、最も高い単位出力を有する一方、チャネル内のニッケルの量が多いため、非常に高価である。図3および4に示すコンバータは、63Niの必要量がはるかに少なく安価である一方、単位出力が低い。
Id.pl=0.5nA/cm2
チャネル内に形成された等しい面積のp−n接合の漏電流は3桁大きい:
Ilk.b=1μA
これは、平面p−n接合Uid.pl=0.1Vおよびバルクp−n接合Uid.b=4mVのアイドル電圧に一致した:
Uid.pl=φt×Ln(Isc/Id+1)=0.026×Ln(27/0.5+1)=0.1V
ここで、φtは熱ポテンシャルであり、Iscは放射線によって生成される短絡電流である。
Pmax=Uid×Isc×FF
平面p−n接合の場合、Pmax.plは1.7nWであり、バルクp−n接合の場合、Pmax.bは0.08nWである。
Claims (2)
- 架橋構造を有する電離放射線コンバータであって、
低ドープされたn(p)導電型半導体ウェハを含み、
上記半導体のバルクは、上部から上記ウェハ表面に形成された垂直チャネルを含み、
上記チャネルの壁面は、高ドープされたp+(n+)導電型を有し、
上記チャネルは、上記コンバータダイオードの電極(すなわち、アノード(カソード))を形成する導電性放射性同位体材料によって充填され、
上記ウェハの底面は、水平p−n接合を形成する水平方向に高ドープされたn+(p+)導電型領域を含み、
上記ウェハの上面は、水平p−n接合を形成する水平方向に高ドープされたp+(n+)導電型領域を含み、
上記垂直チャネルの表面は、低ドープされ、さらにn(p)導電型を有し、
上記垂直チャネルのそれぞれの一端は、上記ウェハの底面と連結し、
上記垂直チャネルの他端(すなわち、上記垂直チャネルのそれぞれの底面)は、上記ウェハの上面から一定の距離を有し、
上記距離は、水平p−n接合によって形成される空間電荷領域における水平p−n接合の全体の深さよりも大きい、電離放射線コンバータ。 - 低ドープされたn(p)導電型ウェハの底面上に、水平方向に高ドープされたn+(p+)導電型層を形成する工程と、
半導体ウェハの上面をエッチングすることにより垂直チャネルを形成する工程と、
上記チャネルの壁面をドープする工程と、
上記ウェハの上面上および上記チャネル内にアノード(カソード)電極のための放射性同位体金属をドープする工程と、
上記ウェハの底面上にアノード(カソード)電極のための金属層を蒸着する工程と、
を含み、
上記低ドープされたn(p)導電型ウェハの底面をエッチングし、チャネル壁面をドナー(アクセプター)不純物でドープし、ドナー(アクセプター)不純物でドープすることによって水平p−n接合部をウェハの上面に形成することによって、垂直チャネルが形成される、製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2017103167A RU2659618C1 (ru) | 2017-01-31 | 2017-01-31 | Преобразователь ионизирующих излучений с сетчатой объемной структурой и способ его изготовления |
RU2017103167 | 2017-01-31 | ||
PCT/RU2017/000663 WO2018143838A1 (en) | 2017-01-31 | 2017-09-11 | Ionizing radiation converter with cross-linked structure and its fabrication method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020507073A true JP2020507073A (ja) | 2020-03-05 |
Family
ID=62815832
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019541228A Pending JP2020507073A (ja) | 2017-01-31 | 2017-09-11 | 架橋構造を有する電離放射線コンバータおよびその製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2020507073A (ja) |
KR (1) | KR102595089B1 (ja) |
CN (1) | CN110494929A (ja) |
DE (1) | DE112017006974T5 (ja) |
EA (1) | EA201900377A1 (ja) |
RU (1) | RU2659618C1 (ja) |
WO (1) | WO2018143838A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113223743B (zh) * | 2021-05-08 | 2023-10-20 | 西北核技术研究所 | 一种基于微孔阵列准直器的α放射源核电池 |
CN114203330A (zh) * | 2021-12-13 | 2022-03-18 | 中国核动力研究设计院 | 一种超薄镍-63辐射源及其制备方法、应用 |
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US20140264256A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Three dimensional radioisotope battery and methods of making the same |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040154656A1 (en) * | 2003-02-10 | 2004-08-12 | Science & Technology Corporation @ Unm | Nuclear radiation fueled power cells |
US7138701B2 (en) * | 2003-10-02 | 2006-11-21 | International Business Machines Corporation | Electrostatic discharge protection networks for triple well semiconductor devices |
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CN100414719C (zh) * | 2005-10-24 | 2008-08-27 | 西北工业大学 | 微电池及其制作方法 |
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US20100071751A1 (en) * | 2008-09-22 | 2010-03-25 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Photo-induced metal-insulator-transition material complex for solar cell, solar cell and solar cell module comprising the same |
RU2452060C2 (ru) * | 2010-05-27 | 2012-05-27 | Виталий Викторович Заддэ | Полупроводниковый преобразователь бета-излучения в электроэнергию |
KR20120071241A (ko) * | 2010-12-22 | 2012-07-02 | 한국전자통신연구원 | 베타소스로부터 전류를 생성하는 적층형 베타전지 및 그 제작방법 |
CN102354540B (zh) | 2011-10-19 | 2013-08-14 | 西安电子科技大学 | I层钒掺杂的pin型核电池及其制作方法 |
RU2539109C1 (ru) * | 2013-09-26 | 2015-01-10 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС" | Многопереходный кремниевый монокристаллический преобразователь оптических и радиационных излучений |
CN104051050A (zh) * | 2014-06-29 | 2014-09-17 | 西安电子科技大学 | 并联式PIN型α辐照电池及其制备方法 |
RU2608311C2 (ru) * | 2015-05-14 | 2017-01-17 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС" | Преобразователь оптических и радиационных излучений и способ его изготовления |
RU2608313C2 (ru) * | 2015-05-14 | 2017-01-17 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС" | Высоковольтный преобразователь ионизирующих излучений и способ его изготовления |
RU2605783C1 (ru) * | 2015-08-10 | 2016-12-27 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования Тольяттинский государственный университет | Планарный высоковольтный фото- и бетавольтаический преобразователь и способ его изготовления |
CN105448376B (zh) * | 2015-11-16 | 2017-11-03 | 长安大学 | 采用α放射源的碳化硅肖特基结型同位素电池及其制造方法 |
RU168184U1 (ru) * | 2016-04-22 | 2017-01-23 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Сибирский государственный аэрокосмический университет имени академика М.Ф. Решетнева" (СибГАУ) | Планарный преобразователь ионизирующих излучений с накопительным конденсатором |
-
2017
- 2017-01-31 RU RU2017103167A patent/RU2659618C1/ru active
- 2017-09-11 EA EA201900377A patent/EA201900377A1/ru unknown
- 2017-09-11 WO PCT/RU2017/000663 patent/WO2018143838A1/en active Application Filing
- 2017-09-11 DE DE112017006974.2T patent/DE112017006974T5/de active Pending
- 2017-09-11 CN CN201780089174.1A patent/CN110494929A/zh active Pending
- 2017-09-11 KR KR1020197024967A patent/KR102595089B1/ko active IP Right Grant
- 2017-09-11 JP JP2019541228A patent/JP2020507073A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US20140264256A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Three dimensional radioisotope battery and methods of making the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
RU2659618C1 (ru) | 2018-07-03 |
CN110494929A (zh) | 2019-11-22 |
KR20190109495A (ko) | 2019-09-25 |
WO2018143838A1 (en) | 2018-08-09 |
EA201900377A1 (ru) | 2019-12-30 |
KR102595089B1 (ko) | 2023-10-26 |
DE112017006974T5 (de) | 2019-10-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200828 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210623 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A02 | Decision of refusal |
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