JP2020204540A - 金属の腐食検出装置及び腐食検出方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】金属表面の腐食進行のムラを抑制し、腐食環境を一定に保つことが可能な、表面プラズモン共鳴現象を用いる金属の腐食検出装置を提供する。【解決手段】表面プラズモン共鳴を利用して対象物を検出する、光透過基材上に金属薄膜が形成された表面プラズモン共鳴検出部と、金属薄膜に対して腐食環境を形成し得る腐食液が保存される腐食液保存容器と、金属薄膜面上に位置し、腐食液が供給される供給口、腐食液が排出する排出口、及び金属薄膜と接する面に金属薄膜を露出させる開口部を有する密閉容器と、腐食液保存容器内の腐食液を密閉容器の供給口に導く第1流路と、密閉容器の排出口から排出される腐食液を密閉容器外に導く第2流路と、腐食液保存容器内の腐食液を第1流路を介して密閉容器内に供給し、かつ、密閉容器内の腐食液を第2流路を介して系外に移送するポンプと、を備える金属の腐食検出装置である。【選択図】図1
Description
本発明は、表面プラズモン共鳴現象を利用する、金属の腐食検出装置及び腐食検出方法に関する。
表面プラズモン共鳴(Surface Plasmon Resonance;SPR)は、金属/周囲媒質界面での自由電子の集団的振動と光とが結合した状態である。この表面プラズモン共鳴を利用することにより周囲媒質の屈折率変化に対して非常に敏感な計測が可能となるため、高感度センサーとして利用されている。表面プラズモン共鳴を利用するセンサー(SPRセンサー)の一例として、以下の構成のものが知られている。すなわち、一の面に金属薄膜が形成された三角プリズムの当該金属薄膜に被検出物を接触させ、三角プリズムの金属薄膜が形成された面とは別の面から光を入射し、金属薄膜との界面で反射し、入射面とは別の面から出射する光の強度を検出器で検出する構成である。この構成において、プリズムに入射した光は、全反射を生じる臨界角以上の入射角で入射する条件下では、プリズムと金属薄膜との界面でエバネッセント波を生じる。他方、金属薄膜表面におて表面プラズモン波が発生する。この表面プラズモン波を発生(励起)するのは、エバネッセント波の波数と表面プラズモン波の波数とが一致するように光の入射角又は入射光の波長が調整されているときである。そして、入射光のエネルギーは表面プラズモン波を励起するのに用いられるため反射光の強度が減衰する。このときの反射光の強度と波長、及び入射角度との関係から、被検出物の膜厚・屈折率を検知することができ、その屈折率に基づき被検出物の定性・定量分析をすることができる。金属薄膜に入射する光の入射角であって、表面プラズモン共鳴が発生する角度、すなわち共鳴角θsprは、プリズムの屈折率、周囲媒質、及び金属薄膜自身の変化に依存することが知られている。この特性を利用すれば、表面プラズモン共鳴を利用して金属薄膜を計測することで、金属腐食に伴う金属誘電率の変化の計測が可能となる。
特許文献1〜3には、表面プラズモン共鳴を金属腐食の検出に利用した技術が開示されている。金属腐食においては、特定の腐食環境下での腐食挙動をin-situ計測することが、測定対象となる金属材料の耐食性を計測、及び考察する上で必要不可欠である。実際、金属腐食の加速試験として、塩水噴霧試験、塩水浸漬試験等が実施されている。一方、特許文献1〜3においては、表面プラズモン共鳴を利用したバイオ計測等において適用された検出領域上での反応ムラを抑制する機構、構造、及び測定方法等について考慮されていない。そのため、測定領域内で腐食進行にムラが生じ、信頼性が高い測定ができず、特定の腐食環境下での腐食挙動をin-situ計測することができない。
溶液中における表面プラズモン共鳴計測時の反応ムラを抑制するための技術としては、特許文献4〜6に記載のものが知られている。
しかしながら、特許文献4〜6においては、表面プラズモン共鳴が発生する金属薄膜の周囲媒質の環境変化が計測対象であり、金属薄膜自身の腐食を対象とするものではない。すなわち、特許文献1〜3に記載の表面プラズモン共鳴を用いた金属腐食の検出において、特許文献4〜6に記載の技術を適用しても、依然として、測定領域内で腐食進行にムラが生じる。ひいては、信頼性が高い測定ができず、特定の腐食環境下での腐食挙動をin-situ計測することができない。
本発明は、このような従来技術が有する課題に鑑みてなされたものである。そして本発明の目的は、表面プラズモン共鳴現象を用いる金属の腐食検出装置において、金属表面の腐食進行のムラを抑制し、腐食環境を一定に保つことが可能な金属の腐食検出装置、及び該腐食検出装置を用いる腐食検出方法を提供することにある。
本発明の第1の態様に係る金属の腐食検出装置は、表面プラズモン共鳴を利用して対象物を検出する、光透過基材上に金属薄膜が形成された表面プラズモン共鳴検出部と、金属薄膜に対して腐食環境を形成し得る腐食液が保存される腐食液保存容器と、金属薄膜面上に位置し、腐食液が供給される供給口、腐食液が排出する排出口、及び金属薄膜と接する面に金属薄膜を露出させる開口部を有する密閉容器と、腐食液保存容器内の腐食液を密閉容器の供給口に導く第1流路と、密閉容器の排出口から排出される腐食液を密閉容器外に導く第2流路と、腐食液保存容器内の腐食液を第1流路を介して密閉容器内に供給し、かつ、密閉容器内の腐食液を第2流路を介して系外に移送するポンプと、を備える。
本発明の第2の態様に係る金属の腐食検出装置は、第1の態様の金属の腐食検出装置に関し、密閉容器内において、腐食液の供給口と開口部との間に、供給口から供給される腐食液を拡散させる拡散板を備える。
本発明の第3の態様に係る金属の腐食検出装置は、第1又は第2の態様の金属の腐食検出装置に関し、密閉容器の供給口が開口部の真上に位置し、供給口を中心とする回転対称位置に2以上の排出口を備える。
本発明の第4の態様に係る金属の腐食検出装置は、第1乃至第3のいずれかの態様の金属の腐食検出装置に関し、密閉容器の供給口が、開口部よりも大きい。
本発明の第5の態様に係る金属の腐食検出方法は、第1乃至第4のいずれかの態様の金属の腐食検出装置を用いる金属の腐食検出方法であって、表面プラズモン共鳴を利用する金属の腐食検出に際し、ポンプを稼働させ、腐食液保存容器内の腐食液を、密閉容器内に一定の流量に保ちながら供給する。
本発明によれば、表面プラズモン共鳴現象を用いる金属の腐食検出装置において、金属表面の腐食進行のムラを抑制し、腐食環境を一定に保つことが可能な金属の腐食検出装置、及び該腐食検出装置を用いる腐食検出方法を提供することができる。
以下、図面を用いて本実施形態に係る金属の腐食検出装置について詳細に説明する。なお、図面の寸法比率は説明の都合上誇張されており、実際の比率と異なる場合がある。
<金属の腐食検出装置>
本実施形態の金属の腐食検出装置は、表面プラズモン共鳴を利用して対象物を検出する、光透過基材上に金属薄膜が形成された表面プラズモン共鳴検出部を備える。また、金属薄膜に対して腐食環境を形成し得る腐食液が保存される腐食液保存容器を備える。さらに、金属薄膜面上に位置し、腐食液が供給される供給口、腐食液が排出する排出口、及び金属薄膜と接する面に金属薄膜を露出させる開口部を有する密閉容器を備える。さらに、腐食液保存容器内の腐食液を密閉容器の供給口に導く第1流路を備える。密閉容器の排出口から排出される腐食液を密閉容器外に導く第2流路を備える。さらに、腐食液保存容器内の腐食液を第1流路を介して密閉容器内に供給し、かつ、密閉容器内の腐食液を第2流路を介して系外に移送するポンプを備える。
本実施形態の金属の腐食検出装置においては、表面プラズモン共鳴を利用して金属腐食の挙動を検出する。そして、表面プラズモン共鳴を用いて金属腐食の検出をする際に、金属薄膜表面に腐食液を、流量、濃度及び温度等を一定にして供給する。そのため、金属薄膜に対する腐食のムラが生じにくく、特定の腐食環境下での金属の腐食に対し、信頼性の高い検出をすることができる。
本実施形態の金属の腐食検出装置は、表面プラズモン共鳴を利用して対象物を検出する、光透過基材上に金属薄膜が形成された表面プラズモン共鳴検出部を備える。また、金属薄膜に対して腐食環境を形成し得る腐食液が保存される腐食液保存容器を備える。さらに、金属薄膜面上に位置し、腐食液が供給される供給口、腐食液が排出する排出口、及び金属薄膜と接する面に金属薄膜を露出させる開口部を有する密閉容器を備える。さらに、腐食液保存容器内の腐食液を密閉容器の供給口に導く第1流路を備える。密閉容器の排出口から排出される腐食液を密閉容器外に導く第2流路を備える。さらに、腐食液保存容器内の腐食液を第1流路を介して密閉容器内に供給し、かつ、密閉容器内の腐食液を第2流路を介して系外に移送するポンプを備える。
本実施形態の金属の腐食検出装置においては、表面プラズモン共鳴を利用して金属腐食の挙動を検出する。そして、表面プラズモン共鳴を用いて金属腐食の検出をする際に、金属薄膜表面に腐食液を、流量、濃度及び温度等を一定にして供給する。そのため、金属薄膜に対する腐食のムラが生じにくく、特定の腐食環境下での金属の腐食に対し、信頼性の高い検出をすることができる。
まず、表面プラズモン共鳴現象について説明する。表面プラズモン共鳴を発生させるための基本的な構成を図1に示す。図1(a)は、表面プラズモン共鳴発生装置10の要部を示す。表面プラズモン共鳴発生装置10の構成は、一般的にクレッチマン(Kretschmann)配置と呼ばれる。入射光を透過するプリズム(光透過基材)12上に厚さ数十nm程度(又は1〜500nm)の金属薄膜14が蒸着されている。プリズム12の屈折率は予め金属薄膜14の周囲媒質15よりも高屈折率を有する材料が選択され、一般的にはガラス(n=1.434〜1.845)が用いられるが、樹脂であってもよい。入射光は単一光源であり、例えば、レーザー光が挙げられる。実際の検出においては、プリズム12側から金属薄膜14に光を入射させ、その反射光強度を測定する。入射光の入射角を測定すると、図1(b)に示すように、ある特定の角度で反射光強度が弱まる。これは、入射光が表面プラズモンと結合したことに由来し、このときの状態を表面プラズモン共鳴と呼ぶ。なお、図1(a)のハッチングを付した領域は表面プラズモン波の金属薄膜の厚さ方向における電場分布を示す。一般に、表面プラズモン共鳴発生時の共鳴角θspr(図1(b)でディップ構造が発生する角度に相当)は、基板(プリズム)12の屈折率、周囲媒質15、及び金属薄膜14自身の変化に依存することが知られている。そして、図1(b)に示すように、それぞれの変化に伴い共鳴角θsprはシフトする。この特性を利用すれば、金属腐食に伴う金属誘電率の変化を、表面プラズモン共鳴を利用して計測することで金属腐食の検出が可能となる。
なお、プリズム(光透過基材)12上に蒸着される金属薄膜14の厚さが例えば500nmの場合、腐食進行に伴う膜厚減少によって表面プラズモン共鳴が発生し得る膜厚にまで腐食が進行した時に初めて信号検出が行われる。すなわち、この場合、腐食発生の有無を検知することができる。
なお、プリズム(光透過基材)12上に蒸着される金属薄膜14の厚さが例えば500nmの場合、腐食進行に伴う膜厚減少によって表面プラズモン共鳴が発生し得る膜厚にまで腐食が進行した時に初めて信号検出が行われる。すなわち、この場合、腐食発生の有無を検知することができる。
本実施形態の金属の腐食検出装置の一例を図2に示す。図2に示す金属の腐食検出装置において、表面プラズモン共鳴を発生させる構造として、表面に金属薄膜14が形成されたプリズム(光透過基材)12を備える。そして、プリズム12の下方から入射する光(図2において矢線で示す。)は、プリズム12と金属薄膜14との界面において反射するように構成される。すなわち、図2において、プリズム12と金属薄膜14とで、表面プラズモン共鳴を利用して対象物を検出する表面プラズモン共鳴検出部をなす。金属薄膜14上には、密閉容器16が、金属薄膜14の面に接するように配置している。密閉容器16は、金属薄膜14に対して腐食環境を形成し得る腐食液が供給される容器であり、後述するように、腐食液の供給口と、腐食液の排出口と、金属薄膜と接する面に金属薄膜を露出させる開口部とを有する。以下、開口部から露出した金属薄膜の領域は、表面プラズモン共鳴により検出される領域であるため、その領域を「検出領域」とも呼ぶ。
図2において、表面プラズモン共鳴検出部の近傍には、腐食液が保存される腐食液保存容器18を備える。腐食液保存容器18内には、密閉容器16に供給される腐食液が保存されている。腐食液としては、金属薄膜に対して腐食環境を形成し得る液体であり、例えば、NaCl溶液(0.03〜26.5(飽和濃度相当)質量%)、人工海水、海水(自然界の海水)、水道水、自然界の水(軟水・中軟水・硬水)、リン酸緩衝生理食塩水等が挙げられる。
また、腐食液保存容器18は、第1流路22を介して密閉容器16に接続されている。すなわち、第1流路22は、腐食液保存容器18内の腐食液を密閉容器16の供給口に導く。
また、腐食液保存容器18は、第1流路22を介して密閉容器16に接続されている。すなわち、第1流路22は、腐食液保存容器18内の腐食液を密閉容器16の供給口に導く。
腐食液としてのNaCl溶液は、具体的には、以下の態様のものとすることができる。
・0.1〜10質量%のNaCl溶液に、酢酸、塩酸、硝酸及び蓚酸のうちのいずれか1種以上の添加によりpH2〜5に調整された酸性溶液
・0.1〜10質量%のNaCl溶液に、0.01〜5質量%の鉄化合物(塩化第二鉄、硫酸第二鉄、硝酸第二鉄及び蓚酸第二鉄のうちいずれか1種以上)を添加したもの
・0.1〜10質量%のNaCl溶液に、0.01〜5質量%の銅化合物(塩化第二銅、硫酸第二銅、硝酸第二銅及び蓚酸第二銅のうちいずれか1種以上)を添加したもの
・0.1〜10質量%のNaCl溶液に、酢酸、塩酸、硝酸及び蓚酸のうちのいずれか1種以上の添加によりpH2〜5に調整された酸性溶液
・0.1〜10質量%のNaCl溶液に、0.01〜5質量%の鉄化合物(塩化第二鉄、硫酸第二鉄、硝酸第二鉄及び蓚酸第二鉄のうちいずれか1種以上)を添加したもの
・0.1〜10質量%のNaCl溶液に、0.01〜5質量%の銅化合物(塩化第二銅、硫酸第二銅、硝酸第二銅及び蓚酸第二銅のうちいずれか1種以上)を添加したもの
一方、密閉容器16には、供給口の他に、腐食液が排出される排出口が設けられており、排出口には第2流路24が接続されている。第2流路24は、密閉容器16の排出口から排出される腐食液を密閉容器16外に導く。また、第2流路24は流路内の腐食液を移送させる原動力となるポンプ26に接続されている。ポンプ26は、腐食液保存容器18内の腐食液を第1流路22を介して密閉容器16内に供給し、かつ、密閉容器16内の腐食液を第2流路24を介して系外に移送する役割を果たす。さらに、ポンプ26には第3流路28が接続されており、第3流路28のポンプ26とは反対側には、廃液保存容器20が接続されている。廃液保存容器20は、密閉容器16から排出された腐食液を廃液として保存する容器である。以上のような構成により、ポンプ26を稼働させると、腐食液保存容器18内の腐食液が吸引され第1流路22を介して密閉容器16の供給口から密閉容器16内部に移送される。さらに、密閉容器16内の腐食液は排出口から排出され、第2流路24、ポンプ26及び第3流路28を介して廃液保存容器20まで移送される。すなわち、腐食液保存容器18から移送される腐食液が一定の流量となるようにポンプ26を稼働させることで、密閉容器16内の金属薄膜14に供給される腐食液の流量、流速が一定となり、腐食環境が経時的に一定に保たれる。なお、ポンプ26による腐食液の流速は、例えば、10〜400μl/minとすることができる。
一方、腐食環境を一定に保つため、移送される腐食液の温度を一定に保つ必要がある。当該温度としては、腐食液が凍結も蒸発もし難い温度範囲内であることが好ましく、例えば、0〜40℃とすることが好ましく、室温程度とすることがより好ましい。なお、一定にする温度は±0.5℃以下のバラつきがあってもよい。
ポンプ26は、液循環用ポンプであり、チュービングポンプの他、ダイヤフラム式ポンプ、ギヤ式ポンプ、マグネット式ポンプが挙げられる。
第1流路22、第2流路24及び第3流路28は、ポンプ26による吸引により腐食液を移送することが可能であればその形態を問わない。例えば、チューブ、パイプ等の形態が挙げられる。
図2においては、ポンプ26の下流側に廃液保存容器20を配置し、密閉容器16から排出された腐食液を廃液保存容器20内に保存するようにしたが、密閉容器16から排出される腐食液は、廃液処理装置など別の装置に移送してもよい。
図3は、ポンプ26による腐食液の移送方向を、図2とは逆にした形態である。図3において、図2と同じ構成要素には同じ符号を付すことによってその説明を省略する。図2においては、ポンプ26による吸引力は、密閉容器16を介して腐食液保存容器18に伝わり腐食液が吸引され移送される。それに対して、図3においては、ポンプ26の吸引力は第1流路23を介して腐食液保存容器18にダイレクトに伝わり、その後腐食液はポンプ26及び第2流路25を介して密閉容器16に移送される。さらに、第3流路29を介して廃液保存容器20に移送される。図3の形態においても、ポンプ26を稼働させると、密閉容器16内の金属薄膜14に供給される腐食液の流量、流速が一定となり、腐食環境が経時的に一定に保たれる。
表面プラズモン共鳴を計測する際に、計測結果を決定する要因は、周囲媒質の屈折率、金属薄膜の屈折率、及び基板の屈折率の主に3要因である。図2及び図3の測定系においては、基板12は腐食液との接触がなく、その屈折率は一定とみなすことができる。このとき、金属薄膜14の腐食のみを評価するためには、周囲媒質の屈折率変化を一定、又は金属薄膜14の腐食に由来する検出信号の変化量に影響を与えない程度まで周囲媒質の屈折率変化を抑制する必要がある。本実施形態の金属の腐食検査装置においては、上記の通り、金属薄膜の表面において腐食液を循環させるため、周囲媒質の屈折率は一定となる。すなわち、基板12及び周囲媒質の屈折率が一定となるため、金属薄膜14の変化のみが計測されることとなる。ひいては、金属薄膜14の腐食が計測される。
ここで、密閉容器16についてさらに詳しく説明する。密閉容器16の構造は、供給口30から供給された腐食液を検出領域に対して一様に供給可能な流路を有する構造であればよい。図4は、密閉容器16の断面を示す断面図である。図4(a)に示すように、密閉容器16の上部には、第1流路22が接続され、腐食液が供給される供給口30と、第2流路24が接続され、腐食液が排出される排出口32とを備える。また、密閉容器16の下部には金属薄膜14を露出させる開口部を有する。すなわち、密閉容器16内において、金属薄膜14の一部が開口部から露出しており、当該開口部内の金属薄膜14が検出領域である。図4(a)において、検出領域(開口部)の真上に供給口30が位置している。具体的には、検出領域の中心を通る垂線と、供給口30の中心を通る垂線とが一致するように構成される。また、図4(a)において、供給口30の開口面積と、検出領域の面積とは同等としている。なお、供給口30の下端部と、検出領域との距離は、例えば、4〜5mm程度である。
図4(a)において、供給口30の右側に、腐食液が排出される排出口32が位置している。このような構成により、供給口30から供給される腐食液は、検出領域に対して一様に供給され、排出口32から一様に排出される。そのため、検出領域における腐食液のムラを抑えることができる。なお、本実施形態による効果を損なわない限り、排出口32の開口面積は、供給口30の開口面積よりも小さくしてもよい。
さらに、図4(a)においては、密閉容器内を、上部から検出領域に向けて先細るテーパー状としているため、供給口30からの腐食液の主要な流れは供給口30から検出領域に向かう。その観点からも、検出領域における腐食液のムラが抑えられる。
さらに、図4(a)においては、密閉容器内を、上部から検出領域に向けて先細るテーパー状としているため、供給口30からの腐食液の主要な流れは供給口30から検出領域に向かう。その観点からも、検出領域における腐食液のムラが抑えられる。
腐食液のムラをさらに抑えるには、供給口30と検出領域(金属薄膜14)との間に、腐食液を拡散させる拡散板を設けることが好ましい。図4(b)及び(c)は、そのような拡散板を設けた形態である。図4(b)においては、供給口30と検出領域(金属薄膜14)との中間部に拡散板34が位置している。また、図4(c)においては、供給口30の直下に拡散板34が位置している。いずれの形態においても、拡散板34の存在により、供給口30から供給された腐食液の流れが拡散され、検出領域における腐食液のムラが抑えられる。
拡散板の形態としては、薄板又はシート状であって、メッシュ構造又は細孔構造を保持可能な構造であればよい。拡散板の材質は、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)の他、他のポリエステル、PA(ナイロン)、PP(ポリプロピレン)、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)、PFA(パーフルオロアルコキシアルカン)、ETFE(エチレンテトラフルオロエチレン)、PEEK(ポリエーテルエーテルケトン)等、耐薬品性に富んだ材質であることが好ましい。また、金属、その他耐薬品性の低い材料であっても、表面を耐薬品コートしたものであれば使用することができる。
図5に密閉容器の変形例を4例示す。図5(a)は、腐食液が排出される排出口を2つとした形態であり、2つの排出口32A及び32Bが設けられている。図5(a)に示すように、供給口30を中心とする回転対称位置に2つの排出口32A及び32Bを設けることにより、検出領域上の腐食液の流れが水平方向において一様となる。そのため、腐食液のムラを抑えることができる。
一方、図5(b)〜(d)は、密閉容器16内を、図4に示すようなテーパー状ではなく、断面が矩形状の空間とした形態である。図5(b)は、図4(a)と同様に供給口30及び排出口32を設けている。従って、図5(b)に示す形態は、図4(a)の形態と同様の腐食液の流れが生じ、図4(a)の形態で説明した効果と同様の効果を奏する。また、図5(c)は、図5(a)と同様に供給口30及び排出口32を設けている。従って、図5(c)に示す形態は、図5(a)の形態と同様の腐食液の流れが生じ、図5(a)の形態で説明した効果と同様の効果を奏する。
一方、図5(d)は、密閉容器16の上部に排出口を設けずに供給口30を大きくしつつ、密閉容器16の下部に2つの排出口32A及び32Bを設けた形態である。具体的には、密閉容器16下部の開口部の周囲に2つの排出口32A及び32Bを設け、密閉容器16上部に大きな供給口30を設けている。図5(d)に示すように、供給口30の開口面積は、密閉容器16下部の開口部の開口面積(すなわち、検出領域の面積)よりも大きい。このような図5(d)に示す供給口30から供給される腐食液は、密閉容器16下部の検出領域に対して一様に供給されるため、腐食液のムラを抑えることができる。
以上、本実施形態の金属の腐食検出装置は、検出領域において流量、流速、及び濃度が一様の腐食液が経時的に流れるため、腐食液による金属の腐食進行が一様となり、腐食環境が一定に保たれる。ひいては、信頼性が高い金属の腐食検出を行うことができる。
<金属の腐食検出方法>
本実施形態の金属の腐食検出方法は、以上の金属の腐食検出装置を用いる金属の腐食検出方法である。そして、表面プラズモン共鳴を利用する金属の腐食検出に際し、ポンプを稼働させ、腐食液保存容器内の腐食液を、密閉容器内に一定の流量に保ちながら供給する。
本実施形態の金属の腐食検出方法は、以上の金属の腐食検出装置を用いる金属の腐食検出方法である。そして、表面プラズモン共鳴を利用する金属の腐食検出に際し、ポンプを稼働させ、腐食液保存容器内の腐食液を、密閉容器内に一定の流量に保ちながら供給する。
本実施形態の金属の腐食検出方法は、上述の本実施形態の金属の腐食検出装置を用いるため、密閉容器内に腐食液を一定の流量に保ちながら常時供給することにより、経時的な腐食液の蒸発、濃度勾配の発生などが抑制させる。そのため、上述の通り、腐食環境が一定に保たれ、腐食進行のムラが抑えられる。すなわち、金属に対して信頼性が高い腐食検出が可能となる。
本実施形態の金属の腐食検出方法において用いる金属の腐食検出装置は、本実施形態の金属の腐食検出装置においてした説明がそのまま当て嵌まる。また、金属の腐食検出装置の好ましい態様も同様である。従って、ここでは金属の腐食検出装置の説明を省略する。
以下、本実施形態を実施例及び比較例により更に詳細に説明するが、本実施形態はこれら実施例に限定されるものではない。
[実施例1]
図2に示す金属の腐食検出装置、及び腐食液として3質量%のNaCl水溶液を用い、ポンプにより腐食液の流量を35μl/minとしつつ、屈折率計(株式会社アタゴ(ATAGO CO.,LTD.)社製、 ポケット屈折率計PAL-RI)により腐食液の屈折率変化を測定した。図6に、屈折率変化の浸漬時間依存性のグラフを示す。
図2に示す金属の腐食検出装置、及び腐食液として3質量%のNaCl水溶液を用い、ポンプにより腐食液の流量を35μl/minとしつつ、屈折率計(株式会社アタゴ(ATAGO CO.,LTD.)社製、 ポケット屈折率計PAL-RI)により腐食液の屈折率変化を測定した。図6に、屈折率変化の浸漬時間依存性のグラフを示す。
[比較例1]
ポンプを稼働しなかったこと以外は実施例1と同様にして腐食液の屈折率変化の浸漬時間依存性を測定した。すなわち、本比較例においては、腐食液の流量は、0μl/minである。測定結果を図7のグラフに示す。
ポンプを稼働しなかったこと以外は実施例1と同様にして腐食液の屈折率変化の浸漬時間依存性を測定した。すなわち、本比較例においては、腐食液の流量は、0μl/minである。測定結果を図7のグラフに示す。
図6に示すように、実施例1では、屈折率変化が±0.0003以下に抑制され、屈折率変化が著しく抑制されていることが分かる。これに対して、図7に示すように、比較例1では、浸漬時間経過に伴い、屈折率が上昇傾向にある。これは、液の蒸発、又は溶液中での濃度勾配発生により、密閉容器下部に接した検出領域周囲のNaCl濃度が上昇していることを示唆している。
[実施例2]
実施例1と同じように設定した金属の腐食検出装置と、表面プラズモン共鳴測定装置(以下、「SPR測定装置」と呼ぶ。)(株式会社オプトクエスト(OPTOQUEST Co., Ltd.)製、小型SPR検査装置 SPR-01)を用い、3秒毎に表面プラズモン共鳴の計測を行った。計測結果を図8のグラフに示す。図8においては、液浸漬時間に対するSPR−dip位置の変化がプロットされている。なお、腐食液の屈折率の変動が表面プラズモン共鳴計測に与える影響のみを評価するため、3質量%NaCl溶液に対して化学的安定性が高く、腐食しない材料である金を表面プラズモン共鳴発生用の金属薄膜に使用して計測した。下記比較例2も同様である。
実施例1と同じように設定した金属の腐食検出装置と、表面プラズモン共鳴測定装置(以下、「SPR測定装置」と呼ぶ。)(株式会社オプトクエスト(OPTOQUEST Co., Ltd.)製、小型SPR検査装置 SPR-01)を用い、3秒毎に表面プラズモン共鳴の計測を行った。計測結果を図8のグラフに示す。図8においては、液浸漬時間に対するSPR−dip位置の変化がプロットされている。なお、腐食液の屈折率の変動が表面プラズモン共鳴計測に与える影響のみを評価するため、3質量%NaCl溶液に対して化学的安定性が高く、腐食しない材料である金を表面プラズモン共鳴発生用の金属薄膜に使用して計測した。下記比較例2も同様である。
[比較例2]
比較例1と同じように設定した金属の腐食検出装置と、実施例2で用いたSPR測定装置を用い、実施例2と同様にして表面プラズモン共鳴の計測を行った。計測結果を図9のグラフに示す。
比較例1と同じように設定した金属の腐食検出装置と、実施例2で用いたSPR測定装置を用い、実施例2と同様にして表面プラズモン共鳴の計測を行った。計測結果を図9のグラフに示す。
図8より、実施例2においては、SPR−dip位置の変動が抑制され、特に、400min程度までSPR−dip位置変動は±0.005度に抑制された。これは、実施例2においては、腐食液を一定の流量で供給することで、金属薄膜表面周囲の環境変化が抑制されたことを示している。
一方、比較例2においては、浸漬時間の経過に伴い、SPR−dip位置が高角度側にシフトしている。一般に、SPR計測では周囲媒質の屈折率上昇に伴いSPR−dip位置は高角度側にシフトすることが知られている。ここで、比較例1に示した屈折率変化の結果(図7)から、図9に示した結果は浸漬時間の経過に伴い、腐食液の蒸発、又は溶液中での濃度勾配が発生し、金属薄膜表面周囲のNaCl濃度が上昇し、屈折率が上がったことに起因すると推察される。
一方、比較例2においては、浸漬時間の経過に伴い、SPR−dip位置が高角度側にシフトしている。一般に、SPR計測では周囲媒質の屈折率上昇に伴いSPR−dip位置は高角度側にシフトすることが知られている。ここで、比較例1に示した屈折率変化の結果(図7)から、図9に示した結果は浸漬時間の経過に伴い、腐食液の蒸発、又は溶液中での濃度勾配が発生し、金属薄膜表面周囲のNaCl濃度が上昇し、屈折率が上がったことに起因すると推察される。
[実施例3]
図10(a)に示す密閉容器16を用いたこと以外は実施例2と同様にして表面プラズモン共鳴の計測を行った。図10(a)に示す密閉容器16の上部には、直径0.8mmの供給口30と、直径0.8mmの排出口32が設けられている。そして、供給口30及び排出口32は、密閉容器16の上面の中心に対して対称位置に設けられている。換言すると、供給口30は検出領域(金属薄膜14)の真上には位置していない。なお、金属薄膜としては、アルミニウムの膜を用いた。
図10(a)に示す密閉容器16を用いたこと以外は実施例2と同様にして表面プラズモン共鳴の計測を行った。図10(a)に示す密閉容器16の上部には、直径0.8mmの供給口30と、直径0.8mmの排出口32が設けられている。そして、供給口30及び排出口32は、密閉容器16の上面の中心に対して対称位置に設けられている。換言すると、供給口30は検出領域(金属薄膜14)の真上には位置していない。なお、金属薄膜としては、アルミニウムの膜を用いた。
表面プラズモン共鳴の計測において、反射光強度の入射角依存性の評価は、図11に示すようにCCDカメラ画像の明暗差に基づいて行った。図11において、光源から出射し光路40内を伝搬する光は、光透過基材12に入射し、金属薄膜14の検出領域17に到達して反射する。そして、検出領域17で反射した光はCCDカメラの撮像面42に入射して光の強度が計測される。ここで、図11において、光路40は、金属薄膜14への入射角を異ならせた光をまとめて描いている。図11に示す構成の測定系では、同時に3つのエリアにおける計測が可能であり、図11において、それぞれエリア1〜3として示している。また、CCDカメラの撮像面42においては、検出領域17内の3つのエリア1〜3において反射する光のみを描いており、撮像面42におけるエリア1〜3は、それぞれ、検出領域17のエリア1〜3で反射した光に対応する。すなわち、撮像面42の各エリアに入射した光強度に基づき、所定の入射角度範囲内の反射光強度のプロファイルを計測することができる。図11に示す構成の測定系により計測したCCDカメラ画像を図12に示す。図12の横方向が、金属薄膜14への光の入射角に対する撮像面42における光のプロファイル、すなわち図11の撮像面42における各エリアの長手方向に相当する。図12において、影のかかった領域の最も暗い地点が表面プラズモン共鳴発生角(図1におけるSPR−dip位置θsprに相当する)に相当する。以上のようにして3つのエリア毎に計測した結果を図14のグラフに示す。
[実施例4]
図10(b)に示す密閉容器16を用いたこと以外は実施例2と同様にして表面プラズモン共鳴の計測を行った。図10(b)に示す密閉容器16の上部には、直径3.0mmの供給口30と、直径1.6mmの排出口32が設けられている。そして、供給口30は検出領域(金属薄膜14)の真上に位置している。実施例3と同様にして表面プラズモン共鳴の計測をした結果を図12のグラフに示す。
図10(b)に示す密閉容器16を用いたこと以外は実施例2と同様にして表面プラズモン共鳴の計測を行った。図10(b)に示す密閉容器16の上部には、直径3.0mmの供給口30と、直径1.6mmの排出口32が設けられている。そして、供給口30は検出領域(金属薄膜14)の真上に位置している。実施例3と同様にして表面プラズモン共鳴の計測をした結果を図12のグラフに示す。
図14より、実施例3においては、エリア1〜3のそれぞれにおいて、浸漬時間の経過に伴いSPR−dip位置に差異が生じている。一方、図13より、実施例4においては、エリア1〜3において腐食進行に差異がなく同等の挙動を示した。実施例3及び4の比較から、実施例3においてエリア毎において差異が生じた原因は、検出領域内で腐食液の上流・下流となる領域が生じ、各エリアにおいて腐食液が一様ではなかったためと推察される。実施例4においては、腐食液に上流・下流が生じることなく、供給口30から供給された腐食液は一様に検出領域に到達し、ムラが生じなかったと推察される。
10 表面プラズモン共鳴発生装置
12 プリズム(光透過基材)
14 金属薄膜
15 周囲媒質
16 密閉容器
18 腐食液保存容器
20 廃液保存容器
22 23 第1流路
24 25 第2流路
26 ポンプ
28 29 第3流路
30 供給口
32 排出口
34 拡散板
12 プリズム(光透過基材)
14 金属薄膜
15 周囲媒質
16 密閉容器
18 腐食液保存容器
20 廃液保存容器
22 23 第1流路
24 25 第2流路
26 ポンプ
28 29 第3流路
30 供給口
32 排出口
34 拡散板
Claims (5)
- 表面プラズモン共鳴を利用して対象物を検出する、光透過基材上に金属薄膜が形成された表面プラズモン共鳴検出部と、
前記金属薄膜に対して腐食環境を形成し得る腐食液が保存される腐食液保存容器と、
前記金属薄膜面上に位置し、前記腐食液が供給される供給口、前記腐食液が排出する排出口、及び前記金属薄膜と接する面に前記金属薄膜を露出させる開口部を有する密閉容器と、
前記腐食液保存容器内の腐食液を前記密閉容器の供給口に導く第1流路と、
前記密閉容器の排出口から排出される腐食液を前記密閉容器外に導く第2流路と、
前記腐食液保存容器内の腐食液を前記第1流路を介して前記密閉容器内に供給し、かつ、前記密閉容器内の腐食液を第2流路を介して系外に移送するポンプと、
を備える、金属の腐食検出装置。 - 前記密閉容器内において、前記腐食液の供給口と前記開口部との間に、前記供給口から供給される前記腐食液を拡散させる拡散板を備える、請求項1に記載の金属の腐食検出装置。
- 前記密閉容器の前記供給口が前記開口部の真上に位置し、前記供給口を中心とする回転対称位置に2以上の排出口を備える、請求項1又は2に記載の金属の腐食検出装置。
- 前記密閉容器の前記供給口が、前記開口部よりも大きい、請求項1〜3のいずれか1項に記載の金属の腐食検出装置。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載の金属の腐食検出装置を用いる金属の腐食検出方法であって、
表面プラズモン共鳴を利用する金属の腐食検出に際し、前記ポンプを稼働させ、前記腐食液保存容器内の腐食液を、前記密閉容器内に一定の流量に保ちながら供給する、金属の腐食検出方法。
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