JP2020201308A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2020201308A5
JP2020201308A5 JP2019106111A JP2019106111A JP2020201308A5 JP 2020201308 A5 JP2020201308 A5 JP 2020201308A5 JP 2019106111 A JP2019106111 A JP 2019106111A JP 2019106111 A JP2019106111 A JP 2019106111A JP 2020201308 A5 JP2020201308 A5 JP 2020201308A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
torsion bar
mirror
swell
manufacturing
curved surface
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2019106111A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2020201308A (ja
JP7297538B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from JP2019106111A external-priority patent/JP7297538B2/ja
Priority to JP2019106111A priority Critical patent/JP7297538B2/ja
Priority to EP20818091.9A priority patent/EP3982186A4/en
Priority to CN202080040745.4A priority patent/CN113906325B/zh
Priority to PCT/JP2020/019976 priority patent/WO2020246245A1/ja
Priority to US17/616,605 priority patent/US12248138B2/en
Publication of JP2020201308A publication Critical patent/JP2020201308A/ja
Publication of JP2020201308A5 publication Critical patent/JP2020201308A5/ja
Publication of JP7297538B2 publication Critical patent/JP7297538B2/ja
Application granted granted Critical
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2019106111A 2019-06-06 2019-06-06 光偏向器及び製造方法 Active JP7297538B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019106111A JP7297538B2 (ja) 2019-06-06 2019-06-06 光偏向器及び製造方法
US17/616,605 US12248138B2 (en) 2019-06-06 2020-05-20 Light deflector and manufacturing method
CN202080040745.4A CN113906325B (zh) 2019-06-06 2020-05-20 光偏转器及其制造方法
PCT/JP2020/019976 WO2020246245A1 (ja) 2019-06-06 2020-05-20 光偏向器及び製造方法
EP20818091.9A EP3982186A4 (en) 2019-06-06 2020-05-20 LIGHT DEFLECTOR AND METHOD OF MANUFACTURING

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019106111A JP7297538B2 (ja) 2019-06-06 2019-06-06 光偏向器及び製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2020201308A JP2020201308A (ja) 2020-12-17
JP2020201308A5 true JP2020201308A5 (https=) 2022-05-30
JP7297538B2 JP7297538B2 (ja) 2023-06-26

Family

ID=73652846

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019106111A Active JP7297538B2 (ja) 2019-06-06 2019-06-06 光偏向器及び製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US12248138B2 (https=)
EP (1) EP3982186A4 (https=)
JP (1) JP7297538B2 (https=)
CN (1) CN113906325B (https=)
WO (1) WO2020246245A1 (https=)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7600030B2 (ja) * 2021-05-14 2024-12-16 スタンレー電気株式会社 光偏向器
JP2023008577A (ja) * 2021-07-06 2023-01-19 スタンレー電気株式会社 光偏向器
JP7751997B2 (ja) * 2021-07-13 2025-10-09 スタンレー電気株式会社 Mems光偏向器及び光走査装置

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6613591B1 (en) * 2002-03-07 2003-09-02 Memc Electronic Materials, Inc. Method of estimating post-polishing waviness characteristics of a semiconductor wafer
US6872319B2 (en) * 2002-09-30 2005-03-29 Rockwell Scientific Licensing, Llc Process for high yield fabrication of MEMS devices
US7677736B2 (en) * 2004-02-27 2010-03-16 Panasonic Corporation Illumination light source and two-dimensional image display using same
JP2006319387A (ja) 2005-05-10 2006-11-24 Seiko Epson Corp Memsレゾネータ
US7573625B2 (en) 2005-07-07 2009-08-11 Lexmark International, Inc. Multiharmonic galvanometric scanning device
JP2009031643A (ja) * 2007-07-30 2009-02-12 Canon Inc 揺動体装置、光偏向器およびそれを用いた画像形成装置
JP5172364B2 (ja) * 2008-01-16 2013-03-27 スタンレー電気株式会社 光偏向器
JP5444968B2 (ja) 2009-05-11 2014-03-19 ミツミ電機株式会社 アクチュエータ及びこれを用いた光走査装置
JP5397136B2 (ja) * 2009-09-30 2014-01-22 住友電気工業株式会社 Iii族窒化物半導体レーザ素子、及びiii族窒化物半導体レーザ素子を作製する方法
JP2012063413A (ja) 2010-09-14 2012-03-29 Ricoh Co Ltd 光走査装置およびこの光走査装置を組み込んだ画像形成装置ならびに投影装置
JP6092589B2 (ja) 2012-11-19 2017-03-08 スタンレー電気株式会社 光偏向器
JP6369742B2 (ja) * 2014-02-26 2018-08-08 北陽電機株式会社 微小機械装置
JP6809018B2 (ja) * 2016-07-26 2021-01-06 株式会社リコー 光偏向器、光走査装置、画像形成装置及び画像投影装置
JP6455547B2 (ja) 2017-05-24 2019-01-23 ミツミ電機株式会社 光走査装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7678028B2 (ja) 角度付き格子の形成
KR102085237B1 (ko) 극자외 투영 노광 장치를 위한 반사 광학 소자를 제조하는 방법 및 이러한 유형의 소자
JP2020201308A5 (https=)
JP5521655B2 (ja) 反射型スクリーン、投影システム、フロントプロジェクションテレビ及び反射型スクリーンの製造方法
JP2025028870A (ja) グレートーンリソグラフィと傾斜エッチングを使用した、深さ調節された傾斜格子
TWI391233B (zh) 大面積輥對輥壓印微影術
CN217034418U (zh) 光学系统及包含其的光固化打印系统
JP7649346B2 (ja) 格子結合器の片側パターン化を使用した光学接眼レンズ
CN104854487B (zh) 光栅
CN113167945A (zh) 用于目镜的叠加衍射光栅
WO2020168295A1 (en) Biased total thickness variations in waveguide display substrates
JP2008500736A5 (https=)
JP2021125680A (ja) 平坦化装置、平坦化方法及び物品の製造方法
JPWO2020153319A1 (ja) 拡散板
CN113906325B (zh) 光偏转器及其制造方法
US20160172207A1 (en) Pellicle membrane and method of manufacturing the same
JP2007041603A5 (ja) 超紫外線リソグラフィ用の反射デバイス、それを適用した超紫外線リソグラフィ用マスク、プロジェクション光学系及びリソグラフィ装置
JP6609917B2 (ja) 蛍光光源用発光素子の製造方法
TW202323020A (zh) 波導、顯示裝置、方法及設備
CN118409394A (zh) 用于促进波导内的全内反射的气穴结构
CN115291308A (zh) 超表面光学器件、制造超表面光学器件的方法
JP2021525384A5 (https=)
CN106707715B (zh) 一种半导体器件及其制作方法
US11448955B2 (en) Mask for lithography process and method for manufacturing the same
JP5039709B2 (ja) 光を均質化するための装置