JP2020181644A - プラズマ処理方法、金属膜の形成方法、有機膜の除去方法及びプラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
実施形態の有機膜の除去方法によれば、基材の表面に金属膜を形成し、金属膜の表面に有機物を含む有機膜を形成する。そして、前述のプラズマ処理方法によって、プラズマを発生させる。そして、発生したプラズマを用いて、有機膜において有機物を除去する。
まず、実施形態に係るプラズマ処理方法が行われるプラズマ処理装置の構成について、説明する。図1及び図2は、プラズマ処理装置の一例を示す。図1及び図2に示すように、プラズマ処理装置1は、チャンバ2、マイクロ波発生源3、導波管4、排気機構5,6、供給機構7、載置部8、壁部9及びコントローラ10を備える。
次に、前述のようにして発生したプラズマを用いて処理される被処理物について、説明する。被処理物15としては、特にこれらに限定されないが、平板及び円板等が挙げられる。図1の一例の空間23等のマイクロ波が照射される空間では、前述のように水蒸気にマイクロ波が照射されることにより、OHラジカル(ヒドロキシラジカル)及びHラジカル(水素ラジカル)が高密度に生成される。OHラジカルは、強い酸化力を有し、Hラジカルは還元力を有する。
前述のようにプラズマを用いて処理が行われている状態では、排気機構5,6による排気、及び/又は、供給機構7によるガスの供給をコントローラ10が制御(調整)することにより、図1の一例の空間23等のマイクロ波が照射される空間の圧力が、調整される。そして、空間の圧力が調整されることにより、空間の雰囲気における水蒸気の圧力が調整される。また、供給機構7によってヘリウムガス等の不活性ガスが供給される場合は、空間の雰囲気における不活性ガスの圧力も調整される。前述のように、実施形態のプラズマ処理装置には、マイクロ波が照射される空間の圧力を調整する圧力調整機構が設けられ、圧力調整機構は、コントローラ(例えば10)と、排気機構(例えば5,6)及び供給機構(例えば7)の少なくとも一方と、から構成される。
また、前述の実施形態等に関連する検証を行った。検証では、図1の一例の空間23と同様に空間において、排気と並行して、水蒸気を含むガスを供給した。また、検証では、前述のマイクロ波発生源3及び導波管4等と同様のマイクロ波発生源及び導波管を用いて、水蒸気が供給される空間に、導波管のスロットからマイクロ波を照射した。この際、マイクロ波の電力は、100Wとした。そして、前述の実施形態等と同様にして、水蒸気へのマイクロ波の照射によって、空間においてプラズマを発生させた。
Claims (8)
- マイクロ波を空間に照射することと、
前記空間に水蒸気を含むガスを供給し、前記空間への前記マイクロ波の照射によって、前記空間においてプラズマを発生させることと、
発生した前記プラズマを用いて被処理物を処理することと、
前記プラズマが発生している前記空間においてOHラジカル及びHラジカルが共存する状態に、前記空間の圧力を調整することと、
を具備するプラズマ処理方法。 - 前記空間の前記圧力を調整することは、前記空間の雰囲気において、前記水蒸気の圧力を0.2kPa以上2.4kPa以下に調整し、発光分析におけるOHラジカルに由来するピーク強度に対するHラジカルに由来するピーク強度の比率を0.5以上3.0以下に調整することを備える、請求項1のプラズマ処理方法。
- 前記空間に前記ガスを供給することは、前記空間に前記水蒸気のみを供給し、前記空間を前記水蒸気の雰囲気にすることを備え、
前記空間の前記圧力を調整することは、前記水蒸気の雰囲気において、前記水蒸気の前記圧力を0.2kPa以上0.65kPa以下に調整することを備える、
請求項2のプラズマ処理方法。 - 前記空間に前記ガスを供給することは、前記空間に前記水蒸気及び不活性ガスを供給し、前記空間を前記水蒸気と前記不活性ガスとの混合ガスの雰囲気にすることを備え、
前記空間の前記圧力を調整することは、前記混合ガスの前記雰囲気において、前記水蒸気の前記圧力を0.2kPa以上1.3kPa以下に調整することを備える、
請求項2のプラズマ処理方法。 - 前記空間への前記ガスの供給と並行して、前記マイクロ波が照射される前記空間を排気し、前記空間を減圧することをさらに具備する、請求項1乃至4のいずれか1項のプラズマ処理方法。
- 基材の表面に金属粒子及び有機物を含む膜を形成することと、
請求項1乃至5のいずれか1項のプラズマ処理方法によって前記プラズマを発生させることと、
発生した前記プラズマを用いて、前記膜において、前記有機物を除去するとともに、前記金属粒子を焼結することと、
を具備する、金属膜の形成方法。 - 基材の表面に金属膜を形成することと、
前記金属膜の表面に有機物を含む有機膜を形成することと、
請求項1乃至5のいずれか1項のプラズマ処理方法によって前記プラズマを発生させることと、
発生した前記プラズマを用いて、前記有機膜において、前記有機物を除去することと、
を具備する、有機膜の除去方法。 - 被処理物を載置可能な載置部と、
マイクロ波を前記載置部の側に照射可能に構成されるアンテナと、
前記アンテナから前記マイクロ波が照射される空間に水蒸気を含むガスを供給し、前記空間への前記マイクロ波の照射によって、前記空間においてプラズマを発生させる供給機構と、
前記プラズマが発生している前記空間においてOHラジカル及びHラジカルが共存する状態に、前記空間の圧力を調整する圧力調整機構と、
を具備する、プラズマ処理装置。
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