JP2020169926A - 粒子線分析装置 - Google Patents
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Abstract
Description
試料ステージ上の一又は複数の試料上の、複数の分析対象位置の座標情報を記憶しておく位置情報記憶部と、
前記試料ステージ上の一又は複数の試料において、前記位置情報記憶部に記憶されている複数の分析対象位置の中の少なくとも一つを探索し、その少なくとも一つの分析対象位置の最新の座標情報を取得する最新情報取得部と、
前記少なくとも一つの分析対象位置の最新の座標情報と該分析対象位置の前記位置情報記憶部に記憶されている座標情報とから位置ずれ情報を算出する位置ずれ情報算出部と、
前記位置情報記憶部に記憶されている、前記複数の分析対象位置の座標情報の全てを、前記位置ずれ情報を用いて修正して新たな座標情報を算出する座標情報算出部と、
前記位置情報記憶部に記憶されている、前記複数の分析対象位置の座標情報の全てを、前記新たな座標情報に書き換える、又は、該位置情報記憶部とは別の記憶部に新たに記憶させる記憶情報更新部と、
を備えるものである。
図1は、本実施形態のEPMAの要部の構成図である。
本実施形態のEPMAでは、試料ステージ4の上に設置された一又は複数の試料上の、複数の分析対象位置をユーザーが予め指定し、その分析対象位置の座標情報を登録しておくことができる。
上述した例示的な実施形態が以下の態様の具体例であることは、当業者には明らかである。
試料ステージ上に載置された一又は複数の試料上の、複数の分析対象位置の座標情報を記憶しておく位置情報記憶部と、
前記試料ステージ上に載置されている一又は複数の試料において、前記位置情報記憶部に記憶されている複数の分析対象位置の中の少なくとも一つを探索し、その少なくとも一つの分析対象位置の最新の座標情報を取得する最新情報取得部と、
前記少なくとも一つの分析対象位置の最新の座標情報と該分析対象位置の前記位置情報記憶部に記憶されている座標情報とから位置ずれ情報を算出する位置ずれ情報算出部と、
前記位置情報記憶部に記憶されている、前記複数の分析対象位置の座標情報の全てを、前記位置ずれ情報を用いて修正して新たな座標情報を算出する座標情報算出部と、
前記位置情報記憶部に記憶されている、前記複数の分析対象位置の座標情報の全てを、前記新たな座標情報に書き換える、又は、該位置情報記憶部とは別の記憶部に新たに記憶させる記憶情報更新部と、
を備えるものである。
前記最新情報取得部は、前記位置情報記憶部に複数の分析対象位置の座標情報が記憶された際の、前記少なくとも一つの分析対象位置を含む所定範囲の試料観察画像と、現時点の試料観察画像とを表示部の画面上に表示することにより、ユーザーによる、現時点での試料観察画像における前記少なくとも一つの分析対象位置の探索を補助するようにしたものである。
2…偏向コイル
3…対物レンズ
4…試料ステージ
5、5b…試料
5a…試料ホルダ
6…ステージ駆動機構
8…光学顕微観察部
9…X線検出器
10…電子検出器
20…制御/処理部
21…分析対象位置設定部
22…位置情報記憶部
23…画像記憶部
24…基準位置指定部
25…修正処理部
26…位置情報更新部
30…操作部
31…表示部
Claims (2)
- 試料ステージ上に載置された試料に粒子線を照射し、その照射によって該試料から放出された粒子又は電磁波を検出して該試料についての情報を得る粒子線分析装置であって、
試料ステージ上に載置された一又は複数の試料上の、複数の分析対象位置の座標情報を記憶しておく位置情報記憶部と、
前記試料ステージ上に載置されている一又は複数の試料において、前記位置情報記憶部に記憶されている複数の分析対象位置の中の少なくとも一つを探索し、その少なくとも一つの分析対象位置の最新の座標情報を取得する最新情報取得部と、
前記少なくとも一つの分析対象位置の最新の座標情報と該分析対象位置の前記位置情報記憶部に記憶されている座標情報とから位置ずれ情報を算出する位置ずれ情報算出部と、
前記位置情報記憶部に記憶されている、前記複数の分析対象位置の座標情報の全てを、前記位置ずれ情報を用いて修正して新たな座標情報を算出する座標情報算出部と、
前記位置情報記憶部に記憶されている、前記複数の分析対象位置の座標情報の全てを、前記新たな座標情報に書き換える、又は、該位置情報記憶部とは別の記憶部に新たに記憶させる記憶情報更新部と、
を備える粒子線分析装置。 - 前記最新情報取得部は、前記位置情報記憶部に複数の分析対象位置の座標情報が記憶された際の、前記少なくとも一つの分析対象位置を含む所定範囲の試料観察画像と、現時点の試料観察画像とを表示部の画面上に表示することにより、ユーザーによる、現時点での試料観察画像における前記少なくとも一つの分析対象位置の探索を補助するようにした、請求項1に記載の粒子線分析装置。
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JP2011038798A (ja) * | 2009-08-06 | 2011-02-24 | Fujitsu Semiconductor Ltd | 欠陥観察装置、欠陥観察方法、及び半導体装置の製造方法 |
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