JP2020168591A - フィルタ - Google Patents
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Abstract
【課題】塵埃等の乾性な汚れに対して、集塵性を維持しつつ、付着した塵埃を簡便に除去できるフィルタを提供する。【解決手段】 本発明に係るフィルタは、フィルタの繊維に少なくとも10nm以上100nm以下の粒径を有するナノ粒子を含有する被膜を有し、前記フィルタの前記繊維間の最も近接する距離の大きさが100μm以上1000μm以下である。これにより、フィルタの空気中の粉塵やホコリ、花粉等の浮遊性の物質を濾過するフィルタの機能を維持しつつ、防汚被覆膜がホコリ等の塵埃のフィルタへの付着を抑制することができる。そのため、フィルタの汚れを落とすためのメンテナンス作業を大幅に軽減することができる。すなわち、フィルタの機能により空気中の塵埃を濾過し、フィルタに回収した塵埃を、フィルタを数回揺らすことで簡単に汚れを落とすことができる。【選択図】図1
Description
本開示は、防汚被覆膜が形成されたフィルタに関し、集塵性を維持しつつ、付着した塵埃も容易に除去可能なフィルタに関する。
特許文献1は、自動掃除機能つき空気調和機を開示する。特許文献1に記載の自動掃除機能つき空気調和機では、自動掃除のための機構に加え、除去した塵埃を溜め込むダストボックスを備えることで、乾性のホコリに対しては一定の効果が得られる。
特許文献2は、無機微粒子を含有した被覆材を開示する。無機微粒子を含有した被覆材を基材に塗布することで、塗布表面へホコリ等の汚れが付着することを抑制する。
本開示は、フィルタとしての集塵性能を維持しつつ、特に乾性の塵埃に対して優れた除去性を有するフィルタを提供する。
本開示におけるフィルタは、フィルタの繊維に少なくとも10nm以上100nm以下の粒径を有するナノ粒子を含有する被膜を有し、前記フィルタの前記繊維間の最も近接する距離の大きさが100μm以上1000μm以下である。
本開示におけるフィルタには上記の通り防汚被覆膜が形成されている。これにより、フィルタの空気中の粉塵やホコリ、花粉等の浮遊性の物質を濾過するフィルタの機能を維持しつつ、フィルタへ付着したホコリ等の塵埃を容易に除去することができる。そのため、フィルタの汚れを落とすためのメンテナンス作業を大幅に軽減することができる。すなわち、フィルタの機能により空気中の塵埃を濾過し、フィルタに回収した塵埃を、フィルタを数回揺らすことで簡単に汚れを落とすことができる。
発明者らが本開示に想到するに至った当時、フィルタは空気中の粉塵やホコリ、花粉等の浮遊性の物質を濾過する目的で空気調和機や空気清浄機等の一般家電や病院や食品向けクリーンルームなど幅広く使用されていた。
これらのフィルタは集塵を目的としているため長期間使用することで当然、塵埃が溜まり目詰まりを起こしてしまう。目詰まりが起こると通風性の低下による機器の能力低下だけでなく、そこに溜まったカビや細菌等の微生物が繁殖することで衛生上の問題を発生させる可能性があるため定期的なメンテナンスが必要となる。
このメンテナンスの手間を軽減するため家庭用または業務用の空気調和機向けには自動掃除機能が付与されるなど機械的に自動メンテナンスを行うものや、あるいはメッシュ部に無機微粒子を固定化させることで摩擦帯電の発生を抑えて、ホコリの付着を抑制する被覆材など材料的なアプローチも行われていた。
これらのフィルタは集塵を目的としているため長期間使用することで当然、塵埃が溜まり目詰まりを起こしてしまう。目詰まりが起こると通風性の低下による機器の能力低下だけでなく、そこに溜まったカビや細菌等の微生物が繁殖することで衛生上の問題を発生させる可能性があるため定期的なメンテナンスが必要となる。
このメンテナンスの手間を軽減するため家庭用または業務用の空気調和機向けには自動掃除機能が付与されるなど機械的に自動メンテナンスを行うものや、あるいはメッシュ部に無機微粒子を固定化させることで摩擦帯電の発生を抑えて、ホコリの付着を抑制する被覆材など材料的なアプローチも行われていた。
そうした状況下において、発明者らは、フィルタそのものの塵埃付着抑制するとのアプローチで本開示の主題を構成するに至った。
そこで、本開示は、フィルタの繊維に少なくとも10nm以上100nm以下の粒径を有するナノ粒子を含有する被膜を有し、フィルタの前記繊維間の最も近接する距離の大きさが100μm以上1000μm以下であるフィルタとし、これにより、フィルタの集塵性能は十分に確保した状態で、集塵された塵埃を容易に除去することができ、清掃のために洗浄液や掃除機などの装置を用意する必要が軽減され、使用者の手間を軽減できるフィルタを提供する。
以下、図面を参照しながら、実施の形態を詳細に説明する。但し、必要以上に詳細な説明は省略する場合がある。例えば、既によく知られた事項の詳細説明、または、実質的に同一の構成に対する重複説明を省略する場合がある。これは、以下の説明が必要以上に冗長になるのを避け、当業者の理解を容易にするためである。
なお、添付図面および以下の説明は、当業者が本開示を十分に理解するために提供されるのであって、これらにより特許請求の範囲に記載の主題を限定することを意図していない。
(実施の形態1)
以下、図1〜図5ならびに表1を用いて、実施の形態1を説明する。
以下、図1〜図5ならびに表1を用いて、実施の形態1を説明する。
図1は、本実施例の被覆体1と塵埃2の模式図である。図1に示すように、メッシュ基材3の表面に防汚被覆膜4が形成され、被覆体1が形成されている。防汚被覆膜4はメッシュ基材3の反対側の表面に凸部5を有する。凸部5は、防汚被覆膜4はメッシュ基材3の反対側の表面に無数に形成され、凹凸表面を形成する。凸部5は、防汚被覆膜4の成分として含まれるナノ粒子の球状の表面により形成される。
上記のように構成された被覆体1に対して、図1に示すように塵埃2は付着する。なお、図1は模式的に被覆体を示したものであり、この形態に限定しない。例えば、図1には模式的にメッシュ基材に対して厚みがあるように記載しているが、これに限定しない。後述の実施例によれば、メッシュ基材3の厚みに対して防汚被覆膜4の厚みが非常に小さく、メッシュ基材の厚みと被覆体1の厚みとがほぼ同じでもよい。
図2は、メッシュ基材3を示す模式図である。図2に示すようにメッシュ基材3は、繊維6が格子状あるいは網目状などの形状に張り巡らされている。繊維6と繊維6との間には略正方形の開口が形成される。そして、略正方形の開口は目開きAの大きさで形成されている。なお、開口の形状はこの大きさに限定しない。
[メッシュ基材]
メッシュ基材3の材料は合成樹脂、天然樹脂及び金属のうちのいずれかである。なお、メッシュ基材3のうち合成樹脂、天然樹脂及び金属のうちいずれかでメッシュ基材3の表面が形成されていればよく、全体が合成樹脂、天然樹脂及び金属のうちいずれかで形成されていればよい。
[メッシュ基材]
メッシュ基材3の材料は合成樹脂、天然樹脂及び金属のうちのいずれかである。なお、メッシュ基材3のうち合成樹脂、天然樹脂及び金属のうちいずれかでメッシュ基材3の表面が形成されていればよく、全体が合成樹脂、天然樹脂及び金属のうちいずれかで形成されていればよい。
具体的には、ABS(アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン樹脂)、PP(ポリプロピレン)、PS(ポリスチレン)、PE(ポリエチレン)、PMMA(ポリメタクリル酸メチル樹脂)、PC(ポリカーボネート)、PET(ポリエチレンテレフタラート)、PBT(ポリブチレンテレフタラート)、ポリアミド、ポリ乳酸、POM(ポリアセタール)、PPO(ポリフェニレンオキサイド)、PPS(ポリフェニレンサルファイド)、PEEK(ポリエーテルエーテルケトン)、フェノール樹脂、メラミン樹脂、コポリエステル、不飽和ポリエステル樹脂等の樹脂、あるいはSUS(ステンレス鋼)、アルミ、銅、鉄、チタン、ニッケル、タングステン等の金属あるいは合金を用いてもよい。
また、メッシュの種類については特に限定されず平織や綾織、平畳織、綾畳織もしくはそれらを複合した構成でもよい。なお、メッシュ基材3の開口は四角形に限らず三角形やひし形などの多角形のほか、円形や楕円形、星型、扇形、不定形など特に限定されない。なお、開口の目開きは開口部のうちもっとも間隔の狭い部分とする。
[ナノ粒子]
一般的に空気中の塵埃の付着力は、静電引力、分子間力、液架橋力からなり、これらを小さくすることにより、付着力を低減し、塵埃の除去性を向上させることができる。
[ナノ粒子]
一般的に空気中の塵埃の付着力は、静電引力、分子間力、液架橋力からなり、これらを小さくすることにより、付着力を低減し、塵埃の除去性を向上させることができる。
付着力を低減させる手段として、一般的には静電引力を低減させる帯電防止付与で対応していることが多いが、細かい塵埃は分子間力や液架橋力で付着する。そのため、塵埃付着防止には、静電引力低減に加え、さらに分子間力低減、液架橋力低減が求められる。
本実施例の防汚被覆膜は、少なくとも100nm以下粒径を有するナノ粒子により構成されている。これにより、塵埃の接触面積が低減し、分子間力を大幅に低減することができる。仮にナノ粒子の粒径が100nmを超えると、防汚被覆膜は良好な防汚性能を発揮できなくなる。
防汚被覆膜を構成するナノ粒子は特に限定されないが、代表的には、金属ナノ粒子、無機酸化物ナノ粒子、無機窒化物ナノ粒子、ポリマーナノ粒子等を挙げることができる。
金属ナノ粒子の具体例は、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、鉄(Fe)、白金(Pt)、鉄白金(FePt)、ジルコニウム(Zr)、ニッケル(Ni)、スズ(Sn)等やこれらを含む合金である。無機酸化物ナノ粒子の具体例は、シリカ(酸化ケイ素、SiO2)、酸化イットリウム(Y2O3)、チタン酸バリウム(BaTiO3)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、酸化チタン(TiO2)、酸化インジウム(In2O3)、スズドープ酸化インジウム(ITO)等である。無機窒化物ナノ粒子の具体例は、窒化ガリウム(GaN)等である。ポリマー粒の具遺体例は、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)やポリテトラフルオロエチレン(PTFE)等である。
これらのナノ粒子は1種類あるいは複数種類が組み合わせられて防汚被覆膜を構成することもできる。また、防汚被覆膜はナノ粒子に加え、防汚被覆膜による防汚性能を極端に妨げない限りでナノ粒子以外の成分を含んでもよい。例えば、防汚被覆膜は、ナノ粒子に加えてバインダ成分および添加剤(帯電防止剤、抗菌剤、繊維材等)を含んでもよい。
ナノ粒子の粒径は、100nm以下であればよく、防汚被覆膜の表面においてナノレベルの凹凸構造が実現しやすくなる。また、防汚被覆膜の具体的な構成にもよるが、ナノ粒子の粒径が1〜100nmの範囲内であれば、ナノレベルの凹凸構造をより好適な範囲内に調整しやすくすることができる。
なお、ナノ粒子の粒径の測定方法は特に限定されない。すなわち、拡散法、慣性法、沈降法、顕微鏡法、光散乱回折法などの公知の方法をメッシュ基材3の材質に合わせて、好適に用いることができる。また、塗膜化後に粒子の粒径測定が困難な場合は、電子顕微鏡等を用いて表面観察を行い、表面に存在している粒子のおおよその粒径を測定してもよい。
[バインダ成分]
防汚被覆膜4は、上記の通り、ナノ粒子から構成されていればよい。さらに接着成分としてバインダ成分を含有してもよい。バインダ成分を含有することでナノ粒子同士あるいはナノ粒子と基材間の密着を向上することができ、強度、耐久性に優れた塗膜を得ることができる。
[バインダ成分]
防汚被覆膜4は、上記の通り、ナノ粒子から構成されていればよい。さらに接着成分としてバインダ成分を含有してもよい。バインダ成分を含有することでナノ粒子同士あるいはナノ粒子と基材間の密着を向上することができ、強度、耐久性に優れた塗膜を得ることができる。
具体的なバインダ成分の組成については特に限定されない。例えば、テトラメトキシシランやテトラエトキシシラン等のシラン化合物、メチルシリケートやエチルシリケート等の無機化合物やウレタン、アクリル、エポキシ、シロキサン、フェノール、メラミン、PVA(ポリビニルアルコール)、EVA(エチレン酢酸ビニルコポリマー)、EVOH(エチレン・ビニルアルコール共重合樹脂)等の有機化合物であってもよい。好ましくは、バインダ成分がウレタン系、アクリル系、エポキシ系の少なくとも1種を含有する方がよい。これらの樹脂は汎用性が高く、容易に入手可能なためコストを抑えることができる上、柔軟性と高い強度を持つことから、さらに耐摩耗に優れた塗膜を得ることができる。
また、これらのバインダ成分はOH基等の反応基を有し、硬化剤としてイソシアネート、エポキシ、メラミン等と反応させてもよい。
例えば、硬化剤として使用するイソシアネートはHDI(ヘキサメチレンジイソシアネート)、TDI(トルエンジイソシアネート)、MDI(ジフェニルメタンジイソシアネート)、XDI(キシリレンジイソシアネート)、IPDI(イソホロンジイソシアネート)、あるいはそれらの変性体、あるいはブロックイソシアネート等、特に指定するものではなく、用途に応じて使用することができる。
防汚被覆膜において、全重量を100重量%としたときに、バインダ成分は0.1〜50重量%の範囲内で含有されている構成がよい。これにより、被覆膜表面において、ナノ粒子に由来する微細な凹凸の実現とバインダ成分による高強度とを両立することができる。
諸条件にもよるが、バインダ成分が0.1重量%未満であると、バインダ成分による密着性向上に伴う、強度と耐久性に優れた被覆膜が十分に得られない可能性がある。また、50重量%を超えると、ナノ粒子に対してバインダ成分が過剰になってしまうため、被覆膜表面に微細な凹凸が得られない可能性がある。なお、バインダ成分は30重量%以下の範囲内で含有されていることがより好ましい。
なお、重量比ではなく、体積比で構成してもよい。体積比に基づけば、メッシュ基材3に防汚被覆膜4が形成された際に、ナノ粒子による凹凸の程度が予想しやすい。一般的な球の充填率は最密の場合で74%、緩い場合でも55%と言われている。本発明の防汚被覆膜は最表面に粒子が凹凸を形成していれば良く、内部はバインダで満たされていてもよい。そのためバインダの含有率は45vol%以下であればよく、より好ましくは26〜45vol%がよい。
[防汚被覆膜]
本実施例の防汚被覆膜は、上述したように少なくともナノ粒子およびバインダ成分により構成される。例えば、防汚被覆膜4の膜厚は特に限定されないが、一般的に10nm〜1μmで構成されるとよい。特に10nm〜500nmの範囲であると好ましい。
[防汚被覆膜]
本実施例の防汚被覆膜は、上述したように少なくともナノ粒子およびバインダ成分により構成される。例えば、防汚被覆膜4の膜厚は特に限定されないが、一般的に10nm〜1μmで構成されるとよい。特に10nm〜500nmの範囲であると好ましい。
防汚被覆膜の膜厚が1μm未満であれば、相対的に膜厚が小さくなるため防汚被覆膜4の帯電性を良好に軽減できる。防汚被覆膜4の帯電性を軽減できるため、乾性の汚れの付着を良好に抑制することができる。加えて、防汚被覆膜4の透明性を向上することができる。
また、膜厚が10〜500nmの範囲内であれば、透明性の向上および帯電性のさらなる軽減を実現でき、乾性の汚れの付着をより一層良好に抑制または防止することができる。なお、10nmより小さくなると膜として維持しにくくなる。
防汚被覆膜の膜厚が500nm以下であると、ナノ粒子、あるいは導電性粒子を含有している場合でも被膜表面にナノ粒子、あるいは導電性粒子が表面に露出し、表面の凹凸形成もしくは静電引力低減が良好にでき、塵埃付着性能防止性能が良好となる。
膜厚の測定方法は特に限定されないが、例えば、電子顕微鏡等により被覆断面を観察し、複数点測定した膜厚の平均値を算出することにより測定できる。
防汚被覆膜の具体的な形成方法(製造方法)は特に限定されず、ナノ粒子による微細な凹凸を形成することが可能であれば、公知のさまざまな方法を用いることができる。代表的な形成方法としては、ナノ粒子を含む塗工液(コーティング剤)を調製してこれを塗工する公知の塗工方法、例えばスプレーコート、スピンコート、ディップコート、ロールコート、バーコート、グラビアコート、ハケ塗り、スポンジ塗り等を挙げることができる。
防汚被覆膜が防汚性以外の機能、例えば耐擦傷性、高硬度付与、耐候性、自己修復性、光学機能付与、加飾性、触感付与、等を有していてもよい。
[集塵性能及び除去性能評価]
本実施例のフィルタは集塵性能を低下させずに付着した塵埃の除去性能を向上させることができる。集塵性と除去性の評価は一定風速下にて、一定時間塵埃を通過させた後のフィルタの重量増加から集塵量を集塵後のフィルタから塵埃を振るい落とした後のフィルタ重量から除去量を算出した。
[集塵性能及び除去性能評価]
本実施例のフィルタは集塵性能を低下させずに付着した塵埃の除去性能を向上させることができる。集塵性と除去性の評価は一定風速下にて、一定時間塵埃を通過させた後のフィルタの重量増加から集塵量を集塵後のフィルタから塵埃を振るい落とした後のフィルタ重量から除去量を算出した。
ここでそれぞれの評価に用いられる塵埃は特に限定されないが、有機系および無機系の塵埃およびその混合物が好適に使用される。
具体的にはJIS Z 8901に規定に沿った、けい砂、タルク、フライアッシュ、関東ローム、カーボンブラック、炭酸カルシウム等やその混合物を用いることができる。
また、風速についても特に限定するものではなくフィルタが適用される環境に応じて好適に設定してよい。
[模擬塵埃を用いたフィルタ評価]
模擬塵埃として公益社団法人日本空気清浄協会(JACA)により試験用粉体として販売されているコットンリンタを用いた。閉空間にて送風機を用いて風速が3.5m/sとなるように調整し、風向に垂直になるようにフィルタを設置した。その後、模擬塵埃を5gはかりとり、フィルタの風上から流し、30秒後にフィルタの重量を測定した。その重量変化から集塵量を算出した。また、集塵後のフィルタについては模擬塵埃を振るい落としたあとの重量も測定し、その重量変化から除去量も算出した。
[模擬塵埃を用いたフィルタ評価]
模擬塵埃として公益社団法人日本空気清浄協会(JACA)により試験用粉体として販売されているコットンリンタを用いた。閉空間にて送風機を用いて風速が3.5m/sとなるように調整し、風向に垂直になるようにフィルタを設置した。その後、模擬塵埃を5gはかりとり、フィルタの風上から流し、30秒後にフィルタの重量を測定した。その重量変化から集塵量を算出した。また、集塵後のフィルタについては模擬塵埃を振るい落としたあとの重量も測定し、その重量変化から除去量も算出した。
ここでの振るい落としは、フィルタを垂直に立てた状態で2cmの高さまで持ち上げ、2回自重による落下を繰り返して行った。なお、振るい落としの方法をこの方法に限定しない。
(評価1)
平均粒径が10nm以上15nm以下のシリカ粒子のMEK(メチルエチルケトン)分散液(日産化学株式会社製、オルガノシリカゾル)を粒子分散液とした。次に有機溶剤を用いて全体の固形分量が5%になるように調整し、コーティング液を作製した。
(評価1)
平均粒径が10nm以上15nm以下のシリカ粒子のMEK(メチルエチルケトン)分散液(日産化学株式会社製、オルガノシリカゾル)を粒子分散液とした。次に有機溶剤を用いて全体の固形分量が5%になるように調整し、コーティング液を作製した。
基材として目開きAが100μmのPPメッシュを用いて、スプレーにてコーティング液を塗布し、65℃で15分間乾燥し、被覆体1を得た。
このフィルタについて性能評価を行ったところ、集塵量が69.8mg、除去量が68.9mgとなった。比較例1と比較すると集塵量は同等であるのに対し、除去量が大幅に増加し、除去性能が向上しているといえる。
(評価2)
平均粒径が10nm以上15nm以下のシリカ粒子のMEK分散液と平均粒径15nmのATO粒子のMMB(メトキシメチルブタノール)分散液(三菱マテリアル株式会社製、ATO分散液)を混合し、粒子分散液とした。また、OH基を有するフッ素ワニスの酢酸ブチル分散液とHDI系ポリイソシアネートの酢酸ブチル分散液を混合し、バインダ成分分散液とした。次に粒子とバインダ成分の固形分重量比が80:20となるよう、また、有機溶剤を用いて全体として固形分量が5%になるように混合し、コーティング液を作製した。
(評価2)
平均粒径が10nm以上15nm以下のシリカ粒子のMEK分散液と平均粒径15nmのATO粒子のMMB(メトキシメチルブタノール)分散液(三菱マテリアル株式会社製、ATO分散液)を混合し、粒子分散液とした。また、OH基を有するフッ素ワニスの酢酸ブチル分散液とHDI系ポリイソシアネートの酢酸ブチル分散液を混合し、バインダ成分分散液とした。次に粒子とバインダ成分の固形分重量比が80:20となるよう、また、有機溶剤を用いて全体として固形分量が5%になるように混合し、コーティング液を作製した。
基材として目開きAが250μmのPPメッシュを用いて、スプレーにてコーティング液を塗布し、65℃で15分間乾燥し、被覆体1を得た。
このフィルタ成分について性能評価を行ったところ、集塵量が23.8mg、除去量が23.3mgとなった。比較例2と比較すると集塵量は同等であるのに対し、除去量が大幅に増加し、除去性能が向上しているといえる。
(評価3)
平均粒径が10nm以上15nm以下のシリカ粒子のMEK(メチルエチルケトン)分散液を粒子分散液とした。次に有機溶剤を用いて全体の固形分量が5%になるように調整し、コーティング液を作製した。
(評価3)
平均粒径が10nm以上15nm以下のシリカ粒子のMEK(メチルエチルケトン)分散液を粒子分散液とした。次に有機溶剤を用いて全体の固形分量が5%になるように調整し、コーティング液を作製した。
基材として目開きAが500μmのPPメッシュを用いて、スプレーにてコーティング液を塗布し、65℃で15分間乾燥し、被覆体1を得た。
このフィルタ成分について性能評価を行ったところ、集塵量が2.1mg、除去量が1.5mgとなった。比較例3と比較すると集塵量は同等であるのに対し、除去量が大幅に増加し、除去性能が向上しているといえる。
(評価4)
平均粒径が70nm以上100nm以下のシリカ粒子のMEK(メチルエチルケトン)分散液を粒子分散液とした。次に有機溶剤を用いて全体の固形分量が5%になるように調整し、コーティング液を作製した。
(評価4)
平均粒径が70nm以上100nm以下のシリカ粒子のMEK(メチルエチルケトン)分散液を粒子分散液とした。次に有機溶剤を用いて全体の固形分量が5%になるように調整し、コーティング液を作製した。
基材として目開きAが500μmのPPメッシュを用いて、スプレーにてコーティング液を塗布し、65℃で15分間乾燥し、被覆体1を得た。
このフィルタ成分について性能評価を行ったところ、集塵量が1.9mg、除去量が1.3mgとなった。比較例3と比較すると集塵量は同等であるのに対し、除去量が大幅に増加し、除去性能が向上しているといえる。
また、この被覆膜について走査型電子顕微鏡を用いて表面観察を行った結果を図3、図4に示す。図3が5万倍、図4が10万倍の写真である。図3、図4より、表面に100nm以下の凹凸があることを確認した。
(評価5)
平均粒径が70nm以上100nm以下のシリカ粒子のMEK分散液を粒子分散液とした。また、アクリルを酢酸ブチルに分散し、バインダ成分分散液とした。次に粒子とバインダ成分の固形分重量比が70:30となるよう、また、有機溶剤を用いて全体として固形分量が5%になるように混合し、コーティング液を作製した。
(評価5)
平均粒径が70nm以上100nm以下のシリカ粒子のMEK分散液を粒子分散液とした。また、アクリルを酢酸ブチルに分散し、バインダ成分分散液とした。次に粒子とバインダ成分の固形分重量比が70:30となるよう、また、有機溶剤を用いて全体として固形分量が5%になるように混合し、コーティング液を作製した。
基材として目開きAが1000μmのPPメッシュを用いて、スプレーにてコーティング液を塗布し、65℃で15分間乾燥し、被覆体1を得た。
このフィルタについて性能評価を行ったところ、集塵量が1.6mg、除去量が0.9mgとなった。比較例4と比較すると集塵量は同等であるのに対し、除去量が増加し、除去性能が向上しているといえる。ただし、他の例と比較して除去性の差が小さいのはバインダ成分比率が増加して表面の凹凸が出にくくなったためだと考えられる。
(評価6)
平均粒径が70nm以上100nm以下のシリカ粒子のMEK分散液を粒子分散液とした。また、アクリルを酢酸ブチルに分散し、バインダ成分分散液とした。次に粒子とバインダ成分の固形分重量比が90:10となるよう、また、有機溶剤を用いて全体として固形分量が5%になるように混合し、コーティング液を作製した。
(評価6)
平均粒径が70nm以上100nm以下のシリカ粒子のMEK分散液を粒子分散液とした。また、アクリルを酢酸ブチルに分散し、バインダ成分分散液とした。次に粒子とバインダ成分の固形分重量比が90:10となるよう、また、有機溶剤を用いて全体として固形分量が5%になるように混合し、コーティング液を作製した。
基材として目開きAが1000μmのPPメッシュを用いて、スプレーにてコーティング液を塗布し、65℃で15分間乾燥し、被覆体1を得た。
このフィルタについて性能評価を行ったところ、集塵量が1.7mg、除去量が1.5mgとなった。比較例4と比較すると集塵量は同等であるのに対し、除去量が大幅に増加し、除去性能が向上しているといえる。
(評価7)
平均粒径が10nm以上15nm以下のATO粒子のMMB分散液を粒子分散液とした。次に有機溶剤を用いて全体の固形分量が5%になるように調整し、コーティング液を作製した。
(評価7)
平均粒径が10nm以上15nm以下のATO粒子のMMB分散液を粒子分散液とした。次に有機溶剤を用いて全体の固形分量が5%になるように調整し、コーティング液を作製した。
基材として目開きAが1200μmのPPメッシュを用いて、スプレーにてコーティング液を塗布し、65℃で15分間乾燥し、被覆体1を得た。
このフィルタについて性能評価を行ったところ、集塵量が0.2mg、除去量が0.1mgとなった。比較例5と比較すると集塵量が大幅に低下しておりフィルタとしての性能はほとんどないといえる。
(比較例1)
防汚被覆膜なしの目開きAが100μmのPPメッシュを用いて性能評価を行ったところ、集塵量が64.6mg、除去量が28.3mgとなった。
(比較例2)
防汚被覆膜なしの目開きAが250μmのPPメッシュを用いて性能評価を行ったところ、集塵量が22.8mg、除去量が7.8mgとなった。
(比較例3)
防汚被覆膜なしの目開きAが500μmのPPメッシュを用いて性能評価を行ったところ、集塵量が2.0mg、除去量が0.1mgとなった。
(比較例4)
防汚被覆膜なしの目開きAが1000μmのPPメッシュを用いて性能評価を行ったところ、集塵量が1.5mg、除去量が0.4mgとなった。
(比較例5)
防汚被覆膜なしの目開きAが1200μmのPPメッシュを用いて性能評価を行ったところ、集塵量が0.8mg、除去量が0.2mgとなった。
(比較例1)
防汚被覆膜なしの目開きAが100μmのPPメッシュを用いて性能評価を行ったところ、集塵量が64.6mg、除去量が28.3mgとなった。
(比較例2)
防汚被覆膜なしの目開きAが250μmのPPメッシュを用いて性能評価を行ったところ、集塵量が22.8mg、除去量が7.8mgとなった。
(比較例3)
防汚被覆膜なしの目開きAが500μmのPPメッシュを用いて性能評価を行ったところ、集塵量が2.0mg、除去量が0.1mgとなった。
(比較例4)
防汚被覆膜なしの目開きAが1000μmのPPメッシュを用いて性能評価を行ったところ、集塵量が1.5mg、除去量が0.4mgとなった。
(比較例5)
防汚被覆膜なしの目開きAが1200μmのPPメッシュを用いて性能評価を行ったところ、集塵量が0.8mg、除去量が0.2mgとなった。
集塵量について、評価1と比較例1とを比較する。評価1及び比較例1は、繊維6の目開きAの大きさが100μmである点が共通している。評価1の集塵量は69.8mgであり、比較例1の集塵量は64.6mgである。集塵量の差は、5.2mgであり、集塵性能は、防汚被覆膜4が繊維6の表面に形成されることで向上している。目開きAが100μmの場合、防汚被覆膜4が繊維6の表面に形成されても、十分な集塵量を保証できる。
評価2と比較例2とを比較する。評価2及び比較例2は、繊維6の目開きAの大きさが250μmである点が共通している。評価2の集塵量は23.8mgであり、比較例2の集塵量は22.8mgである。したがって、集塵量の差は1.0mgであり、集塵性能は、防汚被覆膜4が繊維6の表面に形成されることで向上している。目開きAが250μmの場合、防汚被覆膜4が繊維6の表面に形成されても、十分な集塵量を保証できる。
評価3及び評価4並びに比較例3を比較する。評価3及び評価4並びに比較例3は、繊維6の目開きAの大きさが500μmである点が共通している。評価3の集塵量は2.1mgであり、評価4の集塵量は1.9mgであり、比較例3の集塵量は2.0mgである。したがって、評価3と比較例3との集塵量の差は、0.1mgであり、評価4と比較例3との集塵量の差は、−0.1mgである。これより、防汚被覆膜4が繊維6の表面に形成されることによる集塵性能の低下が抑制されることが分かる。また、シリカ粒子の粒径が10nm以上、100nm以下であれば、防汚被覆膜4が繊維6の表面に形成されることによる集塵性能の低下が抑制されることが分かる。以上より、目開きAが500μmの場合、防汚被覆膜4が繊維6の表面に形成されても、十分な集塵量を保証できる。
評価5及び評価6並びに比較例4を比較する。評価5及び評価6並びに比較例4は、繊維6の目開きAの大きさが1000μmである点が共通している。評価5の集塵量は1.6mgであり、評価6の集塵量は1.7mgであり、比較例4の集塵量は1.5mgである。したがって、評価5と比較例4との集塵量の差は、0.1mgであり、評価6と比較例4との集塵量の差は、0.2mgである。これより、防汚被覆膜4が繊維6の表面に形成されることによる集塵性能の低下が抑制されることが分かる。以上より、目開きAが1000μmの場合、防汚被覆膜4が繊維6の表面に形成されても、十分な集塵量を保証できる。
評価7と比較例5とを比較する。評価7の集塵量は0.2mgであり、比較例5の集塵量は0.8mgである。したがって、評価7と比較例5との集塵量の差は−0.6mgである。これより防汚被覆膜4が繊維6の表面に形成されることによる集塵性能の低下が顕著であり、防汚被覆膜4がない場合の集塵性能を確保することができない。以上より、目開きAが1000μmを越えると、防汚被覆膜4が繊維6の表面に形成されたことによる除去の容易性よりも、集塵性能の低下の要素が強くなる。そのため、目開きAが1000μm以下の繊維6の表面に防汚被覆膜4を形成することが好ましい。
また、除去量を集塵量で除した除去率は、防汚被覆膜4がない比較例1〜4では大きくても比較例1の40%程度である。一方、防汚被覆膜4が繊維6の表面に形成された評価1〜7では、除去量が50%を上回る。
図5Aは、目開きに対して集塵性能を示すグラフである。集塵性能は、評価の集塵量を比較例の集塵量で除して百分率で示している。したがって、集塵性能が100%に近ければ、防汚被覆膜を塗布したことによる集塵性の低下が少ないことを表している。なお、図5Aには、目開きAが100μmの評価1と比較例1とから求め、目開きAが250μmの評価2と比較例2とから求め、目開きAが500μmの評価3と比較例3とから求め、目開きAが1000μmの評価6と比較例4とから求め、目開きAが100μmの評価7と比較例5とから求めた。
図5Bは、目開きに対して除去性能を示すグラフである。除去性能は、除去量を集塵量で除して百分率で示している。したがって、除去性能が100%に近ければ、フィルタに付着した塵埃のほとんどが除去されていることを示している。なお、図5Aには、目開きAの大きさが100μmの評価1と比較例1、目開きAの大きさが250μmの評価2と比較例2、目開きAの大きさが500μmの評価3と比較例3、目開きAの大きさが1000μmの評価6と比較例4、目開きAの大きさが1200μmとして評価7と比較例5の除去性能を並べて示している。
図5Aに示すように、繊維6の目開きAが1000μm以下であれば、集塵性能は100%程度である。そのため、本発明に係る防汚被覆膜4を塗布したフィルタにおいても、防汚被覆膜なしのフィルタと同程度の集塵性能を保証できる。しかし、目開きAが1200μmでは、集塵性能は25%と低下する。これは、メッシュ基材3である繊維6の表面に防汚被覆膜4が形成されることで、繊維6に本来付着する塵埃が、フィルタを通り抜けていることを示している。したがって、目開きAが1000μm以下であれば、本発明に係る防汚被覆膜4が繊維6の表面に形成されたフィルタにおいても、防汚被覆膜なしのフィルタと同程度の集塵性能を保証できる。
図5Bに示すように、評価1〜3、6及び7のいずれの「防汚被覆膜あり」の除去性能の方が、それらに対応する比較例1〜5である「防汚被覆膜なし」の除去性能よりも高い。これは、本発明に係る防汚被覆膜4をメッシュ基材3である繊維6に塗布することにより、塵埃2とフィルタとの密着度、結合力が低下することを示している。そのため、塵埃2はフィルタから容易に除去することができる。なお、目開きAが500μmの場合、比較例と比べて除去性能が最も向上している。
図5Bに基づくと、本発明に係る防汚被覆膜4が繊維6の表面に形成されることによる除去性能の向上は目開きAが1200μm以下で確認できる。しかし、図5Aに基づき、集塵性能を考慮すると目開きAは1000μm以下であることが好ましい。したがって、フィルタの繊維6の間の最も近接する距離の大きさである目開きAが100μm以上1000μm以下であるフィルタが好ましい。
なお、上述の実施の形態は、本開示における技術を例示するためのものであるから、特許請求の範囲またはその均等の範囲において種々の変更、置き換え、付加、省略などを行うことができる。
例えば、本実施例の代表的な用途としては家庭用および業務用空気調和機、冷蔵庫、洗濯機、乾燥機、空気清浄機、加湿器、除湿器、脱臭機、集塵機、掃除機、換気扇、ヘアドライヤ、プロジェクタ、あるいは自動車もしくは航空機などのエンジンに用いられる吸気フィルタ、クリーンルーム、局所排気装置、ドラフトチャンバ、網戸、不織布などにも利用できる。これらに適用することで空気中の浮遊物質を捕集する集塵性を低下させることなく、集塵した塵埃を容易に除去することができる。そのため機器の特性を低下させることなくメンテナンスの手間を軽減させることができる。
例えば、エアフィルタの清掃にはブラシや掃除機、汚れがひどい場合には洗剤を用いた洗浄が行われるが、本実施例ではフィルタをはたく程度で除去することができる。
本発明は、集塵を目的とするフィルタを使用している製品に関与し、例えば空気調和機や掃除機等に幅広く好適に用いることができる。
1 被覆体
2 塵埃
3 メッシュ基材
4 防汚被覆膜
5 凸部
6 繊維
A 目開き
2 塵埃
3 メッシュ基材
4 防汚被覆膜
5 凸部
6 繊維
A 目開き
Claims (7)
- フィルタの繊維に少なくとも10nm以上100nm以下の粒径を有するナノ粒子を含有する被膜を有し、前記フィルタの前記繊維間の最も近接する距離が100μm以上1000μm以下であるフィルタ。
- 前記被膜はバインダ成分を含む請求項1に記載のフィルタ。
- 前記ナノ粒子が金属ナノ粒子、無機酸化物ナノ粒子、無機窒化物ナノ粒子、ポリマーナノ粒子のうち少なくとも一種のナノ粒子を含有する請求項1または2に記載のフィルタ。
- 前記バインダ成分がウレタン系、アクリル系、エポキシ系の少なくとも一種を含有する請求項2〜3のいずれか1項に記載のフィルタ。
- 前記バインダ成分は、前記被膜の重量に対して0.1%以上50%以下である請求項2〜4のいずれか1項に記載のフィルタ。
- 前記バインダ成分は、前記被膜の重量に対して0.1%以上30%以下である請求項2〜4のいずれか1項に記載のフィルタ。
- 前記被膜の厚みは、10nm以上500nm以下である請求項1〜6のいずれか1項に記載のフィルタ。
Priority Applications (1)
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JP2019070314A JP2020168591A (ja) | 2019-04-02 | 2019-04-02 | フィルタ |
Applications Claiming Priority (1)
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Family Applications (1)
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JP2019070314A Pending JP2020168591A (ja) | 2019-04-02 | 2019-04-02 | フィルタ |
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2019
- 2019-04-02 JP JP2019070314A patent/JP2020168591A/ja active Pending
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