JP2020157341A - 集塵装置及びレーザ加工装置 - Google Patents
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Description
投影光学系の投影光学部品の下部に取り付けられ、ライン状レーザ光の走査範囲以上の大きさの開口を有し、集塵室を形成する集塵ボックスと、
集塵ボックスと投影光学部品の境界の近傍の集塵ボックス及び投影光学部品の少なくとも一方に形成された複数の外気導入路と、
集塵ボックスの外気導入路の位置より下方の位置に形成され、負圧源に接続された排気口と、
を備えた集塵装置である。
また、本発明は、レーザ光源から発振された光をライン状に整形し、装置内に配置されたマスクへ導く照明光学系と、
照明光学系を内包する照明光学装置を移動させ、ライン状の光をマスクに対して走査させる走査機構と、
マスクを透過した光を被加工物に投影する投影光学系と、
投影光学系の下部に取り付けられ、集塵室を形成する集塵ボックスとを備え、
集塵ボックスは、
集塵ボックスと投影光学系の投影光学部品の境界の近傍の集塵ボックス及び投影光学部品の少なくとも一方に形成された複数の外気導入路と、
集塵ボックスの外気導入路の位置より下方の位置に形成された、負圧源に接続された排気口と、を備えるレーザ加工装置である。
また、本発明は、レーザ光源から発振されたレーザ光を装置内に配置された被加工物に投影する投影光学系を備え、
投影光学系の下部に取り付けられ、集塵室を形成する集塵ボックスと、
投影光学系の焦点と基板の表面との相対位置を検出するためのフォーカス検出部を備え、
集塵ボックスに、
投影光学系の近傍の複数の外気導入路と、
外気導入路の位置より下方の位置に形成された、負圧源に接続された排気口と、
フォーカス検出部から出射したフォーカス検出ビームが通過する第1の外気導入路と、
被加工物の表面で反射したフォーカス検出ビームが通過する第2の外気導入路とが形成された
レーザ加工装置である。
12・・・レーザ走査機構、13・・・マスク、14・・・投影レンズ、
15・・・加工ステージ、16・・・集塵装置、20・・・鏡筒ベース部,
21・・・箱状部、22・・・円筒部、23・・・底板、24・・・光学部品、
26・・・レーザ光の走査範囲、31a〜31d・・・側壁、
33a〜33h・・・外気導入路、34,35・・・隆起部、36・・・狭路部、
37・・・整流部、38・・・排気口
Claims (9)
- ライン状レーザ光を投影光学系によって被加工物表面に投影し、走査機構によって走査させるレーザ加工装置の集塵装置において、
前記投影光学系の投影光学部品の下部に取り付けられ、前記ライン状レーザ光の走査範囲以上の大きさの開口を有し、集塵室を形成する集塵ボックスと、
前記集塵ボックスと前記投影光学部品の境界の近傍の前記集塵ボックス及び前記投影光学部品の少なくとも一方に形成された複数の外気導入路と、
前記集塵ボックスの前記外気導入路の位置より下方の位置に形成され、負圧源に接続された排気口と、
を備えた集塵装置。 - 前記複数の外気導入路が前記集塵ボックスと前記投影光学部品の境界の近傍で前記集塵ボックスにより形成される集塵室の開口を囲むように設けられている請求項1に記載の集塵装置。
- 前記複数の外気導入路の少なくとも一つが気流の速度を増加させるための狭路部を有する請求項1又は2に記載の集塵装置。
- 前記複数の外気導入路の少なくとも一つが導入された気流の方向を制御する整流部を有する請求項1から3のいずれかに記載の集塵装置。
- 前記複数の外気導入路が、前記投影光学部品の前記集塵室内に露出する表面に沿って外気を導入することを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の集塵装置。
- 前記集塵ボックスが箱状部と、前記箱状部の下部に取り付けられた円筒部からなる請求項1から5のいずれかに記載の集塵装置。
- 前記円筒部の円筒面の対向する2箇所に外気を導入可能な開口を備えることを特徴とする請求項6に記載の集塵装置。
- レーザ光源から発振された光をライン状に整形し、装置内に配置されたマスクへ導く照明光学系と、
前記照明光学系を内包する照明光学装置を移動させ、ライン状の光を前記マスクに対して走査させる走査機構と、
前記マスクを透過した光を被加工物に投影する投影光学系と、
前記投影光学系の下部に取り付けられ、集塵室を形成する集塵ボックスとを備え、
前記集塵ボックスは、
前記集塵ボックスと前記投影光学系の投影光学部品の境界の近傍の前記集塵ボックス及び前記投影光学部品の少なくとも一方に形成された複数の外気導入路と、
前記集塵ボックスの前記外気導入路の位置より下方の位置に形成された、負圧源に接続された排気口と、
を備えるレーザ加工装置。 - レーザ光源から発振されたレーザ光を装置内に配置された被加工物に投影する投影光学系を備え、
前記投影光学系の下部に取り付けられ、集塵室を形成する集塵ボックスと、
前記投影光学系の焦点と前記基板の表面との相対位置を検出するためのフォーカス検出部を備え、
前記集塵ボックスに、
前記投影光学系の近傍の複数の外気導入路と、
前記外気導入路の位置より下方の位置に形成された、負圧源に接続された排気口と、
フォーカス検出部から出射したフォーカス検出ビームが通過する第1の外気導入路と、
前記被加工物の表面で反射したフォーカス検出ビームが通過する第2の外気導入路とが形成された
レーザ加工装置。
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JP2019059798A JP7224992B2 (ja) | 2019-03-27 | 2019-03-27 | 集塵装置及びレーザ加工装置 |
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JP2019059798A JP7224992B2 (ja) | 2019-03-27 | 2019-03-27 | 集塵装置及びレーザ加工装置 |
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007029973A (ja) * | 2005-07-25 | 2007-02-08 | Sony Corp | レーザ加工装置とその加工方法及びデブリ回収装置とその回収方法 |
JP2008147242A (ja) * | 2006-12-06 | 2008-06-26 | Hitachi Via Mechanics Ltd | プリント基板のレーザ加工方法 |
JP2008180983A (ja) * | 2007-01-25 | 2008-08-07 | Sei Tsunezo | レーザー微細加工方法 |
JP2018024014A (ja) * | 2016-08-04 | 2018-02-15 | 株式会社日本製鋼所 | レーザ剥離装置、レーザ剥離方法、及び有機elディスプレイの製造方法 |
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- 2019-03-27 JP JP2019059798A patent/JP7224992B2/ja active Active
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