JP2020157289A

JP2020157289A - 光触媒製品

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Publication number: JP2020157289A
Application number: JP2019192159A
Authority: JP
Inventors: 元昭江崎; Motoaki Ezaki; 千草　尚; Hisashi Chigusa; 尚千草; 孝徳荻原; Takanori Ogiwara; 繁菅原; Shigeru Sugawara; 英男太田; Hideo Ota; 横田　昌広; Masahiro Yokota; 昌広横田; 修小野; Osamu Ono; 宏貴猪又; Hirotaka Inomata; 琢真矢野; Takuma Yano
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 2019-03-19
Filing date: 2019-10-21
Publication date: 2020-10-01
Anticipated expiration: 2039-10-21
Also published as: JP7387380B2

Abstract

【課題】周囲雰囲気に対する触媒作用が良好な光触媒製品を得る。【解決手段】実施形態にかかる光触媒製品は、多孔質基材と、多孔質基材上に設けられ、スメクタイトを含む粘土鉱物、及び酸化タングステンを含有する光触媒を含む表面処理部とを備える。【選択図】図１

Description

本発明の実施形態は、光触媒製品に関する。

光触媒は、光によって励起された電子と正孔を生じ、強い酸化力を有する。この酸化力は、触媒作用として、有害有機分子の分解除去や殺菌、基材の親水性維持等に利用される。光触媒をガラス基材などの無機基材に適用した場合には、周囲雰囲気に対し触媒作用を発揮することができる。一方、不織布壁紙や布製品等には化学薬剤で処理されたり、染色を施される等されるため、様々な有機物成分が多く含まれている。そのため、不織布等の有機基材に光触媒を適用すると、有機基材からの有害有機分子を多く吸着して分解するため、周囲雰囲気に対する触媒作用が低下するという課題があった。

特許第５４８１６２９号公報国際公開第２０１５／０５６４８６号

本発明の実施形態は、周囲雰囲気に対する触媒作用が良好な光触媒製品を得ることを目的とする。

実施形態によれば、多孔質基材と、
前記多孔質基材上に設けられ、スメクタイトを含む粘土鉱物、及び酸化タングステンを含有する光触媒を含む表面処理部とを備えた光触媒製品が提供される。

第１実施形態にかかる光触媒製品の構成を表すモデル図である。第１実施形態にかかる光触媒製品の他の構成を表すモデル図である。第１実施形態にかかる光触媒製品の他の構成を表すモデル図である。第１実施形態にかかる光触媒製品の他の構成を表すモデル図である。第２実施形態にかかる光触媒製品の構成を表すモデル図である。実施形態にかかる光触媒製品の触媒作用を示すグラフ図である。実施形態にかかる光触媒製品の他のサンプルの触媒作用を示すグラフ図である。比較の光触媒製品の触媒作用を示すグラフ図である。実施形態にかかる光触媒製品の触媒作用を示すグラフ図である。比較の光触媒製品の触媒作用を示すグラフ図である。実施形態に使用される多孔質基材の表面のＳＥＭ写真である。実施形態にかかる光触媒製品の表面のＳＥＭ写真である。実施形態にかかる光触媒製品の転着試験の結果を表す黒布表面の写真である。実施形態にかかる光触媒製品の光触媒の転着試験の結果を表す黒布表面の写真である。光照射時間とアセトアルデヒド残存率との関係を表すグラフ図である。

実施形態にかかる光触媒製品は、多孔質基材と、多孔質基材上に設けられた表面処理部とを含む。表面処理部は、スメクタイトを含む粘土鉱物、または炭酸ジルコニウムアンモニウムのうち少なくとも１つと、酸化タングステンを含有する光触媒とを含む。
実施形態によれば、表面処理部に、スメクタイトを含む粘土鉱物、または炭酸ジルコニウムアンモニウムのうち少なくとも１つを用いることにより、多孔質基材として例えば有機基材を用いる場合、有機基材からのガス放出を防止することができる。また、光触媒と有機基材中の有機物成分が接触して光触媒反応することにより発生する例えばアルデヒド系のガス放出を防ぐことができる。これにより、光触媒の周囲雰囲気に対する触媒作用が良好な状態が得られる。また、多孔質基材として有機多孔質基材、特に不織布壁紙や布製品を用いた場合の光触媒作用に対して有効である。

実施形態にかかる光触媒製品は、以下の第１実施形態、第２実施形態、及び第３実施形態にかかる光触媒製品に分けることができる。
第１実施形態にかかる光触媒製品は、多孔質基材と、多孔質基材上に設けられ、スメクタイトを含む粘土鉱物、及び酸化タングステンを含有する光触媒を含む表面処理部とを備える。
スメクタイトは、層状の結晶構造を有するケイ酸塩鉱物である。実施形態に使用できるスメクタイトとして、例えば、サポナイト、ヘクトナイト、モンモリロナイト、及びスティブンサイト等があげられる。高アスペクト比で、薄膜状の結晶が積層した形状を有するもの、透明性が高いものを使用できる。

第１実施形態によれば、多孔質基材を、薄膜状の結晶が積層した形状を有するスメクタイトを用いて表面処理することにより、有機物成分に対する多孔質基材のバリアー性が良好となる。例えばアクリルエマルジョンを分散した水性染料を塗布された有機基材に光触媒を用いる場合、有機基材からアクリルエマルジョンの成分である有機物が溶出し、光触媒を覆う。これに対し、有機基材にスメクタイト処理を施せば溶出した有機物と光触媒との接触を防止し、光触媒性能劣化や有機物と光触媒との反応に伴うアルデヒド系またはカルボン酸系のガス放出を防止することができる。また、光触媒と有機基材が直接接触して反応することを防ぐことができる。これにより、周囲雰囲気に対する触媒作用が良好な光触媒製品が得られる。

図１に、第１実施形態にかかる光触媒製品の構成を表すモデル図を示す。
図示するように、第１実施形態にかかる光触媒製品１０は、例えば多孔質基材１と、多孔質基材１上に設けられた表面処理部４とを含む。表面処理部４は、多孔質基材１上に順に形成された粘土鉱物層２及び光触媒層３を含む。多孔質基材１として不織布など表面が不均一な基材を使用した場合、粘土鉱物層２は、一様な層である必要はなく、基材表面に点在し得る。同様に、光触媒層３も一様な層である必要はなく、基材表面に点在し得る。なお、多孔質基材１が粘土鉱物を吸収する場合には、粘土鉱物層２は基材に染み込んでいても構わない。

表面処理部４にはスメクタイトを含む粘土鉱物が豊富な領域、光触媒が豊富な領域、及び粘土鉱物と光触媒の両方が混在する領域が存在し得る。触媒作用を示すのは、表面処理部４上に露出している光触媒である。
多孔質基材としては、布製品、不織布、織物、樹脂フィルム、樹脂シート等の有機基材、また、有機物を含む塗料または染料、顔料、バインダー、糊、油剤等が含まれる有機物基材及びそれらのうち少なくとも１つを用いた製品などを使用することができる。
多孔質基材に対するスメクタイトの使用量は、固形分として１．０〜６．０ｇ／ｍ^２にすることができる。６．０ｇ／ｍ^２を超えると、基材の質感や、柔軟性が失われる状態となったり、その上に固定化する光触媒粒子が取れやすくなり、１．０ｇ／ｍ^２未満であると、不均一塗布となることにより十分に効果が出なくなる傾向があるが、多孔質基材の目付や表面積、製造履歴等により異なり、多孔質基材に応じて適切な範囲が決定される。

粘土鉱物層２は、例えば、スメクタイトを含む塗付液をディップコート、グラビアコート、スピンコート、バーコート、あるいはロータリースクリーンコート等の塗付方法を用いて塗付することにより、形成することができる。例えばディップコートのように多孔質基材の両面に適用すると、例えば多孔質基材が有機基材であり、光触媒製品をロール状で、あるいはスタックして保管する場合に、有機基材の裏面からのガス放出を防止することができる。また、光触媒と有機基材が接触して反応することを防ぐことができる。

実施形態に用いられる光触媒としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化スズなどからなる少なくとも１種の金属酸化物があげられる。また、光触媒には、酸化ジルコニウム、白金、ルテニウム、または銅等のうち少なくとも１つを添加することができる。

多孔質基材に対する光触媒の使用量は、固形分として０．２〜２．０ｇ／ｍ^２にすることができる。２．０ｇ／ｍ^２を超えると、色調の変化等および粒子が取れやすくなることが問題となり、０．２ｇ／ｍ^２未満であると、触媒作用不足となる傾向があるが、多孔質基材の目付や表面積、製造履歴等により異なり、多孔質基材に応じて適切な範囲が決定される。
光触媒層３は、例えば、光触媒を含むスラリーをディップコート、グラビアコート、スピンコート、バーコート、あるいはロータリースクリーンコート等の塗付方法を用いて塗付することにより、形成することができる。

表面処理部は、少なくとも炭酸ジルコニウムアンモニウムまたはアジピン酸ジヒドラジドのうち１つをさらに含むことができる。
炭酸ジルコニウムアンモニウムは、多孔質基材に含まれる有機物を架橋させる架橋剤として使用されると考えられる。炭酸ジルコニウムアンモニウムを多孔質基材例えば不織布のような有機基材中の水溶性高分子のカルボキシル基や水酸基と反応させて、不溶化（固定化）することにより、不必要なガスの放出やブリードを防止することができる。実施形態によれば、表面処理部に炭酸ジルコニウムアンモニウムをさらに含むことにより、周囲雰囲気に対する触媒作用がより良好な光触媒製品が得られる。

多孔質基材に対する炭酸ジルコニウムアンモニウムの使用量は、ＺｒＯ₂換算で固形分として０．１〜１０．０ｇ／ｍ^２にすることができる。１０．０ｇ／ｍ^２を超えると、基材の柔軟性が失われた状態となり、０．１ｇ／ｍ^２未満であると、固定化不足となる傾向があるが、多孔質基材の目付や表面積、製造履歴等により異なり、好ましい範囲は限定されるものではない。
なお、ここでは、ＺｒＯ_２換算とは、まず、炭酸ジルコニウムアンモニウム溶液を秤量したのち完全蒸発乾固し、蒸発乾固した重量を（ＮＨ４）_２［Ｚｒ（ＣＯ３）_２（ＯＨ）_２］の分子量２８１．３３で除し、ＺｒＯ_２の分子量１２３．２２で乗することにより、蒸発乾固した炭酸ジルコニウムアンモニウムのＺｒＯ_２への重量換算値を求めることをいう。この重量換算値を固形分の重量として、単位面積当たりの固着量（固形分量）を算出することができる。

アジピン酸ジヒドラジドは、ホルムアルデヒド等の有害有機分子を吸着する吸着剤として使用される。実施形態によれば、表面処理部にアジピン酸ジヒドラジドを用いることにより、周囲雰囲気に対する触媒作用がより良好な光触媒製品が得られる。
多孔質基材に対するアジピン酸ジヒドラジドの使用量は、固形分として０．５〜１５．０ｇ／ｍ^２にすることができる。１５．０ｇ／ｍ^２を超えると、粉状物の発生原因となり、０．１ｇ／ｍ^２未満であると、十分な効果が得られない状態となる傾向があるが、多孔質基材の目付や表面積、製造履歴等により異なり、好ましい範囲は限定されるものではない。

図２ないし図４に、第１実施形態にかかる光触媒製品の他の構成を表すモデル図を示す。
炭酸ジルコニウムアンモニウムを適用する場合、例えば、図２に示すように、多孔質基材１上に粘土鉱物層２を形成する前に、炭酸ジルコニウムアンモニウムを含む架橋剤層５を形成することができる。得られた光触媒製品２０は、表面処理部４−１として、多孔質基材１上に順に形成された、架橋剤層５、粘土鉱物層２、及び光触媒層３を含む。
なお、多孔質基材１が架橋剤や粘土鉱物を吸収する場合には、架橋剤層５や粘土鉱物層２は多孔質基材に染み込んでいても構わない。

アジピン酸ジヒドラジドを適用する場合、例えば、図３に示すように、多孔質基材上に粘土鉱物層を形成する前に、アジピン酸ジヒドラジドを含む吸着剤層６を形成することができる。得られた光触媒製品３０は、表面処理部４−２として、多孔質基材１上に順に形成された吸着剤層６、粘土鉱物層２、及び光触媒層３を含む。なお、多孔質基材１が吸着剤や粘土鉱物を吸収する場合には、吸着剤層６や粘土鉱物層２は多孔質基材に染み込んでいても構わない。
架橋剤層と吸着剤層の両方を適用する場合には、例えば、図４に示すように、多孔質基材１上に、粘土鉱物層を形成する前に、架橋剤層５、及び吸着剤層６の順、あるいは吸着剤層６、架橋剤層５の順に形成することができる。得られた光触媒製品４０は、多孔質基材１上に、表面処理部４−３として、架橋剤層５、吸着剤層６、粘土鉱物層２、及び光触媒層３が順に積層されている。なお、多孔質基材１が架橋剤、吸着剤や粘土鉱物を吸収する場合には、架橋剤層５や吸着剤層６、粘土鉱物層２は多孔質基材に染み込んでいても構わない。

架橋剤層は多孔質基材中の水溶性高分子のカルボキシル基や水酸基などと反応させるため、吸着剤層よりも多孔質基材の近くに設けることができる。炭酸ジルコニウムアンモニウムとアジピン酸ジヒドラジドとをさらに含むことにより、周囲雰囲気に対する触媒作用がさらにまた良好な光触媒製品が得られる。また、架橋剤層５の架橋反応により、多孔質基材に吸着剤層６が含浸しにくくなる場合には、吸着剤層６、架橋剤層５の順に形成することができる。

架橋剤層と吸着剤層は、それぞれ架橋剤を含む塗付液、及び吸着剤を含む塗付液を例えば、ディップコート、グラビアコート、スピンコート、バーコート、あるいはスプレーコート等の塗付方法を用いて塗付することにより、形成することができる。例えばディップコートのように多孔質基材の両面に適用すると、例えば多孔質基材が有機基材であり、光触媒製品をロール状で、あるいはスタックして保管する場合に、有機基材の裏面からのガス放出を抑制することができる。また、光触媒と有機基材が接触して反応することを抑制することができる。

図５に、第２実施形態にかかる光触媒製品の構成を表すモデル図を示す。
第２実施形態にかかる光触媒製品５０は、多孔質基材１と、多孔質基材１上に設けられた表面処理部４−４として、架橋剤層５、及び酸化タングステンを含有する光触媒層３が順に積層されている。多孔質基材１として不織布など表面が不均一な基材を使用した場合、架橋剤層５は、一様な層である必要はなく、基材表面に点在し得る。同様に、光触媒層３も一様な層である必要はなく、基材表面に点在し得る。なお、多孔質基材が架橋剤を吸収する場合には、架橋剤層５は多孔質基材に染み込んでいても構わない。
表面処理部４には炭酸ジルコニウムアンモニウムが豊富な領域、光触媒が豊富な領域、及び炭酸ジルコニウムアンモニウムと光触媒の両方が混在する領域が存在し得る。触媒作用を示すのは、表面処理部４上に露出している光触媒である。

第２実施形態によれば、炭酸ジルコニウムアンモニウムを含む架橋剤を用いると、多孔質基材例えば有機基材中の水溶性高分子のカルボキシル基や水酸基などを炭酸ジルコニウムアンモニウムと反応させて、不溶化することにより、多孔質基材の不必要なガスの放出やブリードを防止することができる。このようにして光触媒と多孔質基材が反応することを防ぐことにより、周囲雰囲気に対する触媒作用が良好な光触媒製品が得られる。

第２実施形態に使用される多孔質基材、表面処理部、架橋剤層、及び酸化タングステンを含有する光触媒層等の部材は、各々、第１実施形態に使用される部材と同様である。また、多孔質基材に対する炭酸ジルコニウムアンモニウム及び光触媒層等の使用量は、第１実施形態と同様である。

第３実施形態にかかる光触媒製品は、多孔質基材と、多孔質基材上に設けられた表面処理部とを含み、表面処理部は、スメクタイトを含む粘土鉱物、及び酸化タングステンを含有する光触媒を含む。さらに、この光触媒製品は、チャンバーの容積が０．５Ｌであり、白色蛍光灯ＦＬ２０ＳＷから光照射し、クラレックスＵＶカットフィルターＮ−１６９（日東樹脂工業）で３８０ｎｍ以下のＵＶ光をカットし、照度６０００ルクスとし、常温、常圧、湿度２０％の条件で、１０ｐｐｍの濃度のアセトアルデヒドを２時間で６０％以上削減することができる。

第３実施形態によれば、周囲雰囲気に対する触媒作用が良好な光触媒製品が得られる。
第３実施形態に使用される多孔質基材、及び表面処理部の部材は、各々、第１実施形態に使用される部材と同様である。また、多孔質基材に対する光触媒層等の使用量は、第１実施形態と同様である。
実施形態にかかる光触媒製品は、いずれも、光触媒、アジピン酸ジヒドラジド、炭酸ジルコニウムアンモニウム、あるいはスメクタイトなどの部材を含む粘土鉱物を含有する塗付液を多孔質基材に塗布することにより、作製することができる。塗付液の塗布により多孔質基材に固着する部材の状態は、多孔質基材の材質に影響される。例えば多孔質基材が樹脂フィルム、あるいは樹脂シートである場合には、塗布液が染み込みにくく、塗布液中の部材は、多孔質基材表面を覆うように固着され得る。一方、多孔質基材が、布製品、不織布、あるいは織物である場合には、塗布液が染み込みやすく、塗布液中の部材は、多孔質基材を構成する１本１本の繊維を覆うように固着され得る。このようなことから、実施形態にかかる光触媒製品の製造工程において、塗布液の濃度、及び塗付量は、使用される多孔質基材のそれぞれについて、塗付液の染み込みやすさを考慮して調整することができる。

多孔質基材に対する塗付液の染み込みやすさの目安として、使用する多孔質基材ついて、予め、多孔質基材が単位面積あたりに純水を吸水できる最大吸水量を測定することができる。このとき、各塗付液の多孔質基材への固着量（固形分量）Ｆ_Ｗ（ｇ／ｍ^２）は、下記式（１）で表すことができる。
Ｆ_Ｗ＝Ｋ／１００×Ｗ_Ａ×Ｃ／１００×（Ｄ／Ｄ_０）…（１）
Ｆ_Ｗ：固形分の固着量（ｇ／ｍ^２）
Ｋ：０を超え１００以下の任意の値
Ｗ_Ａ：純水を吸水できる最大吸水量（ｇ／ｍ^２）
Ｃ：塗付液の固形分濃度（重量％）
Ｄ：塗布液の比重（ｇ／cm^３）
Ｄ_０：水の比重（ｇ／cm^３）
式中、Ｗ_Ａは、多孔質基材が単位面積あたりに純水を吸水できる最大吸水量（ｇ／ｍ^２）、Ｋは、塗布の方法や塗布液の塗布状態によって選択される、０を超え１００以下の任意の値、Ｃは、塗付液の固形分濃度（重量％）、Ｄは、塗布液の比重（ｇ／cm^３）、Ｄ_０は水の比重（ｇ／cm^３）である。

各塗付液の固形分濃度Ｃ（重量％）は、塗付液に使用される部材によって異なる。スメクタイトの場合は０~５重量％である。スメクタイトを含む塗付液の固形分濃度Ｃは、５重量％を超えると、粘度が高くなり、水分散が困難になる傾向があることから、５重量％以下にすることができる。炭酸ジルコニウムアンモニウムの場合は、ＺｒＯ_２換算で０~２０重量％である。炭酸ジルコニウムアンモニウム（ＡＺＣ）を含む塗付液の固形分濃度Ｃは、２０重量％（ＺｒＯ_２換算）を超えると、アンモニア臭が強くなり、作業環境を悪化させる傾向があるため、２０重量％以下にすることができる。アジピン酸ジヒドラジドの場合は０~１１重量％にすることができる。アジピン酸ジヒドラジド（ＡＤＨ）の水に対する溶解度は、３０℃で１１重量％であることから、アジピン酸ジヒドラジド（ＡＤＨ）を含む塗付液の固形分濃度Ｃは１１重量％以下にすることができる。
固形分濃度Ｃは、好ましくは、スメクタイトの場合１~３重量％、炭酸ジルコニウムアンモニウムの場合ＺｒＯ_２換算で０．１~１０重量％、アジピン酸ジヒドラジドの場合０．１~８重量％にすることができる。

以下、実施例を示し、実施形態を具体的に説明する。

実施例１
粘土鉱物塗付液１の調製
スターラーで撹拌した純水にスメクタイト粉末を２．８重量％となるように投入し5分間撹拌した後、ホモジナイザーで１５分間処理し２４時間放置した。これを再度スターラーで撹拌し均一化させ、粘土鉱物層塗付液１としてのスラリーを得た。

光触媒塗付液１の調製
１０重量％ＷＯ_３および１０重量％ＴｉＯ_２を含むスラリーを用意し、純水で総固形分が２．５重量％となるように希釈した。

サンプル作製
５０×１００ｍｍに切り出した不織布壁紙について、純水を吸水できる最大吸水量を測定したところ０．９６４ｇであったことから、１ｍ^２当たりの最大吸水量Ｗ_Ａを１９２．８ｇ／ｍ^２と見積もった。
この不織布壁紙に、粘土鉱物塗布液１を、ディップコートにより、１９９ｇ／ｍ^２（このとき、Ｋが１００，塗布液の比重Ｄは１．０３ｇ／ｃｍ^３）塗布し、１５０℃で５分間乾燥させ、不織布壁紙基材に５．６ｇ／ｍ^２のスメクタイトを固着した。
更に、１．２５重量％ＷＯ_３、および１．２５重量％ＴｉＯ_２を含む光触媒塗布液１をディップコートで４０ｇ／ｍ_２塗布し、１５０℃で５分間乾燥し、光触媒を１．０ｇ／ｍ^２固着させて、光触媒製品としての不織布壁紙を得た。
作製した不織布壁紙は、２０Ｗ／ｍ^２となるように調整した紫外線ランプＦＬ２０ＳＢＬで、２４時間の前処理を行い、サンプルとした。また、別途、紫外線による前処理を行わないサンプルも用意した。

試験方法
アセトアルデヒドガス除去試験は、５Ｌ容積のチャンバーにサンプルを入れ、２５℃、湿度２０％となるように予め換気し調整した後、アセトアルデヒドガスを、濃度が１０ｐｐｍとなるように、チャンバーにシリンジで注入した。除去試験には、紫外線シャープカットフィルター（クラレックスＵＶカットフィルターＮ−１６９）を灯具とチャンバーの間に挟み込み、３８０ｎｍ以下のＵＶ光をカットしながら白色蛍光灯ＦＬ２０ＳＷを用いてサンプル面上で６０００ｌｘとなるように光照射を行い、アセトアルデヒドガスの濃度測定を、光音響マルチガスモニターＩＮＮＯＶＡ１４１２ｉ（ＬｕｍａＳｅｎｓｅＴｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製）を用いて、２時間行った。

図６は、実施形態にかかる光触媒製品の触媒作用を示すグラフ図であり、光の照射時間とアセトアルデヒド残存率との関係を示す。
図７は、実施形態にかかる光触媒製品の他のサンプルの触媒作用を示すグラフ図であり、光の照射時間とアセトアルデヒド残存率との関係を示す。
実施例１の結果を図６にグラフ１０１として示す。
また、紫外線による前処理を行わないサンプルについて同様にアセトアルデヒドガス除去試験を行った結果を図７にグラフ５０６として示す。
図６及び図７より、表面処理部にスメクタイトと光触媒を適用した場合、紫外線による前処理を行なったサンプルでは、アセトアルデヒドガス残存率が２時間で１０％以下となり、良好な触媒作用があることがわかった。しかしながら、紫外線による前処理を行なわないサンプルでは、アセトアルデヒドガス残存率が２時間で７０％以上となり、十分な触媒作用は確認できなかった。

実施例２
架橋剤塗付液１の調製
架橋剤塗付液は、ＺｒＯ₂換算で１９％炭酸ジルコニウムアンモニウム水溶液を純水で１．９重量％に希釈し、スターラーで撹拌して作製した。
粘土鉱物塗付液１の調製
実施例１と同様にして、粘土鉱物層塗付液１のスラリーを得た。
光触媒塗付液１の調製
実施例１と同様にして、光触媒塗付液１のスラリーを得た。

サンプル作製
５０×１００ｍｍに切り出した不織布壁紙について、純水を吸水できる最大吸水量を測定したところ０．９６４ｇであったことから、１ｍ^２当たりの最大吸水量Ｗ_Ａを１９２．８ｇ／ｍ^２と見積もった。
この不織布壁紙に、架橋剤塗布液１を、ディップコートにより、１９９ｇ／ｍ^２（このとき、Ｋが１００、塗付液の比重Ｄは１．０３３ｇ／ｃｍ^３）を塗布し、１５０℃で５分間乾燥させ、炭酸ジルコニウムアンモニウムを固定化した。このようにして、不織布壁紙基材に、炭酸ジルコニウムアンモニウムの固形分量（ＺｒＯ_２換算）として、３．８ｇ／ｍ^２を固着させた。

次に、実施例１と同様の粘土鉱物塗布液１を、ディップコートにより、１９９ｇ／ｍ^２（このとき、Ｋが１００，液比重Ｄは１．０４ｇ／ｃｍ^３）を塗布し、１５０℃で５分間乾燥させ、不織布壁紙基材に５．６ｇ／ｍ^２のスメクタイトを固着した。

更に、１．２５重量％ＷＯ_３、および１．２５重量％ＴｉＯ_２を含む光触媒塗布液１をディップコートで４０ｇ／ｍ^２塗布し、１５０℃で５分間乾燥し、光触媒を１．０ｇ／ｍ^２固着させて、光触媒製品としての不織布壁紙を得た。
作製した不織布壁紙は、２０Ｗ／ｍ^２となるように調整した紫外線ランプＦＬ２０ＳＢＬで、２４時間の前処理を行い、サンプルとした。また、別途、前処理を行わないサンプルも用意した。

試験方法
実施例１と同様にして、アセトアルデヒドガスの濃度測定を２時間行った。
得られた結果を図６にグラフ１０２として示す。
また、紫外線による前処理を行わないサンプルについて同様にアセトアルデヒドガス除去試験を行った結果を図７にグラフ５０３として示す。
図６及び図７より、表面処理部にスメクタイトと光触媒と架橋剤を使用した場合、紫外線による前処理を行なったサンプルでは、アセトアルデヒドガス残存率が２時間で１０％以下となり、良好な触媒作用があることがわかった。紫外線による前処理を行なわないサンプルでは、アセトアルデヒドガス残存率が２時間で２０％以下となり、触媒効果があることが確認できた。

実施例３
吸着剤塗付液１の調製
吸着剤塗付液１は、純水中にアジピン酸ジヒドラジド粉末を添加してスターラーで撹拌して作製した。この時の濃度は０．４重量％とした。
粘土鉱物塗付液１の調製
実施例１と同様にして、粘土鉱物層塗付液１のスラリーを得た。
光触媒塗付液１の調製
実施例１と同様にして、光触媒塗付液１のスラリーを得た。

サンプル作製
５０×１００ｍｍに切り出した不織布壁紙について、純水を吸水できる最大吸水量を測定したところ０．９６４ｇであったことから、１ｍ^２当たりの最大吸水量Ｗ_Ａを１９２．８ｇ／ｍ^２と見積もった。
この不織布壁紙に、吸着剤塗付液１を、ディップコートにより、１９２．８ｇ／ｍ^２（このとき、Ｋが１００、塗布液の比重Ｄは１．０００ｇ／ｃｍ^３）を塗布し、１５０℃で５分間乾燥させ、アジピン酸ジヒドラジドを固定化した。このようにして、不織布壁紙基材に、アジピン酸ジヒドラジドの固形分量として、０．８ｇ／ｍ^２を固着させた。

次に、実施例１と同様の粘土鉱物塗布液１を、ディップコートにより、１９９ｇ／ｍ^２（このとき、比率Ｋが１００，塗布液の比重Ｄは１．０４ｇ／ｃｍ^３）を塗布し、１５０℃で５分間乾燥させ、不織布壁紙基材に５．６ｇ／ｍ^２のスメクタイトを固着した。
更に、１．２５重量％ＷＯ_３、および１．２５重量％ＴｉＯ_２を含む光触媒塗布液１をディップコートで４０ｇ／ｍ^２塗布し、１５０℃で５分間乾燥し、光触媒を１．０ｇ／ｍ^２固着させて、光触媒製品としての不織布壁紙を得た。
作製した不織布壁紙は、２０Ｗ／ｍ^２となるように調整した紫外線ランプＦＬ２０ＳＢＬで、２４時間の前処理を行い、サンプルとした。また、別途、前処理を行わないサンプルも用意した。

試験方法
実施例１と同様にして、アセトアルデヒドガスの濃度測定を２時間行った。
得られた結果を図６にグラフ１０３として示す。
また、紫外線による前処理を行わないサンプルについて同様にアセトアルデヒドガス除去試験を行った結果を図７にグラフ５０２として示す。
図６及び図７より、表面処理部にスメクタイトと光触媒と吸着剤を使用した場合、紫外線による前処理を行なったサンプルでは、アセトアルデヒドガス残存率が２時間で１０％以下となり、良好な触媒作用があることがわかった。紫外線による前処理を行なわないサンプルでも、アセトアルデヒドガス残存率が２時間で１０％以下となり、十分な触媒効果があることが確認できた。

実施例４
吸着剤塗付液１の調製
実施例３と同様にして吸着剤塗付液１を調製した。
架橋剤塗付液１の調製
実施例２と同様にして架橋剤塗付液を調製した。
粘土鉱物塗付液１の調製
実施例１と同様にして、粘土鉱物層塗付液１のスラリーを得た。
光触媒塗付液１の調製
実施例１と同様にして、光触媒塗付液１のスラリーを得た。

次に、この不織布壁紙に、架橋剤塗布液１を、ディップコートにより、１９９ｇ／ｍ^２（このとき、Ｋが１００、塗布液の比重Ｄは１．０３３ｇ／ｃｍ^３）を塗布し、１５０℃で５分間乾燥させ、炭酸ジルコニウムアンモニウムを固定化した。このようにして、不織布壁紙基材に、炭酸ジルコニウムアンモニウムの固形分量（ＺｒＯ_２換算）、アジピン酸ジヒドラジドの固形分量として、３．８ｇ／ｍ^２を固着させた。
続いて、実施例１と同様の粘土鉱物塗布液１を、ディップコートにより、１９９ｇ／ｍ^２（このとき、比率Ｋが１００，塗布液の比重Ｄは１．０４ｇ／ｃｍ^３）を塗布し、１５０℃で５分間乾燥させ、不織布壁紙基材に５．６ｇ／ｍ^２のスメクタイトを固着した。

試験方法
実施例１と同様にして、アセトアルデヒドガスの濃度測定を２時間行った。
得られた結果を図６にグラフ１０４として示す。
また、紫外線による前処理を行わないサンプルについて同様にアセトアルデヒドガス除去試験を行った結果を図７にグラフ５０４として示す。
図６及び図７より、表面処理部にスメクタイトと光触媒と架橋剤と吸着剤を使用した場合、紫外線による前処理を行なったサンプルでは、アセトアルデヒドガス残存率が２時間で１０％以下となった。紫外線による前処理を行なわないサンプルでは、アセトアルデヒドガス残存率が２時間で１０％以下となり、良好な触媒効果があることが確認できた。

実施例５
架橋剤塗付液１の調製
実施例２と同様にして架橋剤塗付液を調製した。
光触媒塗付液１の調製
実施例１と同様にして、光触媒塗付液１のスラリーを得た。

サンプル作製
５０×１００ｍｍに切り出した不織布壁紙について、純水を吸水できる最大吸水量を測定したところ０．９６４ｇであったことから、１ｍ^２当たりの最大吸水量Ｗ_Ａを１９２．８ｇ／ｍ^２と見積もった。
この不織布壁紙に、架橋剤塗布液１を、ディップコートにより、１９９ｇ／ｍ^２（このとき、Ｋが１００、塗布液の比重Ｄは１．０３３ｇ／ｃｍ^３）を塗布し、１５０℃で５分間乾燥させ、炭酸ジルコニウムアンモニウムを固定化した。このようにして、不織布壁紙基材に、炭酸ジルコニウムアンモニウムの固形分量（ＺｒＯ_２換算）として、３．８ｇ／ｍ^２を固着させた。

次に、１．２５重量％ＷＯ_３、および１．２５重量％ＴｉＯ_２を含む光触媒塗布液１をディップコートで４０ｇ／ｍ^２塗布し、１５０℃で５分間乾燥し、光触媒を１．０ｇ／ｍ^２固着させて、光触媒製品としての不織布壁紙を得た。
作製した不織布壁紙は、２０Ｗ／ｍ^２となるように調整した紫外線ランプＦＬ２０ＳＢＬで、２４時間の前処理を行い、サンプルとした。

試験方法
実施例１と同様にして、アセトアルデヒドガスの濃度測定を２時間行った。
得られた結果を図６にグラフ１０５として示す。

実施例６
架橋剤と吸着剤の混合塗付液１の調製
１９％炭酸ジルコニウムアンモニウム水溶液を純水で希釈し、アジピン酸ジヒドラジド粉末を添加してスターラーで撹拌して作製した。この時の濃度は、それぞれ１．９重量％、０．４重量％とした。
粘土鉱物塗付液１の調製
実施例１と同様にして、粘土鉱物層塗付液１のスラリーを得た。
光触媒塗付液１の調製
実施例１と同様にして、光触媒塗付液１のスラリーを得た。

サンプル作製
基材として不織布壁紙を用意した。使用した多孔質基材のＳＥＭ写真を図１１に示す。図１１は、不織布壁紙基材表面を観察したものであり、図示するように、天然繊維にポリエステル繊維を含有した不織布基材に、フィラー（鱗片状の片）を含む染料が装飾のために施されている。
５０×１００ｍｍに切り出した不織布壁紙について、純水を吸水できる最大吸水量を測定したところ０．９６４ｇであったことから、１ｍ^２当たりの最大吸水量Ｗ_Ａを１９２．８ｇ／ｍ^２と見積もった。

この不織布壁紙に、架橋剤と吸着剤の混合塗布液１を、ディップコートにより、１９６．１ｇ／ｍ^２（このとき、Ｋが１００、塗布液の比重Ｄは１．０１７ｇ／ｃｍ^３）を塗布し、１５０℃で５分間乾燥させ、炭酸ジルコニウムアンモニウムと、アジピン酸ジヒドラジドを固定化した。このようにして、不織布壁紙基材に、炭酸ジルコニウムアンモニウムの固形分量（ＺｒＯ_２換算）として、３．７ｇ／ｍ^２、アジピン酸ジヒドラジドの固形分量として、０．８ｇ／ｍ^２を固着させた。

次に、実施例１と同様の粘土鉱物塗布液１を、ディップコートにより、１９９ｇ／ｍ^２（このとき、比率Ｋが１００，液比重Ｄは１．０４ｇ／ｃｍ^３）を塗布し、１５０℃で５分間乾燥させ、不織布壁紙基材に５．６ｇ／ｍ^２のスメクタイトを固着した。
更に、１．２５重量％ＷＯ_３、および１．２５重量％ＴｉＯ_２を含む光触媒塗布液１をディップコートで４０ｇ／ｍ^２塗布し、１５０℃で５分間乾燥し、光触媒を１．０ｇ／ｍ^２固着させて、光触媒製品としての不織布壁紙を得た。

得られた光触媒製品の表面を電子顕微鏡で観察したＳＥＭ写真を図１２に示す。図示するように、この光触媒製品では、多孔質基材表面から染み込んだ架橋剤、吸着剤、及び光触媒が、それぞれの天然繊維およびポリエステル繊維の上に設けられている。
作製した不織布壁紙は、２０Ｗ／ｍ^２となるように調整した紫外線ランプＦＬ２０ＳＢＬで、２４時間の前処理を行い、サンプルとした。また、別途、前処理を行わないサンプルも用意した。

試験方法１（初期値）
実施例１と同様にして、アセトアルデヒドガスの濃度測定を２時間行った。
得られた結果を図６にグラフ１０６として示す。
また、紫外線による前処理を行わないサンプルについて同様にアセトアルデヒドガス除去試験を行った結果を図７にグラフ５０１として示す。
図６及び図７より、表面処理部にスメクタイトと光触媒と架橋剤と吸着剤を使用した場合、紫外線による前処理を行なったサンプルでは、アセトアルデヒドガス残存率が２時間で１０％以下となった。紫外線による前処理を行なわないサンプルでは、アセトアルデヒドガス残存率が２時間で１０％以下となり、良好な触媒効果があることが確認できた。

試験方法２
ホルムアルデヒド除去試験として、アセトアルデヒドガスの代わりにホルムアルデヒドガスを注入すること、および５Ｌのガスバックと使うこと以外は実施例１の試験方法と同様にして、紫外線前処理を行ったサンプルについて、ホルムアルデヒドガスの濃度測定を、４８時間行った。
その結果、４８時間後のホルムアルデヒド残存率が１０％未満であり、良好な触媒効果があることが確認できた。

試験方法３
トルエン除去試験として、アセトアルデヒドガスの代わりにトルエンガスを注入すること、および５Ｌのガスバックを使うこと以外は実施例１の試験方法と同様にして、紫外線前処理を行ったサンプルについて、トルエンガスの濃度測定を、４８時間行った。
その結果、４８時間後のトルエン残存率が５９％であった。トルエンの分解に関しては、残存率が６５％以下であり、触媒作用があると認められる。

比較例１−１
光触媒塗付液１の調製
実施例１と同様にして、光触媒塗付液１のスラリーを得た。
サンプル作製
５０×１００ｍｍに切り出した不織布壁紙に、光触媒塗付液１を固形分が１．０ｇ／ｍ^２となるようにディップコートにより塗布し、１２０℃の乾燥炉中で５分間乾燥させる。作製した不織布壁紙は、２０Ｗ／ｍ^２となるように調整した紫外線ランプＦＬ２０ＳＢＬで、２４時間の前処理を行い、サンプルとした。また、別途、前処理を行わないサンプルも用意した。

試験方法１
実施例１と同様にして、アセトアルデヒドガスの濃度測定を２時間行った。
得られた結果を図６に、グラフ１０７として示す。
また、紫外線による前処理を行わないサンプルについて同様にアセトアルデヒドガス除去試験を行った結果を図７にグラフ５０５として示す。
図６及び図７より、表面処理部に光触媒のみを適用した場合、紫外線による前処理を行なったサンプルでは、アセトアルデヒド残存率が２時間で２５％程度であるが、紫外線による前処理を行なわないサンプルでは、アセトアルデヒドガス残存率が２時間で８０％程度であり、十分な触媒効果が得られないことが確認できた。

試験方法２
実施例６の試験方法２と同様にして、ホルムアルデヒド除去試験を４８時間行なった。
その結果、４８時間後のホルムアルデヒド残存率が２５０％以上に増加した。
ホルムアルデヒドの増加は有機基材から発生したものと考えられる。有機基材上に光触媒層を塗布しただけでは、有機基材から発生するホルムアルデヒドを抑制することができないことから、十分な触媒作用が得られないものと考えられる。

試験方法３
実施例６の試験方法３と同様にして、トルエン除去試験を４８時間行なった。
その結果、４８時間後のトルエン残存率が９５％であった。
トルエンは殆ど分解しなかったものと考えられる。有機基材上に光触媒層を塗布しただけでは、トルエンを減少させることができないことから、十分な触媒作用が得られないものと考えられる。

比較例２
光触媒塗付液１の調製
実施例１と同様にして、光触媒塗付液１のスラリーを得た。
サンプル作製
５０×１００ｍｍに切り出した不織布壁紙の代わりに、多孔質基材ではない５０×１００ｍｍのガラスを使用すること以外は、比較例１と同様にしてサンプルを作製した。また、別途、前処理を行わないサンプルも用意した。

試験方法
実施例１と同様にして、アセトアルデヒドガスの濃度測定を２時間行った。
得られた結果を図８にグラフ１０８として示す。
また、紫外線による前処理を行わないサンプルについて同様にアセトアルデヒドガス除去試験を行った結果を図７にグラフ５０７として示す。
図６及び図７より、表面処理部に光触媒のみを適用した場合、紫外線による前処理を行なったサンプルでも、紫外線による前処理を行なわないサンプルでも、アセトアルデヒドガス残存率が２時間で１０％程度であり、ガラス基材では光触媒塗付液１のみであっても十分な触媒効果が得られる。

また、実施例１〜６，比較例１，２について、表面処理部の塗布液濃度と固着量と、アセトアルデヒドガス及びその他のガスの濃度測定の評価を下記表１−１及び表１−２に示す。なお、表中、固着量（ｇ／ｍ^２）は、塗布液濃度（重量％）の下にカッコ書きで示した。また、評価は、２時間後にアセトアルデヒドガスの残存率が２０％以下の場合を○、２０％を超える場合は×とした。さらに、４８時間後のホルムアルデヒドガスの残存率が２０％以下の場合を○、２０％を超える場合は×とした。トルエンガスの場合は４８時間後の残存率が６０％以下の場合を○とした。６０％を超える場合は×とした。

表１−１に示すように、実施例１〜６の光触媒製品は、いずれも２時間後にアセトアルデヒドガスの残存率が２０％以下となり、有機基材を使用しても周囲雰囲気に対する触媒作用が良好であることがわかった。また、紫外線による前処理を行わないサンプルについては、実施例４及び６に示すように、表面処理部にスメクタイトと光触媒と架橋剤と吸着剤を使用した場合には良好な触媒作用が確認できた。また、実施例２及び３に示すように、表面処理部にスメクタイトと光触媒と架橋剤または吸着剤のうち一方とを用いた場合にも、十分な触媒作用が確認できた。しかしながら、実施例１に示すように、表面処理部にスメクタイトと光触媒と架橋剤を用いた場合には十分な触媒作用は確認できなかった。

また、図８は、比較の光触媒製品の触媒作用を示すグラフ図であり、光の照射時間とアセトアルデヒド残存率との関係を示す。

比較例１は有機基材の例として、図８にグラフ１０７として示した。
図８に示すように、有機基材上に直接光触媒を適用すると、有機基材からの有害有機分子を多く吸着して分解するため、グラフ１０７に示すように、周囲雰囲気に対する見かけの触媒作用が低下する。これに対し、ガラス基材上に直接光触媒を適用しても、グラフ１０８に示すようにガラス基材からは有害有機分子が発生しないので、周囲雰囲気に対する触媒作用が低下しない。また、グラフ１０８は、実施例１〜６とほぼ同等であることから、実施例１〜６の光触媒製品においては、有機基材における有害有機分子の発生を、有害有機分子が発生しないガラス基材並みに低減できると考えられる。

実施例７
架橋剤と吸着剤の混合塗付液２の調製
１９％炭酸ジルコニウムアンモニウム水溶液を純水で希釈し、アジピン酸ジヒドラジド粉末を添加してスターラーで撹拌して作製した。この時の濃度は、それぞれ３．５重量％、５重量％とした。
粘土鉱物塗付液１の調製
実施例１と同様にして、粘土鉱物層塗付液１のスラリーを得た。
光触媒塗付液１の調製
実施例１と同様にして、光触媒塗付液１のスラリーを得た。

サンプル作製
５０×１００ｍｍに切り出した不織布壁紙について、純水を吸水できる最大吸水量を測定したところ０．９６４ｇであったことから、１ｍ２当たりの最大吸水量Ｗ_Ａを１９２．８ｇ／ｍ２と見積もった。
この不織布壁紙に、架橋剤と吸着剤の混合塗布液２を、ディップコートにより、１９９．２ｇ／ｍ２（このとき、Ｋが１００、塗布液の比重Ｄは１．０３３ｇ／ｃｍ３）を塗布し、１５０℃で５分間乾燥させ、炭酸ジルコニウムアンモニウムと、アジピン酸ジヒドラジドを固定化した。このようにして、不織布壁紙基材に、炭酸ジルコニウムアンモニウムの固形分量（ＺｒＯ２換算）として、７．０ｇ／ｍ２、アジピン酸ジヒドラジドの固形分量として、１０．０ｇ／ｍ^２を固着させた。

次に、実施例１と同様の粘土鉱物塗布液１を、ディップコートにより、１９９ｇ／ｍ２（このとき、比率Ｋが１００，液比重Ｄは１．０４ｇ／ｃｍ３）を塗布し、１５０℃で５分間乾燥させ、不織布壁紙基材に５．６ｇ／ｍ^２のスメクタイトを固着した。
更に、１．２５重量％ＷＯ_３、および１．２５重量％ＴｉＯ_２を含む光触媒塗布液１をディップコートで４０ｇ／ｍ２塗布し、１５０℃で５分間乾燥し、光触媒を１．０ｇ／ｍ^２固着させて、光触媒製品としての不織布壁紙を得た。

試験方法１（初期値）
実施例１と同様にして、アセトアルデヒドガスの濃度測定を２時間行った。
図９は、実施形態にかかる光触媒製品の触媒作用を示すグラフ図であり、光の照射時間とアセトアルデヒド残存率との関係を示す。
得られた結果を図９にグラフ３０１として示す。
試験方法２（７日間後）
初期値を測定したサンプルを、白色蛍光灯が設置された人の出入りのある事務所内の机上に７日間放置し、実空間試験とした。サンプル面上の照度は約３５０ｌｘであり、夜間・休日は消灯した。アセトアルデヒドガス除去試験は試験法１と同じ条件で実施し、７日間実空間放置後データーとした。
得られた結果を図９にグラフ３０２として示す。
試験方法３（１５日間後）
７日間実空間放置試験を実施したサンプルを、試験方法２と同条件で、更に８日間放置して、アセトアルデヒドガス除去試験は試験法１と同じ条件で実施し、１５日間実空間放置後データーとした。

得られた結果を図９にグラフ３０３として示す。
比較例１−２
比較例１−１と同様のサンプルを用意し、実施例７と同様にして、初期、７日間後、１５日間後についてアセトアルデヒドガス除去試験を行った。
図１０は、比較の光触媒製品の触媒作用を示すグラフ図であり、光の照射時間とアセトアルデヒド残存率との関係を示す。
初期値をグラフ４０１、７日間後をグラフ４０２、１５日間後をグラフ４０３に示す。
図９に示すように、実施例７にかかる光触媒製品は、７日間後、１５日間後であっても、いずれも２時間後にアセトアルデヒドガスの残存率が３０％以下となり、周囲雰囲気に対する触媒作用が十分であり、ライフ特性が良好であることがわかった。
これに対し、図１０に示すように、比較例１にかかる光触媒製品では、７日間後、１５日間後は、いずれも２時間後にアセトアルデヒドガスの残存率が８０％を超え、周囲雰囲気に対する触媒作用が低下し、ライフ特性が悪いことがわかった。

実施例８−１，８−２
架橋剤と吸着剤の混合塗付液３の調製
１９％炭酸ジルコニウムアンモニウム水溶液を純水で希釈し、アジピン酸ジヒドラジド粉末を添加してスターラーで撹拌して作製した。この時の濃度は、それぞれ５重量％（ＺｒＯ_２換算）、７．５重量％とした。
粘土鉱物塗付液２の調製
スターラーで撹拌した純水にスメクタイト粉末を４重量％となるように投入し、５分間撹拌した後、ホモジナイザーで１５分間処理し２４時間放置した。これを再度スターラーで撹拌し均一化させ、粘土鉱物層塗付液２としてのスラリーを得た。

光触媒塗付液２の調製
純水にＷＯ_３を１０重量％含むスラリーを用意し、スラリーの重量に対し、ＴｉＯ_２光触媒を１０重量％添加した。これを純水で総固形分量が４．５重量％になるように希釈して光触媒塗付液２を調製した。

サンプル作製
５０×１００ｍｍに切り出した不織布壁紙について、この基材の純水を吸水できる最大吸水量を予め測定したところ０．９６４ｇであったことから、１ｍ^２当たりの基材吸水量Ｗ_Ａは１９２．８ｇ／ｍ^２と見積もった。
この不織布壁紙に、混合塗布液３を、ディップコートにより、２８．９ｇ／ｍ^２（このとき、Ｋが１４．３、塗布液の比重Ｄは１．０４９ｇ／ｃｍ^３）を塗布し、１７０℃で３分間乾燥させ炭酸ジルコニウムアンモニウムと、アジピン酸ジヒドラジドを固定化した。不織布壁紙基材には、炭酸ジルコニウムアンモニウムの固形分量（ＺｒＯ_２換算）として、１．４５ｇ／ｍ^２、アジピン酸ジヒドラジドの固形分量として、２．１７ｇ／ｍ^２を固着させた。

次に、粘土鉱物塗付液２を、スキージにより、６２．３ｇ／ｍ^２（このとき、Ｋが３１、塗布液の比重Ｄは１．０４３ｇ／ｃｍ^３）を塗布し、１７０℃で４分間乾燥させスメクタイトを固定化した。このようにして不織布壁紙に２．５ｇ／ｍ^２のスメクタイトを固着した。
更に、上記不織布壁紙に光触媒塗付液２をスキージで２６．５ｇ／ｍ^２塗布し、１２０℃で３分間乾燥させ、光触媒を１．２ｇ／ｍ^２固着させて実施例８−１の不織布壁紙を作製した。

また、実施例８−２として、光触媒塗付液２をスキージで４５ｇ／ｍ^２塗布した不織布壁紙を作製した。乾燥温度は１２０℃、乾燥時間を５分とした。この時の光触媒量は２．０ｇ／ｍ^２であった。
実施例８−１及び実施例８−２の不織布壁紙について、２０Ｗ／ｍ^２となるように調整した紫外線ランプＦＬ２０ＳＢＬで、２４時間の前処理を行い、サンプルを得た。

試験方法
アセトアルデヒドガス除去試験
実施例１と同様にして、アセトアルデヒドガスの濃度測定を２時間行った。実施例８−１では、アセトアルデヒドガス残存率が１０％以下、実施例８−２では５％以下であり、いずれも良好な触媒作用があることがわかった。

黒布転着試験法
上記サンプル作製と同様にして別途作製した不織布壁紙の表面を、羊毛の黒い布で擦り、黒布に転着する色を観察した。平板上に置いた不織布壁紙の上に、黒布を置き、その上から直径１７ｍｍの円形の面上に３ｋｇｆの荷重をかけて、そのまま１０ｃｍ移動させることにより、不織布壁紙と黒布を擦った。この時の圧力は１３．２ｇ／ｍｍ^２であった。

図１３に、実施例８−１の不織布壁紙の転着試験の結果を表す黒布表面の写真、図１４に、実施例８−２の不織布壁紙の転着試験の結果を表す黒布表面の写真を、各々示す。

実施例８−１では、黒布はほとんど変化がなかったが、実施例８−２では、白く変化した。白色の原因は、ハンディー型蛍光Ｘ線測定装置（オリンパス株式会社製商品名ハンドヘルド蛍光Ｘ線分析計 DELTA Professional）で確認した結果、光触媒成分であることが確認された。この多孔質基材の例では、１．２ｇ／ｍ^２の光触媒の固着量は適正であったが、２．０ｇ／ｍ^２では光触媒の固着量が多少過剰となる傾向があることがわかった。

実施例９及び比較例３
架橋剤塗付液２の調製
１９重量％（ＺｒＯ_２換算）炭酸ジルコニウムアンモニウム水溶液を純水で希釈し、０．７５重量％濃度（ＺｒＯ_２換算）の水溶液を作製した。
光触媒塗付液３の調製
１０重量％のＷＯ_３を分散させたスラリーを純水で希釈し、固形分量が０．５重量％ｗになるように調整した。

サンプル作製
５０×１００ｍｍに切り出したモケット生地について、純水を吸水できる最大吸水量を測定したところ７．９４ｇであったことから、１ｍ^２当たりの基材吸水量Ｗ_Ａは１５８８ｇ／ｍ^２と見積もった。
このモケット生地に、架橋剤塗付液２を、ディップコートにより、２００ｇ／ｍ^２（このとき、Ｋが１２．４、塗布液の比重Ｄは１．０１３ｇ／ｃｍ^３）を塗布し、１５０℃で３分間乾燥させ炭酸ジルコニウムアンモニウムを固定化した。モケット生地には、炭酸ジルコニウムアンモニウムの固形分量（ＺｒＯ_２換算）として、１．５ｇ／ｍ^２が固着された。

次に、上記モケット生地に光触媒塗付液３を、簡易的なグラビア試験機で２００ｇ／ｍ^２塗布し、１２０℃で３分間乾燥させ、ＷＯ_３光触媒を１．０ｇ／ｍ^２固着させ、実施例＿９のモケット生地とした。
また、比較例３として、架橋剤塗付液２を塗布しないこと以外は実施例９と同様にして、モケット生地を作製した。
実施例９と比較例３のモケット生地、および全く処理をしていないＢｌａｎｋ用のモケット生地について、２０Ｗ／ｍ^２となるように調整した紫外線ランプＦＬ２０ＳＢＬで、１２時間の前処理を行い、サンプルを作製した。

アセトアルデヒド除去試験方法
アセトアルデヒドガス除去試験は、１．５Ｌ容積のチャンバーにサンプルを入れ、２５℃、湿度２０％となるように予め換気し調整した後、アセトアルデヒドガスを、濃度が１０ｐｐｍとなるように、チャンバーにシリンジで注入した。除去試験には、紫外線シャープカットフィルター（クラレックスＵＶカットフィルターＮ−１６９）を灯具とチャンバーの間に挟み込み、３８０ｎｍ以下のＵＶ光をカットしながら白色蛍光灯ＦＬ２０ＳＷを用いてサンプル面上で６０００ｌｘとなるように光照射を行い、アセトアルデヒドガスの濃度測定を、光音響マルチガスモニターＩＮＮＯＶＡ１４１２ｉ（ＬｕｍａＳｅｎｓｅＴｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製）を用いて１時間行った。得られた結果を図１５に示す。

図１５は、光照射時間とアセトアルデヒド残存率との関係を表すグラフ図である。
図中、５０１はブランク用のモケット生地、５０２は比較例３、５０３は実施例９の結果を各々示す。５０２に示すように、光触媒のみを塗布した比較例３のモケット生地は、アセトアルデヒド残存率が９０％以上であり、触媒作用はなかったが、５０３に示すように、炭酸ジルコニウムアンモニウムと光触媒を塗布した実施例９のモケット生地は、アセトアルデヒドガス残存率が５０％以下であり、炭酸ジルコニウムアンモニウムで処理したことにより、良好な触媒作用があることがわかった。
また、上記表１−１及び表１−２には、実施例７，８−１，８−２，９、比較例３についても、表面処理部の塗布液濃度と固着量と、アセトアルデヒドガスの濃度測定の評価を示した。

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

１…多孔質基材、２…粘土鉱物層、３…光触媒層、４，４−１，４−２，４−３…表面処理部、５…架橋剤層、６…吸着剤層、１０，２０，３０，４０，５０…光触媒製品

Claims

多孔質基材と、
前記多孔質基材上に設けられ、スメクタイトを含む粘土鉱物、及び酸化タングステンを含有する光触媒を含む表面処理部とを備えた光触媒製品。
前記表面処理部は、少なくとも炭酸ジルコニウムアンモニウムまたはアジピン酸ジヒドラジドのうち１つをさらに含む請求項１に記載の光触媒製品。
前記表面処理部は、前記多孔質基材上に設けられた前記粘土鉱物を含む粘土鉱物層と、
前記粘土鉱物層上に設けられた、前記光触媒を含む光触媒層とを含む請求項１または２に記載の光触媒製品。
前記表面処理部と前記多孔質基材との間に、炭酸ジルコニウムアンモニウムを含む層、またはアジピン酸ジヒドラジドを含む層をさらに含む請求項３に記載の光触媒製品。
多孔質基材と、
前記多孔質基材上に設けられ、炭酸ジルコニウムアンモニウム、及び酸化タングステンを含有する光触媒を含む表面処理部とを備えた光触媒製品。
多孔質基材と、前記多孔質基材上に設けられ、スメクタイトを含む粘土鉱物、及び酸化タングステンを含有する光触媒を含む表面処理部とを備え、
１０ｐｐｍの濃度のアセトアルデヒドを導入した容積０．５ｌのチャンバー内で、白色蛍光灯ＦＬ２０ＳＷを用い、紫外線カットフィルターにより３８０ｎｍ以下の光をカットしながら、６０００ルクスの照度で光照射され、常温、常圧、湿度２０％で２時間放置されたとき、６０％以上のアセトアルデヒドを削減する光触媒製品。
前記多孔質基材は、不織布である請求項１ないし６のいずれか１項に記載の光触媒製品。
前記多孔質基材は、壁紙である請求項１ないし７のいずれか１項に記載の光触媒製品。
前記多孔質基材は、壁布である請求項１ないし６のいずれか１項に記載の光触媒製品。