JP2020155418A - レーザ励起光源においてポンプ(励起)光と集光光とを分離するためのシステム - Google Patents
レーザ励起光源においてポンプ(励起)光と集光光とを分離するためのシステム Download PDFInfo
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- レーザ励起光源においてポンプ光と集光光とを分離するためのシステムであって、
少なくとも第1波長を含むポンプ照明を生成するように構成されたポンプ光源と、
前記ポンプ光源からの前記ポンプ照明を前記ガス体積中に集光することにより前記ガス体積内にプラズマを生成するように構成された第1集光器であって、前記プラズマが少なくとも第2波長を含む広帯域放射を放出する前記第1集光器と、
前記プラズマにより放出された広帯域放射を集光するように構成された第2集光器であって、前記第1集光器の反対側に位置付けられた前記第2集光器と、
前記少なくとも第1波長を透過させ且つ前記ポンプ光源と前記第1集光器の凹状集光部との間に位置付けられた一以上の窓であって、前記第1集光器、前記第2集光器及び前記一以上の鏡がガス収容素子を構成する前記一以上の窓と、
を備えるシステム。 - 前記第1集光器の内壁に配置され且つ帯域外の光の少なくとも一部を前記プラズマ内へと反射させるように構成された一以上の球面鏡を更に備える、請求項1に記載のシステム。
- 前記一以上の球面鏡は、前記第1集光器の内壁に配置され且つ帯域内の光の少なくとも一部を前記第2集光器上へと反射させるように構成される、請求項2に記載のシステム。
- 前記プラズマにより放出された前記広帯域放射は、真空紫外放射、深紫外放射、紫外放射及び可視放射のうちの少なくとも一つを含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記一以上の窓は第1窓と第2窓とを含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記第2集光器は前記第1窓と前記第2窓との間に位置付けられる、請求項5に記載のシステム。
- 前記第1集光器は、IR光、可視光及びUV光のうちの少なくとも一つを反射させる、請求項1に記載のシステム。
- 前記第2集光器は、VUV光、DUV光及びUV光のうちの少なくとも一つを反射させる、請求項1に記載のシステム。
- 前記第1集光器は、前記プラズマにより放出された前記広帯域放射の少なくとも一部を透過させるための出力を備える、請求項1に記載のシステム。
- 前記第1集光器及び前記第2集光器の少なくともいずれか一方は楕円体集光器を含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記照明光源は一以上のレーザを備える、請求項1に記載のシステム。
- 前記一以上のレーザは、一以上の赤外レーザ、一以上の可視レーザ及び一以上の紫外レーザのうちの少なくとも一つを含む、請求項11に記載のシステム。
- 前記一以上のレーザは、ダイオードレーザ、連続発振レーザ又は広帯域レーザのうちの少なくとも一つを含む、請求項11に記載のシステム。
- 前記ガスは、希ガス、不活性ガス、非不活性ガス及び二以上のガスの混合物のうちの少なくとも一つを含む、請求項1に記載のシステム。
- レーザ励起光源においてポンプ光と集光光とを分離するためのシステムであって、
少なくとも第1波長を含むポンプ照明を生成するように構成されたポンプ光源と、
ガス体積を収容するためのガス収容素子と、
前記ポンプ光源からの前記ポンプ照明を前記ガス体積中に集光することにより前記ガス体積内にプラズマを生成するように構成された第1集光器であって、前記プラズマが少なくとも第2波長を含む広帯域放射を放出する前記第1集光器と、
前記プラズマにより放出された広帯域放射を集光するように構成された第2集光器であって、前記第1集光器の反対側に位置付けられた前記第2集光器と、
を備えるシステム。 - 前記ガス収容素子は、前記ガスを収容するためのプラズマバルブを備える、請求項15に記載のシステム。
- 前記ガス収容素子は、前記ガスを収容するためのプラズマセルを備える、請求項15に記載のシステム。
- 前記プラズマセルは、
透過素子と、
前記ガスを収容するための前記透過素子の一以上の端部に配置された一以上のフランジと、
を備える、請求項15に記載のシステム。 - 前記第1集光器と前記第2集光器は、サイズが異なる、
請求項1に記載のシステム。 - 前記第1集光器と前記第2集光器は、サイズが異なる、
請求項15に記載のシステム。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201361865981P | 2013-08-14 | 2013-08-14 | |
US61/865,981 | 2013-08-14 | ||
US14/459,095 US9709811B2 (en) | 2013-08-14 | 2014-08-13 | System and method for separation of pump light and collected light in a laser pumped light source |
US14/459,095 | 2014-08-13 | ||
JP2019017951A JP6724182B2 (ja) | 2013-08-14 | 2019-02-04 | レーザ励起光源においてポンプ(励起)光と集光光とを分離するためのシステム |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019017951A Division JP6724182B2 (ja) | 2013-08-14 | 2019-02-04 | レーザ励起光源においてポンプ(励起)光と集光光とを分離するためのシステム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020155418A true JP2020155418A (ja) | 2020-09-24 |
JP6951512B2 JP6951512B2 (ja) | 2021-10-20 |
Family
ID=52466829
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016534845A Active JP6476185B2 (ja) | 2013-08-14 | 2014-08-14 | レーザ励起光源においてポンプ(励起)光と集光光とを分離するためのシステム |
JP2019017951A Active JP6724182B2 (ja) | 2013-08-14 | 2019-02-04 | レーザ励起光源においてポンプ(励起)光と集光光とを分離するためのシステム |
JP2020109047A Active JP6951512B2 (ja) | 2013-08-14 | 2020-06-24 | レーザ励起光源においてポンプ(励起)光と集光光とを分離するためのシステム |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016534845A Active JP6476185B2 (ja) | 2013-08-14 | 2014-08-14 | レーザ励起光源においてポンプ(励起)光と集光光とを分離するためのシステム |
JP2019017951A Active JP6724182B2 (ja) | 2013-08-14 | 2019-02-04 | レーザ励起光源においてポンプ(励起)光と集光光とを分離するためのシステム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9709811B2 (ja) |
JP (3) | JP6476185B2 (ja) |
TW (2) | TWI683601B (ja) |
WO (1) | WO2015023886A1 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10217625B2 (en) * | 2015-03-11 | 2019-02-26 | Kla-Tencor Corporation | Continuous-wave laser-sustained plasma illumination source |
US10887974B2 (en) * | 2015-06-22 | 2021-01-05 | Kla Corporation | High efficiency laser-sustained plasma light source |
TWI700965B (zh) * | 2015-06-22 | 2020-08-01 | 美商克萊譚克公司 | 高效率雷射支持之電漿光源 |
US10257918B2 (en) | 2015-09-28 | 2019-04-09 | Kla-Tencor Corporation | System and method for laser-sustained plasma illumination |
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WO2017203791A1 (ja) * | 2016-05-24 | 2017-11-30 | ウシオ電機株式会社 | レーザ駆動光源装置 |
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US10806016B2 (en) * | 2017-07-25 | 2020-10-13 | Kla Corporation | High power broadband illumination source |
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JP2011526377A (ja) | 2008-06-27 | 2011-10-06 | パナビジョン・フェデラル・システムズ・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー | 波長分離ビームスプリッタ |
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KR101877468B1 (ko) | 2011-12-29 | 2018-07-12 | 삼성전자주식회사 | 광원 장치 및 광 생성 방법 |
US9927094B2 (en) | 2012-01-17 | 2018-03-27 | Kla-Tencor Corporation | Plasma cell for providing VUV filtering in a laser-sustained plasma light source |
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US9185788B2 (en) | 2013-05-29 | 2015-11-10 | Kla-Tencor Corporation | Method and system for controlling convection within a plasma cell |
US9558858B2 (en) | 2013-08-14 | 2017-01-31 | Kla-Tencor Corporation | System and method for imaging a sample with a laser sustained plasma illumination output |
-
2014
- 2014-08-13 US US14/459,095 patent/US9709811B2/en active Active
- 2014-08-14 WO PCT/US2014/051138 patent/WO2015023886A1/en active Application Filing
- 2014-08-14 TW TW107121461A patent/TWI683601B/zh active
- 2014-08-14 JP JP2016534845A patent/JP6476185B2/ja active Active
- 2014-08-14 TW TW103127978A patent/TWI650043B/zh active
-
2017
- 2017-07-17 US US15/651,968 patent/US10520741B2/en active Active
-
2019
- 2019-02-04 JP JP2019017951A patent/JP6724182B2/ja active Active
-
2020
- 2020-06-24 JP JP2020109047A patent/JP6951512B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009266704A (ja) * | 2008-04-28 | 2009-11-12 | Ushio Inc | ArFエキシマランプ |
JP2010170994A (ja) * | 2008-12-27 | 2010-08-05 | Ushio Inc | 光源装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI650043B (zh) | 2019-02-01 |
US10520741B2 (en) | 2019-12-31 |
JP6724182B2 (ja) | 2020-07-15 |
JP2019079826A (ja) | 2019-05-23 |
US20170315369A1 (en) | 2017-11-02 |
TW201515519A (zh) | 2015-04-16 |
JP6951512B2 (ja) | 2021-10-20 |
JP6476185B2 (ja) | 2019-02-27 |
TWI683601B (zh) | 2020-01-21 |
WO2015023886A1 (en) | 2015-02-19 |
TW201834508A (zh) | 2018-09-16 |
US9709811B2 (en) | 2017-07-18 |
JP2016534510A (ja) | 2016-11-04 |
US20150049778A1 (en) | 2015-02-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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