JP2020152105A - 積層体およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[積層体の調製]
ポリカーボネート樹脂からなる基層の両面に、紫外線吸収剤が含有されたポリカーボネート樹脂からなる表層を、共押出成形によって形成し、厚さ8mmのポリカーボネート板(タキロンシーアイ社製:製品番号PCSP6658)を用意して試験片とした。
このポリカーボネート板は、基層の厚みが7.90mm、表層の厚みが50μm、表層における樹脂100質量部に対して紫外線吸収剤が6質量部の割合で添加されている。
プライマーとしては、プライマー樹脂としてアクリル樹脂(関東化学株式会社製メタクリル酸メチルポリマー)をプライマー全体の10質量%、表層のポリカーボネート樹脂および紫外線吸収剤を溶解する溶剤としてMIBK(メチルイソブチルケトン)をプライマー全体の5質量%含有し、前記アクリル樹脂100質量部に対してベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(東京化成工業株式会社製1、2、3−ベンゾトリアゾール)を10質量部(この場合、プライマー全体の1質量%)含有し、残部がPGM(プロピレングリコールモノメチルエーテル)で希釈されたものを使用した。すなわち、10質量%のアクリル樹脂、5質量%のMIBK、1質量%の紫外線吸収剤、84質量%のPGMからなる組成のプライマーを使用した。
試験片を5×10mm程度の小片に切断し、アルミ等の金属板で挟んで感光性アクリル樹脂等で包埋した。この小片の断面を精密研磨装置((株)マルトー、ML−160A)にて研磨し、試験片断面の平坦な研磨面を得た。この状態で断面方向より走査型電子顕微鏡により10、000倍以上に拡大して観察し、プライマー層と表層のポリカーボネート界面に生ずる相溶層の厚さを撮影画像により測定した。このとき、必要に応じてアセトンやTHF(テトラフロロフラン)等の溶剤にごく短時間浸漬することにより界面を強調させた。
JIS K 7204 に準拠したテーバー磨耗試験装置によるJIS K 6735 付属書JAに準拠したテーバー磨耗試験(荷重4.9N、回転速度70±5rpm、磨耗輪CS-10F)による100回転後のJIS K 7136 に準拠したヘーズ(曇価)の変化量(ΔH)を求めた。
機器名:メタルウェザー試験機(ダイプラ・ウィンテス株式会社製)
型式:KW−R5TP−A
光源ランプ:メタルハライドランプMW−60W 232L
フィルタ:KF−1フィルタ(石英/295−780nm)
冷却方法:水冷ジャケット方式
試験条件:光照射試験118分→光照射+降雨試験2分/の繰り返し
紫外線量:81mW/cm2(岩崎電機株式会社製UVP365−01にて300〜400nm測定)
BP温度:63±3度
湿度:光照射試験時(50%Rh以下)、光照射+降雨試験時(98%Rh以上)
所要時間:120分/1サイクル
上記した積層体の調製方法により、本発明に係る2種類の積層体(実施例2−3)を用意し、縦75mm×横65mmの大きさに切断して試験片とした。実施例2の積層体は、基層9.90mm、表層50μm、相溶層300nm、プライマー層3μm、ハードコート層8μmである。実施例3の積層体は、基層16.90mm、表層50μm、相溶層300nm、プライマー層3μm、ハードコート層8μmである。
試験:JIS K 7350-4 に準拠
機器名:サンシャインカーボンアーク灯式耐候性試験機(スガ試験機株式会社製)
形式:S80
アーク電圧:直流電圧50V
アーク電流:交流電圧60A
BP温度:63±3度
湿度:50±5%Rh
降雨スプレー時間:18分/120分・1サイクル
降雨スプレー圧力:1.0kgf/cm2
降雨スプレー量:2100±100cc/分
試験時間:10000時間
試験:JIS K 7350-2 に準拠
機器名:スーパーキセノンウェザーメーター(スガ試験機株式会社製)
形式:SX75
フィルタ:デイライトフィルタ(インナ−:石英、アウター:♯295(スガ試験機株式会社製)
放射照度:60W/m2(300−400nm)
照射時ブラックスタンダード温度:63±3度
槽内温度:38±3度
照射時相対湿度:50±5%Rh
降雨スプレー時間:18分/120分・1サイクル
試験時間:10000時間
照度校正:放射照度計(スガ試験機株式会社製RAX34C)にて調整
ヘーズ(曇価)の変化量(ΔH)の測定は、日本電色工業(株)社製ヘーズメーター(型式:NDH7000)を利用し、JIS K 7136に準拠する方法で行った。
黄色度(YI)および黄変度(ΔYI)の測定は、JIS K 7373に準拠する方法で行った。
また、測定には、JIS Z 8722に準拠する下記の測定装置と条件で行った。
機器名:測色試験機(日本電色工業(株)社製)
型式:SE−2000
測定モード:反射モード
測定事項:色差
測定範囲:30mmφ
光源:C光源
測定視野:2°
Claims (10)
- ポリカーボネート樹脂からなる基層と、
基層の少なくとも片面に積層されるポリカーボネート樹脂からなる膜状の表層と、
表層に積層される膜状のプライマー層と、
プライマー層に積層される膜状のハードコート層と、を備え、
前記表層と、前記プライマー層と、前記ハードコート層との全ての層に紫外線吸収剤が配合されているとともに、
前記基層と前記表層とが、共押出成形によって一体的に形成されていることを特徴とする積層体。 - JIS K 7204 に準拠したテーバー磨耗試験装置を用いたJIS K 6735 付属書JAに準拠したテーバー磨耗試験(荷重4.9N、回転速度70±5rpm、磨耗輪CS-10F)による100回転後のJIS K 7136 に準拠したヘーズ(曇価)の変化量(ΔH)が15%以下であり、
JIS K 7350-4 に準拠したサンシャインウェザー試験による1万時間経過後のJIS K 7136に準拠したヘーズ(曇価)の変化量(ΔH)が10%以下である請求項1に記載の積層体。 - JIS K 7204 に準拠したテーバー磨耗試験装置を用いたJIS K 6735 付属書JAに準拠したテーバー磨耗試験(荷重4.9N、回転速度70±5rpm、磨耗輪CS-10F)による100回転後のJIS K 7136 に準拠したヘーズ(曇価)の変化量(ΔH)が15%以下であり、
JIS K 7350-4 に準拠したサンシャインウェザー試験による1万時間経過後のJIS K 7373に準拠した黄色度(YI)が7以下である請求項1または2に記載の積層体。 - JIS K 7204 に準拠したテーバー磨耗試験装置を用いたJIS K 6735 付属書JAに準拠したテーバー磨耗試験(荷重4.9N、回転速度70±5rpm、磨耗輪CS-10F)による100回転後のJIS K 7136 に準拠したヘーズ(曇価)の変化量(ΔH)が15%以下であり、
JIS K 7350-4 に準拠したサンシャインウェザー試験による1万時間経過後のJIS K 7373に準拠した黄変度(ΔYI)が7以下である請求項1ないし3の何れか一に記載の積層体。 - JIS K 7204 に準拠したテーバー磨耗試験装置を用いたJIS K 6735 付属書JAに準拠したテーバー磨耗試験(荷重4.9N、回転速度70±5rpm、磨耗輪CS-10F)による100回転後のJIS K 7136 に準拠したヘーズ(曇価)の変化量(ΔH)が15%以下であり、
ブラックパネル温度63℃、紫外線量81mW/cm2の雰囲気下で60ワットのメタルハライドランプによる118分の光照射をした後、当該光照射とともに2分間の散水を行い、これを反復して繰り返すメタルウェザー試験による700時間経過後のJIS K 7373に準拠した黄変度(ΔYI)が2以下である請求項1ないし4の何れか一に記載の積層体。 - 表層は5μm以上100μm以下に形成され、プライマー層は2μm以上5μm以下に形成され、ハードコート層は3μm以上10μm以下に形成されてなる請求項1ないし5の何れか一に記載の積層体。
- 表層とプライマー層との間は、プライマー層を構成するプライマー組成物中の溶剤が、表層のポリカーボネート樹脂を溶解し、当該ポリカーボネート樹脂とプライマー樹脂とが相溶されることによって形成された厚さ80nm〜800nmの相溶層を介して密着されてなる請求項1ないし6の何れか一に記載の積層体。
- ハードコート層よりも表層およびプライマー層に多くの紫外線吸収剤が含有され、
表層よりもプライマー層に多くの紫外線吸収剤が含有されてなる請求項1ないし7の何れか一に記載の積層体。 - ポリカーボネート樹脂材料からなる基層材料と、紫外線吸収剤が含有されたポリカーボネート樹脂からなる表層材料とを共押出成形して基層の少なくとも片面に紫外線吸収剤が含有された膜状の表層を積層したポリカーボネート層を形成する工程と、
前記表層の表面に、紫外線吸収剤と、溶剤と、プライマー樹脂とを含むプライマー組成物を塗布して加熱乾燥させることによって、当該表層に含まれる紫外線吸収剤よりも多くの紫外線吸収剤が含有された膜状のプライマー層を形成する工程と、
前記プライマー層の表面に、紫外線吸収剤が含有されたオルガノポリシロキサン組成物を塗布し、脱水縮合反応によるシロキサン結合の膜状のハードコート層を形成する工程と、を具備することを特徴とする積層体の製造方法。 - プライマー層を形成する工程において、
表層のポリカーボネート樹脂を溶解してプライマー樹脂と相溶する溶剤が3質量%〜15質量%の割合で含有されたプライマー組成物を用いる請求項9に記載の積層体の製造方法。
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