JP2020149071A5 - - Google Patents

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  1. 干渉フィルタであって、
    前記干渉フィルタは、層スタックを備え、
    前記層スタックは、複数の層を備え、
    前記複数の層は、
    水素化非晶質ケイ素の層と、
    前記水素化非晶質ケイ素の屈折率より低い屈折率を有する1つ以上の誘電材料の層と
    を少なくとも含み、
    前記1つ以上の誘電材料の層は、1.9以上かつ2.7以下の範囲内の屈折率を有する誘電材料の層を含み、
    前記1つ以上の誘電材料の層は、SiO層をさらに含み、
    前記層スタックは、750nm以上かつ1100nm以下の通過帯域波長範囲を有するように構成されており、
    前記層スタックは、水素化非晶質ケイ素の介在層を伴うことなく、1.9以上かつ2.7以下の範囲内の屈折率を有する誘電材料の層に直接隣接する少なくとも1つのSiO層を含む、干渉フィルタ。
  2. .9以上かつ2.7以下の範囲内の屈折率を有する誘電材料の層は、Si、SiO(yは、1.9以上の屈折率を提供するために十分に大きい)、Ta、Nb、または、TiOを備えている1つ以上の層を含む、請求項に記載の干渉フィルタ。
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