JP2020143597A - 電極付きハニカム基材 - Google Patents
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Abstract
【課題】電極端部における電流集中によるハニカム基材の局所的な発熱を抑制することが可能な電極付きハニカム基材を提供する。【解決手段】電極付きハニカム基材1は、複数のセル21を区画形成する隔壁22と隔壁22の外周を取り囲む外周壁23とを備えるハニカム基材2と、外周壁23の表面に対向して設けられた一対の電極3と、を有する。外周壁23は、一対の平行な側面部231と、一対の側面部23における同じ側の端縁間をそれぞれ連結する一対の対向する電極形成面部232とを有する。電極3は、電極形成面部232の表面を覆っており、かつ、ガス流れ方向(G)と直交する直交断面で見て、電極形成面部232の両端部まで形成されている。【選択図】図1
Description
本発明は、電極付きハニカム基材に関する。
従来、内燃機関で生じた排ガスを浄化するために排気管に設けられる触媒装置では、触媒を担持するハニカム基材を通電加熱し、ハニカム基材を発熱させる技術が公知である。この場合、電圧を印加するため、ハニカム基材の外周壁の表面に対向するように一対の電極が設けられる。
例えば、特許文献1には、一対の電極が、外部ケーブルが接続された位置から一対の電極間の距離が短くなる方向、つまり、電極端部方向に向かって体積抵抗率が高くなるように構成されている電極付きハニカム基材が開示されている。この文献によれば、ハニカム基材の各部位での発熱が均等化され、ハニカム基材の温度ムラを少なくして均一な温度分布に近づけることが可能とされている。
従来技術は、電極に比抵抗の傾斜を設けることにより、通電加熱時におけるハニカム基材の温度分布を小さくしようとするものである。しかし、従来技術では、電極端部における電流集中を抑制することが難しく、かかる電流集中によってハニカム基材に局所的な発熱が生じる。ハニカム基材に局所的な発熱が生じると、基材内温度分布に起因して熱応力が発生する。また、部分的な触媒の過昇温により、触媒が熱劣化する。
本発明は、かかる課題に鑑みてなされたものであり、電極端部における電流集中によるハニカム基材の局所的な発熱を抑制することが可能な電極付きハニカム基材を提供しようとするものである。
本発明の一態様は、複数のセル(21)を区画形成する隔壁(22)と、上記隔壁の外周を取り囲む外周壁(23)と、を備えるハニカム基材(2)と、
上記外周壁の表面に対向して設けられた一対の電極(3)と、を有する電極付きハニカム基材(1)であって、
上記外周壁は、
一対の平行な側面部(231)と、
一対の上記側面部における同じ側の端縁間をそれぞれ連結する一対の対向する電極形成面部(232)と、を有しており、
上記電極は、
上記電極形成面部の表面を覆っており、かつ、ガス流れ方向(G)と直交する直交断面で見て、上記電極形成面部の両端部まで形成されている、
電極付きハニカム基材(1)にある。
上記外周壁の表面に対向して設けられた一対の電極(3)と、を有する電極付きハニカム基材(1)であって、
上記外周壁は、
一対の平行な側面部(231)と、
一対の上記側面部における同じ側の端縁間をそれぞれ連結する一対の対向する電極形成面部(232)と、を有しており、
上記電極は、
上記電極形成面部の表面を覆っており、かつ、ガス流れ方向(G)と直交する直交断面で見て、上記電極形成面部の両端部まで形成されている、
電極付きハニカム基材(1)にある。
上記電極付きハニカム基材において、電極形成面部の表面を覆う電極は、ガス流れ方向と直交する直交断面で見て、電極形成面部の両端部まで形成されている。それ故、上記電極付きハニカム基材によれば、両方の電極の端部における電流集中が抑制され、電極の端部付近におけるハニカム基材の局所的な発熱を抑制することができる。
なお、特許請求の範囲および課題を解決する手段に記載した括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものであり、本発明の技術的範囲を限定するものではない。
(実施形態1)
実施形態1の電極付きハニカム基材について、図1〜図6を用いて説明する。本実施形態の電極付きハニカム基材1は、図1に例示されるように、ハニカム基材2と、一対の電極3と、を有している。
実施形態1の電極付きハニカム基材について、図1〜図6を用いて説明する。本実施形態の電極付きハニカム基材1は、図1に例示されるように、ハニカム基材2と、一対の電極3と、を有している。
電極付きハニカム基材1は、例えば,触媒(白金、パラジウム、ロジウム等)が担持された状態で、図2に例示されるように、内燃機関(不図示)で生じた排ガスFを浄化するために排気管91に設けられた電気加熱式触媒装置9に適用されることができる。なお、図2中、矢印Gの方向が、電極付きハニカム基材1におけるガス流れ方向Gである。
図2では、具体的には、排気管91の途中にケース筒体92が取り付けられ、ケース筒体92内に電極付きハニカム基材1が収容されている例が示されている。電極付きハニカム基材1とケース筒体92との間には、絶縁性を有する保持部材93が配置されている例が示されている。図2では、電極付きハニカム基材1の各電極3にそれぞれ電極端子4が電気的に接続され、一対の電極端子4を介して一対の電極3間に電圧を印加することにより、ハニカム基材2を通電発熱させることが可能とされている。なお、図2では、バッテリー等の電源94からの電力が、スイッチング回路95、遮断回路96を介して一対の電極端子4に給電されるように構成されている例が示されているが、これに限定されない。電圧の印加方式も、直流方式、交流方式、パルス方式等、いずれの方式であってもよい。
ハニカム基材2は、図1に例示されるように、複数のセル21を区画形成する隔壁22と、隔壁22の外周を取り囲む外周壁23と、を備えている。セル21は、排ガスFが流される流路である。例えば、図1では、隔壁22が、ガス流れ方向Gと直交する直交断面(以下、単に「直交断面」ということがある。)で見て、正方形状の複数のセル21を区画形成する例が示されている。つまり、本実施形態では、隔壁22は、格子状に形成されている。隔壁22は、他にも、六角形状の複数のセル等、公知の形状の複数のセル21を区画形成するように構成されることもできる。なお、図1において、隔壁22は、便宜上、線によって表されており、壁厚等は省略されている。本実施形態において、排ガスFは、具体的には、ハニカム基材2の上流側端面より各セル21に流入し、ガス流れ方向Gに沿ってセル21内を流れた後、ハニカム基材2の下流側端面より排出される。
ここで、外周壁23は、図1に例示されるように、一対の側面部231と、一対の電極形成面部232と、を有している。一対の側面部231は、互いに離間された状態で平行に配置されている。なお、ここにいう平行とは、一対の側面部231が幾何学的に厳密な意味で平行とされていることを意味するものではなく、平行とみなされる範囲であれば本開示の効果が得られる範囲で幅を持つ意味である。また、一対の電極形成面部232は、互いに離間された状態で対向配置されている。一対の電極形成面部232は、一対の側面部231における同じ側の端縁間をそれぞれ連結している。つまり、一方の電極形成面部232は、一対の側面部231における同じ側にある端縁間を連結しており、他方の電極形成面部232は、一対の側面部231における上記同じ側とは反対側にある端縁間を連結している。隔壁22は、具体的には、図1に例示されるように、一方の側面部231、一方の電極形成面部232、他方の側面部231、他方の電極形成面部232の端縁同士が連結された外周壁23によって取り囲まれ、外周壁23によって一体に保持されている。
本実施形態では、電極形成面部232は、それぞれ、図1に例示されるように、直交断面で見て、電極3側に凸となる湾曲形状とされている。この構成によれば、保持部材93により保持しやすい電極付きハニカム基材1が得られる。さらに、この場合、電極形成面部232の曲率半径は、ハニカム基材2の基材断面の水力直径の半径以上とすることができる。この構成によれば、ハニカム基材2の基材断面の側面部231側と中央部との電気抵抗差が小さくなり、発熱量の差が小さくなるので、ハニカム基材2内の温度上昇差を小さくすることが可能になる。
電極形成面部232の曲率半径は、好ましくは、ハニカム基材2の基材断面の水力直径の半径より大きいとよい。具体的には、上記曲率半径をr、上記水力直径の半径をdとしたとき、電極付きハニカム基材1は、{r/d}の比が、好ましくは、1.5以上、より好ましくは、2以上、さらに好ましくは、2.5以上、さらにより好ましくは、3以上とすることができる。水力直径Dは、D=4A/L(但し、Aはハニカム基材2の断面積、Lはハニカム基材2の断面周長)より計算することができる。
なお、上述したハニカム基材2は、例えば、直交断面で見て、外周壁が円形状である円形状ハニカム基材(不図示)から上述した形状となるように切り出すことなどによって形成することが可能である。上記切り出し後、必要に応じて研磨等を行ってもよい。また、ハニカム基材2は、上述した形状を形成可能な金型を用いて原料坏土を押し出し、得られた成形体を焼成することにより形成することも可能である。
一対の電極3は、外周壁23の表面に対向して設けられている。具体的には、電極3は、電極形成面部232の表面をそれぞれ覆っている。ここで、電極3は、いずれも、図1に例示されるように、直交断面で見て、電極形成面部232の両端部まで形成されている。これについて図3を用いて詳細に説明する。なお、図3(a)〜図3(d)は、図1にて丸印で囲んだ電極形成面部232の片側端部の周辺部分を拡大して示したものである。
電極形成面部232の端部まで電極3が形成されているか否かは、電極形成面部232の表面に形成された電極3の端部を、直交断面で見ることにより判断される。具体的には、図3(a)〜図3(c)に例示されるように、直交断面で見て、側面部231に接しかつ側面部231の面方向に沿って並んだセル21の並びを1列目のセル列L1として、一対の側面部231に垂直な垂直方向の内方に向かって順にセル列を2列目、3列目・・・と数えるとき、2列目のセル列L2と3列目のセル列L3との境界にある隔壁22における2列目のセル列L2側の壁面の延長線C2よりも上記垂直方向の外方に電極3の端部が存在する場合に、電極形成面部232の端部まで電極3が形成されていると判断される。つまり、上記定義によれば、直交断面で見て、側面部231表面の延長線である側面部231の表面線231Aよりも外側に電極3の端部が飛び出している(はみ出している)態様も、電極形成面部232の端部まで電極3が形成されているという概念に含まれる。なお、図3(d)に例示されるように、2列目のセル列L2と3列目のセル列L3との境界にある隔壁22における2列目のセル列L2側の壁面の延長線C2よりも上記垂直方向の内方に電極3の端部が存在する場合には、電極形成面部232の端部まで電極3が形成されているとは判断されない。
電極付きハニカム基材1では、電極形成面部232の表面を覆う電極3は、直交断面で見て、電極形成面部232の両方の端部まで形成されている。それ故、電極付きハニカム基材1によれば、ハニカム基材2と電極3との形状を工夫することにより両方の電極3の端部における電流集中が抑制され、電極3の端部付近におけるハニカム基材2の局所的な発熱を抑制することができる。以下、電流集中が抑制されるメカニズムについて、図4および図5を用いて説明する。なお、図4および図5では、電極付きハニカム基材1の直交断面の右上部分(4分の1)だけが示されている。
図5に示した比較形態の電極付きハニカム基材1’では、電極3が電極形成面部232の両端部まで形成されていない。この場合、電極3が形成されていない基材部分に流れる電流Iは、基本的に電極3の端の点とその真下の基材部分を経由する。したがって、この場合には、電極3の端の点とその真下のセル21に集中する電流量は、それより外側にあるセル21の数に比例して大きくなる。よって、比較形態の電極付きハニカム基材1’では、両方の電極3の端部における電流集中により、電極3の端部付近におけるハニカム基材2の局所的な発熱を抑制することができない。このような局所的な発熱は、特に急速昇温過程で生じる。これに対し、図4に示した実施形態の電極付きハニカム基材1では、電極3が電極形成面部232の両端部まで形成されている。実施形態によれば、ハニカム基材2に流れる電流Iは、基本的に、電極3から真下に分配される。そして、実施形態によれば、電極3の端より外側にあるセル21が少なくなるため、上述した電流の集中が抑制され、電極3の端部付近におけるハニカム基材2の局所的な発熱を抑制することができる。それ故、実施形態によれば、急速昇温過程で発生する熱応力の抑制に有利となる。
なお、上述した図3(a)では、具体的には、電極3の端部の先端面30が、側面部231の表面線231Aと揃っている例が示されている。図3(b)では、具体的には、2列目のセル列L2と3列目のセル列L3との境界にある隔壁22における2列目のセル列L2側の壁面の延長線C2よりも上記垂直方向の外方、かつ、1列目のセル列L1と2列目のセル列L2との境界にある隔壁22における1列目のセル列L1側の壁面の延長線C1よりも上記垂直方向の内方の範囲にある電極形成面部232の表面上に、電極3の端部が存在している例が示されている。図3(c)では、具体的には、1列目のセル列L1と2列目のセル列L2との境界にある隔壁22における1列目のセル列L1側の壁面の延長線C1よりも上記垂直方向の外方、かつ、側面部231の表面線231Aよりも上記垂直方向の内方の範囲にある電極形成面部232の表面上に、電極3の端部が存在している例が示されている。
また、上述した図3(a)〜図3(c)では、いずれも、直交断面で見て、電極3の端部が、側面部231の表面線231Aよりも外側に飛び出していない(突出していない)構成とされている。この構成によれば、電極付きハニカム基材1をキャニングする際に、ケース筒体92に片当たりし難くなるので、側面部231より飛び出した電極3の端部に応力が集中することを回避することができる。そのため、この構成によれば、キャニング時におけるハニカム基材2の破損や電極3の剥離、ずれなどを抑制することができる。なお、電極付きハニカム基材1は、電極形成面にて保持されていてもよいし、一対の側面部231にて保持されていてもよいし、その両方、つまり、全外壁面にて保持されていてもよい。キャニング時に一対の側面部231に保持部材93が接する場合には、上記構成による効果を大きくすることができる。
直交断面で見て、側面部231表面の延長線である側面部231の表面線231Aと、電極3の端部の先端面30との間の距離は、セル21のピッチpの2倍未満、好ましくは、セル21のピッチpの1倍未満とされているとよい。この構成によれば、電極3が、電極形成面部232の両端部まで形成されている状態を確保しやすくなる。また、この構成によれば、電極付きハニカム基材1を通電加熱した際に、ハニカム基材2内の最も昇温速度の速い高温部の昇温速度Vmaxに対する、最も昇温速度の遅い低温部の昇温速度Vminの比の百分率で表されるVmin/Vmax[単位:%]を大きくしやすくなり、その結果、ハニカム基材2内の温度分布を小さくしやすくなる。なお、Vmin/Vmaxは、ハニカム基材2内の局所発熱の度合いと関係があるパラメータである。
一般に、ガソリンや軽油を燃料とする内燃機関の排ガス浄化用の触媒は、350℃−400℃程度で一定の浄化率を示し、温度の上昇に伴って浄化率が向上する。その一方で、1000℃以上の高温になると、触媒に使用されている貴金属の凝集や触媒表面積の低下によって不可逆的な触媒活性の低下が起こる。そのため、ハニカム基材2内の低温部の温度は、350℃超であるとよく、浄化率向上等の観点から、450℃超であるとよい。また、ハニカム基材2内の最も高温部の温度は、1050℃未満であるとよく、触媒活性の低下抑制等の観点から、900℃未満であるとよい。これらを考慮すると、上述したVmin/Vmaxの値は、好ましくは、33%(=100×350℃/1050℃)超、より好ましくは、35%以上、さらに好ましくは、40%以上、さらにより好ましくは、50%(=100×450℃/900℃)以上、さらにより一層好ましくは、60%以上とすることができる。なお、Vmin/Vmaxの値が100%であることは、ハニカム基材2内の温度分布が全くないことを意味する。Vmin/Vmaxは、製造上のバラツキなどを考慮し、90%以下とすることができる。
直交断面で見て、電極3の厚みは、図1に例示されるように、電極形成面部232の面方向で一定とされることができる。また、電極3の厚みは、図4に例示されるように、一対の側面部231に近づくにつれて薄くなる構成とすることもできる。この構成によれば、側面部231近くの電極3の厚みが小さくなるため、側面部231近くの電極3の電気抵抗値が大きくなり、通電加熱時の発熱量が増加する。また、電極3の熱容量を抑えることができるため、電極3の温度上昇も早くなる。そのため、この構成によれば、電極形成面部232の面方向で電極3の厚みが同じとされている場合に比べ、側面部231付近におけるハニカム基材2内部の温度上昇を起こすことなく電極3の端部温度を上げることができ、ハニカム基材2と電極3との間に発生する温度差を小さくすることができる。
電極付きハニカム基材1において、ハニカム基材2の熱容量は、電極3の熱容量よりも大きい構成とすることができる。この構成によれば、通電加熱によりハニカム基材2を効率的に温めることができる。ハニカム基材2の熱容量と電極3の熱容量との比は、具体的には、10:1から100:1の範囲から選択することができる。この構成によれば、電極3の熱容量を抑えることにより、ハニカム基材2に消費される熱の比率を増やすことができ、通電加熱によりハニカム基材2を効率的に温めることができる。ハニカム基材2の熱容量と電極3の熱容量との比は、好ましくは、20:1から100:1の範囲、より好ましくは、30:1から100:1の範囲、さらに好ましくは、50:1から100:1の範囲から選択することができる。
電極付きハニカム基材1において、電極3は、電極形成面部232に接合されていてもよいし、接合されていなくてもよい。図6では、具体的には、電極3が、電極/基材間接合層5を介して電極形成面部232に接合されている例が示されている。電極3が電極形成面部232に接合されている場合には、電極3が電極形成面部232に接合されていない場合に比べ、電極3とハニカム基材2との間の界面抵抗を小さくしやすくなり、界面部分における発熱を抑制しやすくなる。そのため、この場合には、ハニカム基材2と電極3との間の温度差を小さくしやすくなり、ハニカム基材2を設計通りに温めるのに有利である。
電極付きハニカム基材1は、一対の電極3に一対の電極端子4が電気的に接続されて通電加熱されるように構成されることができる。一対の電極端子4は、図1に例示されるように、一対の電極形成面部232のそれぞれの表面における中心点間を通る中心線M上に配置されることができる。電極端子4は、電極3に接合されていてもよいし、接合されていなくてもよい。図6では、電極端子4が、電極/電極端子間接合層6を介して電極3に接合されている例が示されている。電極端子4が電極3に接合されている場合には、電極端子4が電極3に接合されていない場合に比べ、電極3と電極端子4との間の界面抵抗を小さくしやすくなり、界面部分における発熱を抑制しやすくなる。
電極付きハニカム基材1において、ハニカム基材2を構成する材料としては、導電性セラミックスなどが挙げられる。ハニカム基材2を構成する材料としては、具体的には、Si(シリコン)を含む材料などを挙げることができる。電極3を構成する材料としては、導電性セラミックスなどが挙げられる。電極3を構成する材料としては、具体的には、Si(シリコン)を含む材料などを挙げることができる。電極/基材間接合層5、電極/電極端子間接合層6を構成する材料としては、いずれも導電性セラミックスなどが挙げられる。電極/基材間接合層5、電極/電極端子間接合層6を構成する材料としては、具体的には、いずれもSi(シリコン)を含む材料などを挙げることができる。電極端子4を構成する材料としては、導電性セラミックスなどが挙げられる。電極端子4を構成する材料としては、具体的には、Si(シリコン)を含む材料などを挙げることができる。
電極付きハニカム基材1において、電極3は、電極形成面部232の面方向において材質が同じとされている構成とすることができる。なお、電極形成面部232の面方向において材質が同じとは、電極形成面部232の面方向に電極組成の傾斜が見られないことを意味する。この構成によれば、電極3の組成に傾斜を設けなくて済むので、電極3の形成が容易になる。また、特殊な電極材料を用いる必要もなくなる。
電極付きハニカム基材1は、一対の側面部231の表面をそれぞれ覆う絶縁層(不図示)を有することができる。この構成によれば、一対の電極3間の短絡防止に有利である。この際、絶縁層は、電極3の端部をさらに覆う構成とすることができる。この構成によれば、上述した効果をより享受しやすくなる。
(実施形態2)
実施形態2の電極付きハニカム基材について、図7を用いて説明する。なお、実施形態2以降において用いられる符号のうち、既出の実施形態において用いた符号と同一のものは、特に示さない限り、既出の実施形態におけるものと同様の構成要素等を表す。
実施形態2の電極付きハニカム基材について、図7を用いて説明する。なお、実施形態2以降において用いられる符号のうち、既出の実施形態において用いた符号と同一のものは、特に示さない限り、既出の実施形態におけるものと同様の構成要素等を表す。
図7に例示されるように、本実施形態の電極付きハニカム基材1では、一対の電極形成面部232が、直交断面で見て、互いに平行(平行の意味については、実施形態1と同様)な平坦形状とされている点で、実施形態1の電極付きハニカム基材1と異なっている。このような構成であっても、電極形成面部232の表面を覆う電極3が、直交断面で見て、電極形成面部232の両端部まで形成されておれば、両方の電極3の端部における電流集中が抑制され、電極3の端部付近におけるハニカム基材2の局所的な発熱を抑制することができる。その他の構成および作用効果は、実施形態1と同様である。
(実験例1)
図8(a)〜(f)に示されるハニカム基材と電極の形状組み合わせに関する直交断面での各端部モデルについて、シミュレーションによりVmin/Vmaxを算出した。Vmin/Vmaxは、電極付きハニカム基材1を通電加熱した際に、ハニカム基材2内の最も昇温速度の速い高温部の昇温速度Vmaxに対する、最も昇温速度の遅い低温部の昇温速度Vminの比の百分率で表される。
図8(a)〜(f)に示されるハニカム基材と電極の形状組み合わせに関する直交断面での各端部モデルについて、シミュレーションによりVmin/Vmaxを算出した。Vmin/Vmaxは、電極付きハニカム基材1を通電加熱した際に、ハニカム基材2内の最も昇温速度の速い高温部の昇温速度Vmaxに対する、最も昇温速度の遅い低温部の昇温速度Vminの比の百分率で表される。
本実験例では、具体的には、ハニカム基材には、基材断面の水力直径を103mm、ハニカム基材のハニカム軸方向の全長さを60mm、隔壁の壁厚を0.132mm、セルピッチpを1.14mmのものを用いた。そして、ハニカム基材の各電極形成面部の表面にそれぞれ形成された一対の所定の電極間に、30秒でハニカム基材の中心部を500℃まで昇温するために必要な電力(5kW−10kW)を投入した際におけるハニカム基材内の昇温速度をシミュレーションにより求め、Vmin/Vmaxを算出した。
上述した端部モデルは、具体的には、次の通りである。図8(a)、(b)、(c)、(f)では、電極3の端部は、側面部231の表面線231Aよりも外側に飛び出しておらず、表面線231と揃った状態とされている。さらに、図8(c)では、側面部231の表面と電極231の端部の先端面30とが絶縁層231aにて被覆されている。図8(d)では、側面部231の表面線231Aと電極3の端部との距離xがpとされている。図8(e)では、側面部231の表面線231Aと電極3の端部との距離xが2pとされている。図8(a)、(b)、(c)では、電極3の厚みは、一定とされているが、図8(f)では、電極3の厚みは、側面部231に近づくにつれて徐々に薄くされている。なお、図8(a)〜(d)、(f)は、いずれも、上述した定義に基づけば、電極形成面部232の端部まで電極3が形成されている端部モデルである。これに対し、図8(e)は、2列目のセル列L2と3列目のセル列L3との境界にある隔壁22における2列目のセル列L2側の壁面の延長線C2上に電極3の端部がある。つまり、図8(e)は、延長線C2よりも外方に電極3の端部が存在していない。したがって、図8(e)は、電極形成面部232の端部まで電極3が形成されていない端部モデルである。
上記の結果を、表1にまとめて示す。
表1に示されるように、図8(a)、(d)、(e)の各端部モデルを比較すると、電極の端部が側面部から離れ、電極形成面部上に電極に覆われていない電極非形成面が多くなるにつれ、Vmin/Vmaxが小さくなった。特に、図8(e)の端部モデルでは、Vmin/Vmaxが33%と最も小さかった。この場合には、上述した理由により、電極端部における電流集中によるハニカム基材の局所的な発熱を抑制することが難しいと判断した。その他の端部モデルについては、図8(e)の端部モデルに比べ、Vmin/Vmaxが大きくなった。この結果から、電極形成面部の両端部まで電極が形成されていることにより、電極端部における電流集中によるハニカム基材の局所的な発熱を抑制することが可能であるといえる。
(実験例2)
直交断面で見て、電極側に凸となる湾曲形状とされている電極形成面部を有するハニカム基材について、ハニカム基材の基材断面の水力直径の半径dに対する電極形成面部の曲率半径rの比であるr/dを変更し(水準1〜水準6)、実験例1と同様にしてVmin/Vmaxを求めた。その結果を、表2に示す。なお、r/dが無限大である水準6は、図7に示されるように基材断面が四角形状の形状とされていることを意味する。また、図9((a)に水準1、図9(b)に水準3、図9(c)に水準4、図9(d)に水準5の各電極付きハニカム基材の形状を示す。
直交断面で見て、電極側に凸となる湾曲形状とされている電極形成面部を有するハニカム基材について、ハニカム基材の基材断面の水力直径の半径dに対する電極形成面部の曲率半径rの比であるr/dを変更し(水準1〜水準6)、実験例1と同様にしてVmin/Vmaxを求めた。その結果を、表2に示す。なお、r/dが無限大である水準6は、図7に示されるように基材断面が四角形状の形状とされていることを意味する。また、図9((a)に水準1、図9(b)に水準3、図9(c)に水準4、図9(d)に水準5の各電極付きハニカム基材の形状を示す。
表2に示されるように、r/dの比が大きくなるにつれて、Vmin/Vmaxが大きくなった。この結果から、r/dの比が大きくなるにつれて、ハニカム基材2の温度上昇差を小さくすることが可能になることがわかる。これは、r/dの比が大きくなるにつれて、ハニカム基材の基材断面の側面部側と中央部との電気抵抗差が小さくなり、発熱量の差が小さくなったためである。
本発明は、上記各実施形態、各実験例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能である。
1 電極付きハニカム基材
2 ハニカム基材
21 セル
22 隔壁
23 外周壁
231 側面部
232 電極形成面部
3 電極
G ガス流れ方向
F 排ガス
2 ハニカム基材
21 セル
22 隔壁
23 外周壁
231 側面部
232 電極形成面部
3 電極
G ガス流れ方向
F 排ガス
Claims (8)
- 複数のセル(21)を区画形成する隔壁(22)と、上記隔壁の外周を取り囲む外周壁(23)と、を備えるハニカム基材(2)と、
上記外周壁の表面に対向して設けられた一対の電極(3)と、を有する電極付きハニカム基材(1)であって、
上記外周壁は、
一対の平行な側面部(231)と、
一対の上記側面部における同じ側の端縁間をそれぞれ連結する一対の対向する電極形成面部(232)と、を有しており、
上記電極は、
上記電極形成面部の表面を覆っており、かつ、ガス流れ方向(G)と直交する直交断面で見て、上記電極形成面部の両端部まで形成されている、
電極付きハニカム基材(1)。 - 上記直交断面で見て、上記電極の端部が、上記側面部表面の延長線である上記側面部の表面線(231A)よりも外側に飛び出していない、請求項1に記載の電極付きハニカム基材。
- 上記直交断面で見て、上記電極形成面部は、上記電極側に凸となる湾曲形状とされており、上記電極形成面部の曲率半径は、上記ハニカム基材の基材断面の水力直径の半径以上である、請求項1または2に記載の電極付きハニカム基材。
- 上記電極形成面部に上記電極が接合されている、請求項1〜3のいずれか1項に記載の電極付きハニカム基材。
- 上記電極は、上記電極形成面部の面方向において材質が同じとされている、請求項1〜4のいずれか1項に記載の電極付きハニカム基材。
- 上記直交断面で見て、上記側面部表面の延長線である上記側面部の表面線(231A)と、上記電極の端部の先端面(30)との間の距離が、上記セルのピッチ(p)の2倍未満である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の電極付きハニカム基材。
- 上記ハニカム基材の熱容量と上記電極の熱容量との比が、10:1から100:1の範囲にある、請求項1〜6のいずれか1項に記載の電極付きハニカム基材。
- 上記直交断面で見て、上記電極の厚みは、一対の上記側面部に近づくにつれて薄くなる、請求項1〜7のいずれか1項に記載の電極付きハニカム基材。
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