JP2020134763A - 位相シフトマスクの製造方法および位相シフトマスク - Google Patents
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Abstract
Description
位相シフトマスクは、隣接するパターンの回折光による干渉を打ち消すために隣接する2つのパターン部の光位相を反転させている。フォトマスクとして位相シフトマスクを使用した場合、ウェーハへの露光時の解像度や焦点深度を改善し、転写特性を向上させることができる。位相シフトマスクには主に、ハーフトーン型、レベンソン型(渋谷・レベンソン型)、およびクロムレス型がある。
レベンソン型位相シフトマスク(レベンソンマスク)では、マスクパターン上の隣接する2つの透光部(開口パターン)を透過する光の位相を互いに異なる状態となるようにし、干渉させることで露光強度比を向上させ、パターンの解像度(マスクパターンで回折した光のウェーハ上の転写像の解像度)を上げる手法を用いている。この手法では、隣接する2つの透光部同士の位相差をほぼ反転した逆位相状態にさせることで、開口パターン境界部の光強度を0とし、転写像においてパターンを分離できる(すなわち、パターンを解像できる)ようにしている。
前記第1の透光部および前記第2の透光部は平面視長方形状であり、前記第1の透光部と前記第2の透光部は、各々の長手方向が同じ方向であるように所定の間隔で交互に配置されていてもよい。
まず、メインパターンとして、位相が0°のガラス部上にCr部11を設けている。なお、本明細書中において、基板の平面視で、互いに直交する2方向のうちの一方の方向を「上下方向L1」とし、他方向を「左右方向L2」とする。さらに、基板の平面に垂直な方向を「垂直方向L3」とする。図1の例では、Cr部11は、左右方向L2に沿った長さが上下方向L1に沿った長さよりも長い平面視長方形状に形成されている。すなわち、Cr部11は、左右方向L2に延びる(長手方向が左右方向L2である)平面視長方形状である。ただし、Cr部11の形状はこの場合に限定されるものではなく、適宜変更して構わない。
2つのCr部11に挟まれた領域には、位相が異なるガラス部(第1の透光部12と第2の透光部13)が配置されるようにする。図1の例では、第1の透光部12は位相が0°のガラス部であり、第2の透光部13は位相が180°のガラス部である。ただし、第1の透光部と第2の透光部の位相はこの場合に限定されるものではなく、第1の透光部と第2の透光部が光学位相的にほぼ180°の位相差の関係となるように設定されていればよい。
また、図1の例では、第1の透光部12および第2の透光部13の各々は、左右方向L2に沿った長さが上下方向L1に沿った長さよりも長い平面視長方形状に形成されている。すなわち、第1の透光部12および第2の透光部13は、左右方向L2に延びる(長手方向が左右方向L2である)平面視長方形状である。ただし、第1の透光部12および第2の透光部13の形状はこの場合に限定されるものではなく、適宜変更して構わない。第1の透光部12と第2の透光部13は、各々の長手方向が同じ方向であるように所定の間隔で交互に配置されている。
このように、図1の例では、メインパターンは長方形状のCr部11およびCr部11に挟まれたガラス部(第1の透光部12と第2の透光部13)から構成されている。すなわち、図1において、メインパターンは、図11(b)に示す従来のマスクパターンと同じである。本発明ではさらに、第1の透光部12および第2の透光部13の長手方向端部(メインパターンの長手方向端部)において接続するように所定範囲の領域に位相が90°のガラス部(第3の透光部)15を設けている。これにより、位相が90°のガラス部15が緩衝領域となり、位相が0°から180°または180°から0°に変わる境界部(位相シフト領域)をなくしている。
図1の例では、第3の透光部15は上下方向L1に沿った長さが左右方向L2に沿った長さよりも長い平面視長方形状に形成されている。すなわち、第3の透光部15は、上下方向L1に延びる(長手方向が上下方向L1である)平面視長方形状である。ただし、第3の透光部15の形状はこの場合に限定されるものではなく、適宜変更して構わない。
図3〜図4は、本発明の第1実施形態に係るレベンソン型位相シフトマスクの製造方法を示す図である。なお、図3(a)、(c)、(e)、(g)、(i)および図4(a)、(c)、(e)、(g)、(i)は上面図であり、上下方向が上述の上下方向L1、左右方向が上述の左右方向L2である。図3(b)、(d)、(f)、(h)、(j)および図4(b)、(d)、(f)、(h)、(j)は、それぞれ、図3(a)、(c)、(e)、(g)、(i)および図4(a)、(c)、(e)、(g)、(i)の点線に沿った断面図であり、上下方向が上述の垂直方向L3である。
図5〜図6は、本発明の第2実施形態に係るレベンソン型位相シフトマスクの製造方法を示す図である。なお、図5(a)、(c)、(e)、(g)、(i)および図6(a)、(c)、(e)、(g)、(i)は上面図であり、上下方向が上述の上下方向L1、左右方向が上述の左右方向L2である。図5(b)、(d)、(f)、(h)、(j)および図6(b)、(d)、(f)、(h)、(j)は、それぞれ、図5(a)、(c)、(e)、(g)、(i)および図6(a)、(c)、(e)、(g)、(i)の点線に沿った断面図であり、上下方向が上述の垂直方向L3である。
図7〜図8は、本発明の第2実施形態に係るレベンソン型位相シフトマスクの製造方法を示す図である。なお、図7(a)、(c)、(e)、(g)、(i)および図8(a)、(c)は上面図であり、上下方向が上述の上下方向L1、左右方向が上述の左右方向L2である。図7(b)、(d)、(f)、(h)、(j)および図8(b)、(d)は、それぞれ、図7(a)、(c)、(e)、(g)、(i)および図8(a)、(c)の点線に沿った断面図であり、上下方向が上述の垂直方向L3である。
図9〜図10は、本発明の第4実施形態に係るレベンソン型位相シフトマスクの製造方法を示す図である。なお、図9(a)、(c)、(e)、(g)、(i)および図10(a)、(c)、(e)、(g)、(i)は上面図であり、上下方向が上述の上下方向L1、左右方向が上述の左右方向L2である。図9(b)、(d)、(f)、(h)、(j)および図10(b)、(d)、(f)、(h)、(j)は、それぞれ、図9(a)、(c)、(e)、(g)、(i)および図10(a)、(c)、(e)、(g)、(i)の点線に沿った断面図であり、上下方向が上述の垂直方向L3である。
Claims (10)
- 透明基板上に遮光膜を設けたマスクブランクスに対して、フォトリソグラフィ法と遮光膜のエッチングとによって遮光膜の一定領域を開口し、続いて透明基板のエッチングを行うことで、第1の透光部および第2の透光部を形成し、前記第1の透光部と前記第2の透光部が光学位相的にほぼ180°の位相差の関係となるように設定されている位相シフトマスクの製造方法であって、
前記第1の透光部と前記第2の透光部に対して、それぞれ光学位相的にほぼ±90°の位相差の関係となるような第3の透光部を形成する
ことを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。 - 前記第3の透光部は、前記第1の透光部と前記第2の透光部の各々と接続するように配置されていることを特徴とする請求項1に記載の位相シフトマスクの製造方法。
- 前記第1の透光部および前記第2の透光部は、平面視長方形状であり、
前記第1の透光部と前記第2の透光部は、各々の長手方向が同じ方向であるように所定の間隔で交互に配置されていることを特徴とする請求項1または2に記載の位相シフトマスクの製造方法。 - 前記第3の透光部は、前記第1の透光部および前記第2の透光部の各々と、前記第1の透光部および前記第2の透光部の長手方向端部において接続するように配置されていることを特徴とする請求項3に記載の位相シフトマスクの製造方法。
- 前記第3の透光部は、平面視長方形状であり、
前記第3の透光部の長手方向は、前記第1の透光部および前記第2の透光部の長手方向とは向きが異なることを特徴とする請求項3または4に記載の位相シフトマスクの製造方法。 - 180°の位相差を有する第1の透光部および第2の透光部が形成されている位相シフトマスクであって、
前記第1の透光部および前記第2の透光部に対して、それぞれ光学位相的にほぼ±90°の位相差を有する第3の透光部を有することを特徴とする位相シフトマスク。 - 前記第3の透光部は、前記第1の透光部と前記第2の透光部の各々と接続するように配置されていることを特徴とする請求項6に記載の位相シフトマスク。
- 前記第1の透光部および前記第2の透光部は、平面視長方形状であり、
前記第1の透光部と前記第2の透光部は、各々の長手方向が同じ方向であるように所定の間隔で交互に配置されていることを特徴とする請求項6または7に記載の位相シフトマスク。 - 前記第3の透光部は、前記第1の透光部および前記第2の透光部の各々と、前記第1の透光部および前記第2の透光部の長手方向端部において接続するように配置されていることを特徴とする請求項8に記載の位相シフトマスク。
- 前記第3の透光部は平面視長方形状であり、
前記第3の透光部の長手方向は、前記第1の透光部および前記第2の透光部の長手方向とは向きが異なることを特徴とする請求項8または9に記載の位相シフトマスク。
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JP2002196471A (ja) * | 2001-11-19 | 2002-07-12 | Toshiba Corp | 露光用マスクの製造方法 |
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