JP2020131544A - スクリーンマスク、スクリーン印刷装置、及びスクリーン印刷方法及び印刷物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】良好な印刷形状を得られるスクリーンマスク、スクリーン印刷装置、スクリーン印刷方法、及び印刷物の製造方法を提供する。【解決手段】一形態にかかるスクリーンマスクは、塗布材を透過可能な孔を有するメッシュと、前記メッシュに設けられ、幅寸法が最も小さい位置において40μm以下である開口パターンを有するとともに、印刷面側における表面における平滑性が、0.2μm以上3μm以下である、マスク膜と、を備えるスクリーンマスク。【選択図】図4
Description
本発明の実施形態は、スクリーンマスク、スクリーン印刷装置、及びスクリーン印刷方法及び印刷物の製造方法に関する。
印刷手法の一つであるスクリーン印刷法はメッシュ上に樹脂組成物で形成された所定の開口パターンが形成されたスクリーンマスクを用い、被印刷物に任意の印刷体を形成する方法である。このスクリーン印刷法は、例えば配線、電極、蛍光材料の印刷等、種々の印刷に用いられ、電子部品等を含む様々な分野で利用されている。
近年、電子部品の小型化、高品質化により、スクリーンマスクの高精度化が求められ、例えば線幅が30μm以下や20μm以下の細かいパターンが採用される場合がある。
しかしながら、パターンの線幅が細かい場合、印刷のにじみによって印刷の形状に影響が出やすく、良好な印刷形状を実現することが困難となる。
本発明の一態様に係るスクリーンマスクは、塗布材を透過可能な孔を有するメッシュと、前記メッシュに設けられ、幅寸法が最も小さい位置において40μm以下である開口パターンを有するとともに、印刷面側における表面における平滑性が、0.2μm以上3μm以下である、マスク膜と、を備える。
本発明の一態様に係るスクリーン印刷装置は、スクリーンマスクと、前記スクリーンマスクの前記印刷面側とは反対側の面に当接して移動可能に構成されたスキージと、を備える。
本発明の一態様に係るスクリーン印刷方法は、塗布材を透過可能な孔を有するメッシュと、前記メッシュに設けられ、幅寸法が最も小さい位置において40μm以下である開口パターンを有するとともに、印刷面側における表面の平滑性が、0.2μm以上3μm以下であるマスク膜に、塗布材を供給し、前記マスク膜の前記開口パターンから、前記マスク膜の前記印刷面側に対向配置された印刷媒体に、前記塗布材を塗布する。
本発明の一態様に係る印刷物の製造方法は、塗布材を透過可能な孔を有するメッシュと、前記メッシュに設けられ、幅寸法が最も小さい位置において40μm以下である開口パターンを有するとともに、印刷面側における表面の平滑性が、0.2μm以上3μm以下であるマスク膜に、塗布材を保持させ、前記マスク膜の前記開口パターンから、前記マスク膜の前記印刷面側に対向配置された印刷媒体に、前記塗布材を塗布する。
本発明の実施形態によれば、良好な印刷形状を得られるスクリーンマスク、スクリーン印刷装置、スクリーン印刷方法、及び印刷物の製造方法を提供できる。
[第1実施形態]
以下、本発明の第1実施形態にかかるスクリーン印刷装置10及びスクリーンマスク20について図1乃至図7を参照して説明する。図1は、スクリーン印刷装置の説明図、図2はスクリーンマスクの斜視図であり、図3はスクリーンマスクの断面図である。図4及び図5は、平滑性の説明図である。図6は、スクリーンマスクの平滑性と印刷形状を示す説明図である。なお、各図では説明のため、適宜構成を拡大、縮小、省略して示している。図中矢印X,Y,Zは互いに直交する3方向をそれぞれ示している。
以下、本発明の第1実施形態にかかるスクリーン印刷装置10及びスクリーンマスク20について図1乃至図7を参照して説明する。図1は、スクリーン印刷装置の説明図、図2はスクリーンマスクの斜視図であり、図3はスクリーンマスクの断面図である。図4及び図5は、平滑性の説明図である。図6は、スクリーンマスクの平滑性と印刷形状を示す説明図である。なお、各図では説明のため、適宜構成を拡大、縮小、省略して示している。図中矢印X,Y,Zは互いに直交する3方向をそれぞれ示している。
図1に示すように、スクリーン印刷装置10は、スクリーンマスク20と、スクリーンマスク20の印刷面側である一方の面(表面)に対向して印刷媒体Baを保持する保持部材12と、スクリーンマスク20の印刷面側とは反対の他方の面(裏面)に当接した状態で移動可能に構成されたスキージ13と、スキージ13を移動させる移動手段と、スクリーンマスク20を印刷媒体Baに対向して支持する支持手段と、を備える。
スクリーン印刷装置10は、印刷媒体Baの表面に、各種印刷材料を所定のパターンで形成する。例えば、チップ部品(コンデンサー、チップ抵抗、インダクター、サーミスター等)、タッチパネル、液晶基板(Liquid crystal display, LCD)シール、LTCC(Low Temperature Co−fired ceramics)基板、太陽電池用電極、その他の電子部品等の製造に用いられる。
図1乃至図3に示すように、スクリーンマスク20は、フレーム21と、フレーム21に張設されたメッシュ22と、メッシュ22に形成されたマスク膜23と、を備える。スクリーンマスク20において、印刷を行う際に印刷媒体Baの表面に対向する側を表面とし、その反対側であって塗布材Peが供給される側を裏面とする。
フレーム21は、互いに平行な2対の辺を有し、例えば所望のサイズの方形の開口を備える枠状に構成される。フレーム21はメッシュ22の外周縁を支持し、開口にメッシュ22を張設する。またフレーム21は、所定量の塗布材Peをマスク膜23の裏面側に保持する枠としても機能する。フレーム21とメッシュ22は、例えば合成ゴム系やシアノアクリレート系の接着剤24により接合されている。
メッシュ22は、経糸22aと緯糸22bとが編まれて形成された織物であり、塗布材Peを透過可能に開口した孔部を多数有している。経糸22a及び緯糸22bは、例えばステンレス等の金属のワイヤ、あるいはポリエステル等の樹脂で構成された繊維である。経糸22a及び緯糸22bは、それぞれ例えば矢印Aに沿うスキージ13の移動方向に対して、斜めに延びている。このメッシュ22に、所定の開口パターン23aを有するマスク膜23が形成される。すなわち、メッシュ22によって、フレーム21の開口部分にマスク膜23が保持される。
メッシュ22は、経糸22aと緯糸22bがそれぞれ交差する交点で厚さ方向の寸法が2倍になるため、隣接する交点の中間部と、交点とでは、厚さ寸法が異なるとともに、各線材が波状を呈している。一例として本実施形態では経糸22a及び緯糸22bを90°で交差させ、用いた例を示す。一例として本実施形態では、1インチ辺り、例えば150本以上700本以下の線材が配列され、メッシュの孔部の幅寸法が23μm以上100μm以下の、メッシュ22を用いた。
マスク膜23は、光硬化性の樹脂組成物、例えばPVA、PVAc、シリコン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等からなる層である。一例として本実施形態では、マスク膜23の厚さ寸法は5μm以上25μm以下に構成されている。マスク膜23は、メッシュ22に形成され、フレーム21の開口部分に配されている。マスク膜23には、例えばフォトマスクを用いた露光によって、印刷用の所定の開口パターン23aが形成されている。開口パターン23aは、複数のモジュールパターン23bを有する。すなわち、マスク膜23の有効エリアにおいて、同じモジュールパターン23bが縦方向及び横方向にそれぞれ複数、例えば30列及び40列で、マトリクス状に、配列されている。例えば各モジュールパターン23bはラインパターンである。本実施形態において、メッシュ22の外縁よりも内側にパターンが形成される有効エリアが規定され、その有効エリアの内側に、開口パターン23aが形成される。開口パターン23aの最小開口幅W1、すなわち、開口パターン23aの最も狭い部分における開口の幅寸法は、40μm以下であり、好ましくは30μm以下、より好ましくは20μm以下である。ここでは、一例として、マスク膜23の表面、すなわち印刷媒体Baに対向する面における幅寸法を基準とした。
マスク膜23は、開口パターン23aにおいて感光性樹脂が存在せず、メッシュ22の孔部を通過して塗布材Peが裏面から表面へと透過可能な印刷部を構成する。マスク膜23の開口パターン23a以外であってメッシュ22の孔部が感光性樹脂で塞がれた部位は、塗布材Peとしてのインクを透過しない非印刷部を構成する。
マスク膜23の表面は、メッシュ22の線材の形状によって、凹凸が形成される。例えばメッシュ22において経糸22aと緯糸22bが重なる交点と、孔部の中央とでは、厚さ方向の位置が異なることから、マスク膜23の表面には、メッシュ22の形状に応じた波状のうねり形状である凹凸が形成される。マスク膜23の表面の凹凸は、平滑性Rzが0.2um≦Rz≦3umを満たす範囲に構成されている。
平滑性Rzは、マスク膜23の任意の測定断面L0における、印刷面側、すなわち表面の凹凸の大きさである。測定断面L0は、例えば経糸22aと緯糸22bが交差するメッシュ交点22dを2つ以上跨ぐラインとして設定する。また、測定断面L0は、例えばライン開口である開口パターン23aのエッジ付近であってエッジに沿って設定される。例えば、エッジから測定断面L0までの距離が、開口パターン23aのパターン幅よりも小さい位置に設定する。一例として、本実施形態においては、100四方でマトリクス状に配列された複数のモジュールパターン23bの4隅と中心の合計5箇所のモジュールパターン23bをそれぞれ測定箇所とした。そして、5箇所の測定箇所のモジュールパターン23bのライン開口のエッジに近い第1のメッシュ交点PL1を一端とし、当該第1のメッシュ交点PL1から、ライン開口のエッジに沿った線上に重なるメッシュ交点である第2のメッシュ交点PL2を他端とし、測定ラインである基準直線L1の両端部としてそれぞれ設定する。一例として、測定断面L0の長さは200um〜1000um程度とする。そして、図5に示すように、測定ラインの表面側の曲線を検出し、2つのメッシュ交点PL1、PL2を結ぶ基準直線L1と、測定断面L0において当該基準直線L1から直交方向に最も離れた第3の点PL3を特定し、第3の点PL3を通り基準直線L1と平行なラインである基準直線L2を算出する。そして、基準直線L1、L2の距離を、平滑性Rzとする。複数の平滑性測定点Pb1〜Pb5は、同形状の複数のモジュールパターン23bにおける測定断面L0の位置が、近くなるように設定した。
測定機器は、測定機器“KEYENCE VK−8700”を用い、測定ソフト”VK Viewer”にて解析ソフト”VK Analyzer”を使用して測定および解析を行ったところ、本実施形態におけるPb1〜Pb5の平滑性はそれぞれ、0.5μm、0.7um,0.5um,1.0um,0.6umであった。次に、5点の測定値の平均値を算出し、平均値と、個々の値との差を計算し、誤差の平均値を算出し、標準偏差σを算出する。本実施形態におけるPb1〜Pb5の平滑性は標準偏差σの三倍の値である3σの値が1〜2umに入る。
マスク膜23が形成されたメッシュ22は、例えばスキージ13による押圧力によって撓み変形し、押圧力が解除されることで復元するように、弾性変形可能に構成されている。マスク膜23の開口パターン23aに塗布材Peが保持された状態で、メッシュ22の弾性変形によりマスク膜23が印刷媒体Baに接離することで、塗布材Peが開口パターン23aから印刷媒体Baに転写される。
スキージ13は例えばウレタンゴム・シリコンゴム・合成ゴム・金属・プラスチック等の材料から、例えば薄い板状に構成される。例えば、スキージ13は先端の厚みが低減するように面取りされている。スキージ13はフレーム21に対して往復移動可能に構成されている。例えばスキージ13は移動方向と直交する方向においてマスク膜23の領域の全長にわたる長さを有して構成される。スキージ13の先端部分13aがスクリーンマスク20の裏面に当接し、表側に押しつけられた状態で、図1中矢印Aに沿う移動方向に移動することで、マスク膜23の全面を押圧し、塗布材Peが予め充填された開口パターン23aから塗布材Peを表側に押し出す。
支持手段は、印刷媒体Baに対して所定の間隔C1を開けて平行に、フレーム21を支持する。移動手段は、スキージ13を所定の速度で所定方向に沿って移動させる。
次に、本実施形態にかかるスクリーンマスク20の製造方法について図7を参照して説明する。図7は、スクリーンマスク20の製造方法を示す説明図である。スクリーンマスク20の製造方法は、乳剤Pmで形成されたシートをメッシュ22に貼り付ける、いわゆる直間法を用いる。
乳剤Pmは、光硬化性の樹脂であり、たとえばポリビニルアルコール(PVA)、ポリ酢酸ビニル(PVAc)、シリコン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等を包含するシート状部材である。
まず、フレーム21の枠内にメッシュ22を略平面となるように取り付ける(ST1)。この状態で、ベースコートを塗布する(ST2)。次に、ベースコートが塗布されたメッシュ22に、乳剤Pmで形成された乳剤シートを貼り付ける(ST3)。その後、乳剤シートが貼付されたメッシュ22を、乾燥機内に配し、乾燥させる(ST4)。以上により、マスク膜23がメッシュ22に保持され、スクリーンマスク20が完成する。このように、直間法により、表面の平滑性を0.2μm〜3μmの範囲で容易に構成することが可能である。
次に、本実施形態にかかるスクリーン印刷装置10を用いたスクリーン印刷方法により印刷物を製造する方法について、説明する。まず、スクリーンマスク20の表面側を保持部材12で保持された印刷媒体Baの表面に対向させて配置する。
そして、図1に二点鎖線で示すように、高粘度のペースト状の塗布材Peをスクリーンマスク20の裏面側、すなわち、印刷媒体Baとは反対側の面から供給し、塗布材Peを開口パターン23a内に充填させる。
塗布材Peとして、粘度が、回転数10rpm、せん断速度4sec−1で100〜500Pa・sであり、かつ、チキソトロピー性が1〜10の特性を有する塗布材を用いる。ここでは一例として、粘度は、ブルックフィールド製のHADV1/SC4―14で回転数10rpm、せん断速度4sec−1で測定し、チキソトロピー性は回転数1rpmの粘度を回転数10rpmの粘度で割った数値を用いた。メッシュによって転写時に塗布材Peが分離される場合、印刷物の滲みの量をコントロールでき、直線的な印刷をすることができる。さらに好ましくは、塗布材Peとして、チキソトロピー性が2〜5の特性を有する塗布材を用いることでより滲みの少ない印刷をコントロールすることができる。
次に、スクリーンマスク20の裏面、すなわち印刷面側とは反対側の面に、スキージ13を配置する。このとき、例えばスキージ13を、印刷媒体Baの表側の面に対して所定の角度θで配置する。そして、スキージ13をメッシュ22及びマスク膜23の裏面において、所定の印圧で印刷媒体Ba側に向けて押しつけながら、所定の速度vで移動させる。マスク膜23の裏面全面にわたる領域で、スキージ13がマスク膜23を押圧する。スキージ13の押圧により、マスク膜23は押圧される部分が表側に変位するように変形し、印刷媒体Baに当接する。スキージ13が通過した塗布材Peが開口パターン23aから印刷媒体Ba側に押し出される。
スキージ13が通過した後、マスク膜23及びメッシュ22が復元するように変形して印刷媒体Baから離れるとともに、一部の塗布材Peが印刷媒体Ba上に転写されて残ることで、印刷媒体Ba上にパターン印刷がなされ、印刷物が完成する。このとき、塗布材Peは裏側の一部がマスク膜23側に残る。なお塗布材Peは、例えば金属材や樹脂材などを含む各種材料であり、印刷対象の種類、例えば、電子部品、ディスプレイ、等によって、多様な材料が用いられる。
本実施形態にかかるスクリーンマスク20は、表面の平滑性の範囲が0.2 um ≦ Rz ≦ 3 umに構成され、Rz ≦ 3 umであることにより、マスク膜23の表面のうねりによる凹凸によって生じる塗布材Peの転写量の差が発生しにくい。また、0.2 um ≦ Rzとしたことにより、静電気の影響を抑えられる。その結果、印刷したパターン形状が均一な形状となる。したがって、細線パターンにおいて、高精度の印刷形状を実現できる。
図6は、本実施形態にかかるスクリーンマスク20を用いて形成した印刷形状と、比較例1としてRz >3 umとしたスクリーンマスク120,比較例2として0.2 um > Rzとしたスクリーンマスク220の、印刷形状をそれぞれ示す。比較例1,2にかかるスクリーンマスク120,220の、平滑性以外の条件は上記スクリーンマスク20と同様である。
以上のように構成されたスクリーンマスク20、スクリーン印刷装置10、及びスクリーン印刷方法によれば、図6に示すように、表面の平滑性を一定の範囲にすることで印刷形状が改善され良好な印刷形状を得ることが可能となる。
すなわち、平滑性を3μm以下としたことにより、表面の凹凸によってできる部位毎の塗布量の差を少なくすることができ、印刷形状のにじみを低減できる。一方で、平滑性を0.2μm以上とすることにより、静電気によって印刷媒体Baから剥がれにくくなる現象を回避でき、良好な印刷形状を実現できる。特に、パターン幅が40μm以下の微細パターンを形成する場合には、にじみを抑制することにより良好な印刷形状を確保できる。すなわち、一般的に、特にパターンの線幅が細かい場合には、印刷のにじみが印刷の形状に影響しやすく、良好な印刷形状を実現することが困難となるが、平滑性を規定することにより、印刷のにじみを抑制できるため、微細パターンにおいても良好な印刷形状を実現できる。
また、スクリーンマスク20は図7に示すように、直間法を採用することにより工数を削減でき、面内の厚みを均一化することができるとともに平滑性を高くすることができる。
なお、上記実施形態では、フレーム21にメッシュ22を接着剤24で貼り付け、フレーム21の開口部全域わたってマスク膜23を形成した例を示したが、これに限定されるものではない。例えば、メッシュは、伸び率の異なる内側のメインメッシュと外側のサポートメッシュをUV硬化性の接着剤で固定したいわゆるコンビネーション型を用いてもよく、また、メッシュ22の中央部分の一部にのみマスク膜23が形成されていてもよい。
また、上記実施形態では、直間法によりマスク膜23を形成する方法を例示したが、これに限られるものではなく、例えばマスク材を重ね塗りして乾燥する工程を繰り返した後に、オーバーコートを貼付けて表面処理を施す、いわゆる直接法により製造してもよい。この場合にあっても平滑性を0.2μm以上3μm以下とすることにより、良好な印刷形状が得られる。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。また、各実施形態は適宜組み合わせて実施してもよく、その場合組み合わせた効果が得られる。更に、上記実施形態には種々の発明が含まれており、開示される複数の構成要件から選択された組み合わせにより種々の発明が抽出され得る。例えば、実施形態に示される全構成要件からいくつかの構成要件が削除されても、課題が解決でき、効果が得られる場合には、この構成要件が削除された構成が発明として抽出され得る。
10…スクリーン印刷装置、12…保持部材、13…スキージ、20…スクリーンマスク、21…フレーム、22…メッシュ、22a…経糸、22b…緯糸、22d…メッシュ交点、23…マスク膜、23a…開口パターン、23b…モジュールパターン、24…接着剤、120…スクリーンマスク、220…スクリーンマスク、C1…間隔、L0…測定断面、L1…基準直線、L2…基準直線、PL1、PL2…メッシュ交点、Pb1〜Pb5…平滑性測定点、W1…最小開口幅。
Claims (8)
- 塗布材を透過可能な孔を有するメッシュと、
前記メッシュに設けられ、幅寸法が最も小さい位置において40μm以下である開口パターンを有するとともに、印刷面側における表面における平滑性が、0.2μm以上3μm以下である、マスク膜と、を備えるスクリーンマスク。 - 前記メッシュは複数の線材が交差するメッシュ交点を有し、
前記平滑性は、複数の前記メッシュ交点を跨ぐ測定断面における、印刷面側の凹凸の大きさである、請求項1に記載のスクリーンマスク。 - 前記開口パターンの5点で測定した前記平滑性の平均値に対する標準偏差σの3倍の値が1〜2umである、請求項1または請求項2に記載のスクリーンマスク。
- 前記平滑性は前記開口パターンの開口のエッジに沿う位置で測定される請求項1乃至3のいずれかに記載のスクリーンマスク。
- 印刷媒体に対向して前記メッシュを支持するフレームを備え、
前記マスク膜を保持する前記メッシュは、弾性変形可能であり、前記マスク膜の前記開口パターンに塗布材が保持された状態で、前記マスク膜が印刷媒体に接離することにより、前記塗布材が前記開口パターンから前記印刷媒体に転写されることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載のスクリーンマスク。 - 請求項1乃至5のいずれかに記載のスクリーンマスクと、
前記スクリーンマスクの前記印刷面側とは反対側の面に当接して移動可能に構成されたスキージと、
を備えることを特徴とするスクリーン印刷装置。 - 請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の前記スクリーンマスクの前記マスク膜に、塗布材を供給し、前記マスク膜の前記開口パターンから、前記マスク膜の前記印刷面側に対向配置された印刷媒体に、前記塗布材を塗布する、スクリーン印刷方法。
- 請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の前記スクリーンマスクの前記マスク膜に、塗布材を保持させ、前記マスク膜の前記開口パターンから、前記マスク膜の前記印刷面側に対向配置された印刷媒体に、前記塗布材を塗布する、印刷物の製造方法。
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