JP2020093187A - 酸性ガス吸収装置及び酸性ガス吸収方法 - Google Patents

酸性ガス吸収装置及び酸性ガス吸収方法 Download PDF

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Ikumasa Hayashi
育正 林
上條　孝
Takashi Kamijo
孝 上條
真也 岸本
Masaya Kishimoto
真也 岸本
乾　正幸
Masayuki Inui
正幸 乾
朋来 登里
Tomoki Noborisato
朋来 登里
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Abstract

【課題】冷却後の吸収液を返送する返送位置の上方であっても接触層の温度を抑制することができる酸性ガス吸収装置を提供する。【解決手段】接触層５の上方にて容器３に接続され、吸収液を容器３内に導入する吸収液導入配管１０と、容器３の底部３ｂに接続され、酸性ガスを吸収した吸収液を導出する吸収液導出配管１２と、第１高さ位置Ｈ１から吸収液の一部を抜き出し、吸収液を冷却器１８にて冷却した後に、第１高さ位置Ｈ１よりも高い返送高さ位置Ｈｒ１に吸収液を接触層５に返送する第１吸収液返送ラインＬ１と、返送高さ位置Ｈｒ１よりも高い第２高さ位置Ｈ２から吸収液の一部を抜き出し、吸収液を冷却した後に、吸収液を接触層５に返送する第２吸収液返送ラインＬ２と、を備えている。【選択図】図１

Description

本発明は、酸性ガス吸収装置及び酸性ガス吸収方法に関するものである。
例えば化石燃料を燃焼させて生成された燃焼排ガス（被処理ガス）などに含有されるＣＯ２やＨ２Ｓ等の酸性ガス（acid gas）を吸収塔で吸収し、除去、回収する方法が知られている。吸収塔では、例えば、燃焼排ガスを、アルカノールアミン水溶液などのアミン吸収液と充填層等の接触層（contactor）で接触させて、燃焼排ガスから酸性ガスを吸収する。
接触層では、酸性ガスと吸収液との発熱反応によって温度が上昇する。また、吸収塔に導入される燃焼排ガスや吸収液の顕熱によって接触層の温度が上昇する。接触層の温度が上昇し、吸収液の温度が上昇すると、以下の不利益がある。
第１に、吸収液が温度上昇すると、酸性ガスを吸収するための物質移動の駆動力（mass transfer driving force）が減少し、酸性ガスの吸収効率が温度上昇に応じて低下する。
第２に、吸収液が温度上昇すると、吸収液の分解（degradation rate）が促進される。
第３に、吸収液が温度上昇すると、揮発分が蒸発して処理後ガスとともに吸収塔の外部へと持ち去られてしまう（carryover）。そうすると、吸収液の消費量が増大する。また、処理後ガスとともに持ち去られる吸収液を回収する必要が生じる。
そこで、接触層では、吸収液の一部を抜き出し、冷却した後に接触層に返送することが行われる（特許文献１乃至３）。
米国特許出願公開第２００６／０１１０３００号明細書 米国特許出願公開第２００６／００３２３７７号明細書 米国特許出願公開第２００９／００６８０７８号明細書
上記特許文献１乃至３では、冷却後の吸収液を返送する返送位置から下方の接触層については、冷却後の吸収液によって温度低下させることができる。しかし、返送位置よりも上方の領域では、温度を低下させることができない。これでは、接触層の返送位置よりも上方の領域で吸収液を高温に曝すおそれがある。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、冷却後の吸収液を返送する返送位置の上方であっても接触層の温度を抑制することができる酸性ガス吸収装置及び酸性ガス吸収方法を提供することを目的とする。
本発明の一態様に係る酸性ガス吸収装置は、被処理ガスに含まれる酸性ガスと該酸性ガスを吸収する吸収液とを接触させる接触層と、前記接触層を収容する容器と、前記接触層の下方にて前記容器に接続され、前記酸性ガスを含む前記被処理ガスを該容器内に導入する被処理ガス導入配管と、前記容器の上部に接続され、前記吸収液によって前記酸性ガスが除去された後の処理後ガスが導出される処理後ガス導出配管と、前記接触層の上方にて前記容器に接続され、前記吸収液を該容器内に導入する吸収液導入配管と、前記容器の底部に接続され、前記酸性ガスを吸収した前記吸収液を導出する吸収液導出配管と、第１高さ位置から前記吸収液の一部を抜き出し、該吸収液を冷却器にて冷却した後に、前記第１高さ位置よりも高い返送高さ位置に該吸収液を前記接触層に返送する第１吸収液返送ラインと、前記返送高さ位置よりも高い第２高さ位置から前記吸収液の一部を抜き出し、該吸収液を冷却した後に、該吸収液を前記接触層に返送する第２吸収液返送ラインと、を備えている。
第１高さ位置から吸収液の一部を抜き出し、吸収液を冷却した後に、第１高さ位置よりも高い位置に戻す第１吸収液返送ラインが設けられている。これにより、第１高さ位置よりも高い位置とされた吸収液の返送高さ位置よりも下方における接触層を冷却することができる。また、第１吸収液返送ラインは、吸収液を循環することができるので、吸収液の循環量を任意に調整することによって冷却量を所望値に調整することができる。
さらに、接触層の返送高さ位置よりも高い第２高さ位置から吸収液の一部を抜き出し、冷却した後に、吸収液を接触層に返送する第２吸収液返送ラインを設けることとした。これにより、返送高さ位置よりも高い位置において吸収液の一部を取り出すことで、第１吸収液返送ラインだけでは効果的に冷却することができなかった接触層の返送高さ位置よりも上方の領域の温度上昇を抑えることができる。
以上により、接触層の温度を広い領域にわたって温度を管理することで、吸収性能の低下を抑制することができる。
さらに、本発明の一態様に係る酸性ガス吸収装置では、前記吸収液導出配管と、前記第１吸収液返送ラインの前記冷却器の上流側とを接続する導出吸収液抜出配管を備えている。
導出吸収液抜出配管を設けることで、吸収液導出配管を流れる吸収液の一部を第１吸収液返送ラインの冷却器によって冷却することができる。酸性ガスを吸収した後に温度上昇した吸収液を冷却することで、吸収液導出配管の下流側に設ける冷却器を省略したり、その容量を小さくしたりすることができる。
さらに、本発明の一態様に係る酸性ガス吸収装置では、前記第２吸収液返送ラインは、前記第１吸収液返送ラインの前記冷却器の上流側に接続されている。
第２吸収液返送ラインを第１吸収液返送ラインの冷却器の上流側に接続することで、冷却器を第１吸収液返送ラインと第２吸収液返送ラインとで兼用することができる。これにより、構成を簡素化してコストを低減することができる。
さらに、本発明の一態様に係る酸性ガス吸収装置では、前記第２吸収液返送ラインは、前記冷却器とは別の第２吸収液返送ライン用冷却器を備えている。
第２吸収液返送ラインに、第１吸収液返送ラインの冷却器とは別の冷却器を設けることとしたので、第２吸収液返送ラインに必要な冷却量に応じた冷却器を採用することができる。これにより、所望の冷却量に応じて第１吸収液返送ライン及び第２吸収液返送ラインのそれぞれに冷却器を配置することができる。
また、本発明の一態様に係る酸性ガス吸収方法では、被処理ガスに含まれる酸性ガスと該酸性ガスを吸収する吸収液とを接触させる接触層と、前記接触層を収容する容器と、前記接触層の下方にて前記容器に接続され、前記酸性ガスを含む前記被処理ガスを該容器内に導入する被処理ガス導入配管と、前記容器の上部に接続され、前記吸収液によって前記酸性ガスが除去された後の処理後ガスが導出される処理後ガス導出配管と、前記接触層の上方にて前記容器に接続され、前記吸収液を該容器内に導入する吸収液導入配管と、前記容器の底部に接続され、前記酸性ガスを吸収した前記吸収液を導出する吸収液導出配管と、を備えた酸性ガス吸収装置を用いた酸性ガス吸収方法であって、第１高さ位置から前記吸収液の一部を抜き出し、該吸収液を冷却器にて冷却した後に、前記第１高さ位置よりも高い返送高さ位置に該吸収液を前記接触層に返送する第１吸収液返送工程と、前記返送高さ位置よりも高い第２高さ位置から前記吸収液の一部を抜き出し、該吸収液を冷却した後に、該吸収液を前記接触層に返送する第２吸収液返送工程と、を有している。
接触層の返送高さ位置よりも高い位置から吸収液の一部を抜き出し、冷却した後に、吸収液を接触層に返送することとしたので、冷却後の吸収液を返送する返送位置の上方であっても接触層の温度を抑制することができる。
第１実施形態に係るＣＯ２ガス吸収装置を示した概略構成図である。 接触層の高さ方向の温度分布の一例を示したグラフである。 図２の温度分布に対応するＣＯ２ガス吸収装置を示した概略構成図である。 接触層の高さ方向の温度分布の他の例を示したグラフである。 図４の温度分布に対応するＣＯ２ガス吸収装置を示した概略構成図である。 第２実施形態に係るＣＯ２ガス吸収装置を示した概略構成図である。
以下に、本発明にかかる実施形態について、図面を参照して説明する。
［第１実施形態］
以下、本発明の第１実施形態について説明する。
図１には、燃焼排ガス（被処理ガス）からＣＯ２（酸性ガス）を吸収するＣＯ２吸収装置１（以下、単に「吸収装置１」という。）が示されている。
吸収装置１は、鉛直方向に立設された容器３を備えている。容器３内には、鉛直方向にわたって接触層５が設けられている。接触層５としては、例えば充填層が用いられる。
容器３の下方には、燃焼排ガスを導入する燃焼排ガス導入配管（被処理ガス導入配管）７が接続されている。燃焼排ガス導入配管７と容器３との接続位置７ａは、接触層５の下端５ａよりも下方とされている。燃焼排ガスは、例えば化石燃料を燃焼させた燃焼ガスで、ガスタービンを駆動した後の排ガスとされる。燃焼排ガス導入配管７から容器３内に導入される燃焼排ガスの温度は、例えば４０℃以上２５０℃以下とされる。
容器３の頂部３ａには、ＣＯ２を除去した後の燃焼排ガスである処理後ガスを導出する処理後ガス導出配管８が接続されている。なお、処理後ガス導出配管８と容器３との接続位置８ａは、同図のように容器３の頂部３ａである必要はなく、吸収液導入配管１０と容器３との接続位置１０ａよりも上方であれば良い。
吸収液導入配管１０は、吸収液を容器３内に導入するために用いられる。接続位置１０ａは、接触層５の上端５ｂよりも上方に設けられていても良い。吸収液としては、例えば、アルカノールアミン水溶液などのアミン吸収液が用いられる。吸収液導入配管１０から容器３内に導入される吸収液の温度は、例えば４０℃以上７０℃以下とされる。
容器３の底部３ｂには、ＣＯ２を吸収した後の吸収液を導出する吸収液導出配管１２が接続されている。なお、吸収液導出配管１２と容器３との接続位置１２ａは、同図のように容器３の底部３ｂである必要はなく、接触層５の下端５ａよりも下方であれば良い。
接触層５の第１高さ位置Ｈ１には、第１吸収液抜出配管１４の上流端１４ａが接続されている。第１吸収液抜出配管１４によって、接触層５内を流下する吸収液の一部が抜き出される。第１吸収液抜出配管１４によって抜き出される吸収液の流量は、吸収液導出配管１２を介して外部へ導出される吸収液の流量の０．１〜１０倍とされている。吸収液を接触層５から抜き出すには、例えば接触層５内を流下する吸収液を受け止めるトレイが用いられる。第１吸収液抜出配管１４の下流側は、合流部１５に接続されている。
合流部１５には、第１返送配管１６の上流端１６ａが接続されている。第１返送配管１６の途中位置には、第１冷却器（冷却器）１８が設けられている。第１冷却器１８は、熱交換器とされ、第１返送配管１６内を流れる吸収液を冷却する。第１冷却器１８に用いる冷却媒体としては、例えば水等が用いられる。第１冷却器１８によって、第１返送配管１６内を流れる吸収液が例えば２０℃以上４０℃以下まで冷却される。
図示しないが、合流部１５と第１冷却器１８との間の第１返送配管１６には、吸収液を流すためのポンプが設けられている。
第１返送配管１６の下流端１６ｂは、第１返送高さ位置Ｈｒ１にて容器３に接続されている。第１返送高さ位置Ｈｒ１から吸収液が接触層５内に返送され、再び接触層５内を流下する。第１返送高さ位置Ｈｒ１は、第１高さ位置Ｈ１よりも高い位置とされている。これにより、第１吸収液抜出配管１４によって抜き出された吸収液は循環するようになっている。
上述の第１吸収液抜出配管１４、第１返送配管１６及び第１冷却器１８によって、第１吸収液返送ラインＬ１が形成される。第１吸収液返送ラインＬ１を流れる吸収液の循環量は、冷却量が調整できるように、図示しない、例えば制御弁やポンプによって可変となっている。
接触層５の第２高さ位置Ｈ２には、第２吸収液抜出配管２０の上流端２０ａが接続されている。第２吸収液抜出配管２０によって、接触層５内を流下する吸収液の一部が抜き出される。吸収液を接触層５から抜き出すには、例えば接触層５内を流下する吸収液を受け止めるトレイが用いられる。第２吸収液抜出配管２０の下流側は、合流部１５に接続されている。
第２高さ位置Ｈ２は、第１返送高さ位置Ｈｒ１よりも高い位置とされている。したがって、第１高さ位置Ｈ１、第１返送高さ位置Ｈｒ１及び第２高さ位置Ｈ２との関係は、Ｈ１＜Ｈｒ１＜Ｈ２となる。
上述の第２吸収液抜出配管２０、第１返送配管１６及び第１冷却器１８によって、第２吸収液返送ラインＬ２が形成される。
容器３の底部３ｂに接続された吸収液導出配管１２の途中位置には、導出吸収液抜出配管２２の上流端２２ａが接続されている。導出吸収液抜出配管２２の下流側は、合流部１５に接続されている。導出吸収液抜出配管２２によって、吸収液導出配管１２内を流れる吸収液の一部が抜き出され、第１冷却器１８で冷却された後に接触層５内に返送されるようになっている。導出吸収液抜出配管２２によって抜き出される吸収液の流量は、吸収液導出配管１２を介して外部へ導出される吸収液の流量の１〜１０倍とされている。導出吸収液抜出配管２２を流れる吸収液の流量は、冷却量が調整できるように、図示しない、例えば制御弁やポンプによって可変となっている。なお、導出吸収液抜出配管２２は、省略することができる。
上記構成の吸収装置１は、以下のように用いられる。
容器３の下部から燃焼排ガス導入配管７を介して導入された燃焼排ガスは、容器３内を下方から上方へ向かって上向きに流れる。一方、容器３の上部から吸収液導入配管１０を介して導入された吸収液は、容器３の内を上方から下方へ向かって下向きに流れる。そして、接触層５内で、燃焼排ガスと吸収液とが反応し、燃焼排ガスに含まれるＣＯ２等の酸性ガスが吸収液に吸収される。この吸収の際の反応は発熱反応とされているので、接触層５を流れる吸収液の温度が上昇する。また、容器３内に導入される燃焼排ガスの顕熱や吸収液の顕熱が大きい場合には、接触層５の温度が上昇することに伴い吸収液の温度も上昇する。
そこで、第１吸収液返送ラインＬ１及び第２吸収液返送ラインＬ２を用いて吸収液の冷却を行い、接触層５内を所望の温度分布とする。具体的には以下の通りである。
第１吸収液抜出配管１４によって、接触層５内を流れる吸収液の一部を抜き出し、第１冷却器１８によって冷却した後に、第１返送配管１６によって吸収液を接触層５へ返送する。このとき、第１吸収液抜出配管１４によって抜き出された吸収液は、第１吸収液返送ラインＬ１によって循環する。
また、第２吸収液抜出配管２０によって、接触層５内を流れる吸収液の一部を抜き出し、第１冷却器１８によって冷却した後に、第１返送配管１６によって吸収液を接触層５へ返送する。
接触層５を上方へ通過することによって酸性ガスが除去された処理後ガスは、処理後ガス導出配管８を通って吸収装置１の外部へと導かれる。接触層５を下方へ通過することによって酸性ガスを吸収した吸収液は、吸収液導出配管１２を通って吸収装置１の外部へと導かれる。
吸収液導出配管１２内を流れる吸収液の一部は、導出吸収液抜出配管２２によって抜き出された後に、第１返送配管１６によって接触層５へと返送される。
本実施形態によれば、以下の作用効果を奏する。
第１高さ位置Ｈ１から吸収液の一部を抜き出し、吸収液を第１冷却器１８によって冷却した後に、第１高さ位置Ｈ１よりも高い第１返送高さ位置Ｈｒ１に戻す第１吸収液返送ラインＬ１を設けることとした。これにより、第１高さ位置Ｈ１よりも高い位置とされた吸収液の第１返送高さ位置Ｈｒ１よりも下方における接触層５を冷却することができる。
さらに、第１返送高さ位置Ｈｒ１よりも高い第２高さ位置Ｈ２から吸収液の一部を抜き出し、第１冷却器１８によって冷却した後に、吸収液を接触層５に返送する第２吸収液返送ラインＬ２を設けることとした。これにより、第１返送高さ位置Ｈｒ１よりも高い位置において吸収液の一部を取り出すことで、第１吸収液返送ラインＬ１だけでは効果的に冷却することができなかった第１返送高さ位置Ｈｒ１よりも上方の領域の温度上昇を抑えることができる。
以上により、接触層５の温度を広い領域にわたって温度を管理することで、吸収性能の低下を抑制することができる。
第２吸収液返送ラインＬ２を第１吸収液返送ラインＬ１の第１冷却器１８の上流側の合流部１５に接続することで、第１冷却器１８を両ラインＬ１，Ｌ２で兼用することができる。これにより、構成を簡素化してコストを低減することができる。
導出吸収液抜出配管２２を設けることで、吸収液導出配管１２を流れる吸収液の一部を第１吸収液返送ラインＬ１の第１冷却器１８によって冷却することができる。酸性ガスを吸収した後に温度上昇した吸収液を冷却することで、吸収液導出配管１２の下流側に設ける冷却器を省略したり、その容量を小さくしたりすることができる。
また、接触層５の温度制御が可能となるので、冷却塔等によって予め冷却する必要があるような高温とされた燃焼排ガスであっても処理することができる。したがって、冷却塔等による冷却のような前処理を省略することができる。
［変形例］
なお、本実施形態の第１高さ位置Ｈ１、第１返送高さ位置Ｈｒ１及び第２高さ位置Ｈ２は、接触層５の高さ方向における温度分布に応じて適宜設定される。例えば、図２に示すように、接触層５の高さ中央（５０％）よりも上方に最大温度が存在する場合には、図３に示すように、接触層５の高さ中央をよりも下方に第１高さ位置Ｈ１を設定するとともに、接触層５の高さ中央よりも上方に第１返送高さ位置Ｈｒ１及び第２高さ位置Ｈ２を設定する。このように各高さ位置Ｈ１，Ｈｒ１，Ｈ２を設定することによって、最高温度を示す温度領域を効果的に冷却することができる。
図４に示すように、接触層５の高さ中央（５０％）よりも下方に最大温度が存在する場合には、図５に示すように、吸収液導出配管１２に第１高さ位置Ｈ１を設定するとともに、接触層５の高さ中央よりも下方でかつ最高温度を示す高さ位置よりも上方に第１返送高さ位置Ｈｒ１及び第２高さ位置Ｈ２を設定する。このように各高さ位置Ｈ１，Ｈｒ１，Ｈ２を設定することによって、最高温度を示す温度領域が接触層５の中央高さよりも低い位置に存在していても効果的に冷却することができる。
［第２実施形態］
次に、本発明の第２実施形態について、図６を用いて説明する。
本実施形態は、第１実施形態に対して、第２吸収液返送ラインＬ２が第１吸収液返送ラインＬ１から分離して独立していることが異なる。その他の構成については同様なので、同一符号を付してその説明を省略する。
図６に示されているように、第２吸収液返送ラインＬ２は、第２吸収液抜出配管２０と、第２冷却器（第２吸収液返送ライン用冷却器）２４と、第２返送配管２６とを備えている。第２返送配管２６から接触層５内に吸収液を返送する第２返送高さ位置Ｈｒ２は、第２高さ位置Ｈ２よりも下方でかつ第１返送高さ位置Ｈｒ１よりも上方とされている。なお、第２吸収液抜出配管２０又は第２返送配管２６には、吸収液を流すためのポンプ（図示せず）が設けられている。第２吸収液抜出配管２０から抜き出された吸収液の一部は、第２冷却器２４によって冷却された後に、第２返送配管２６を介して接触層５へと戻される。
第１吸収液返送ラインＬ１は、第１実施形態と同様の構成とされ、第２吸収液返送ラインＬ２とは別に設けられている。
本実施形態によれば、以下の作用効果を奏する。
第２吸収液返送ラインＬ２に、第１吸収液返送ラインＬ１の第１冷却器１８とは別の第２冷却器２４を設けることとしたので、第２吸収液返送ラインＬ２に必要な冷却量に応じた第２冷却器２４を採用することができる。これにより、所望の冷却量に応じて第１吸収液返送ラインＬ１及び第２吸収液返送ラインＬ２のそれぞれに冷却器１８，２４を配置することができる。
なお、被処理ガスとしては、上述の各実施形態では燃焼排ガスとしたが、本発明はこれに限定されるものではなく、酸性ガスを含むガスであれば他のガスであっても良い。
酸性ガスとしては、ＣＯ２を一例として挙げて説明したが、Ｈ２Ｓ等の他の酸性ガスであっても良い。
また、上述した各実施形態では、接触層５が１つとされた構成について説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、接触層が複数段設けられ、各段の接触層に対して第１吸収液返送ラインＬ１や第２吸収液返送ラインＬ２を設けることとしても良い。
１ ＣＯ２吸収装置（酸性ガス吸収装置）
３ 容器
３ａ 頂部
３ｂ 底部
５ 接触層
５ａ 下端
５ｂ 上端
７ 燃焼排ガス導入配管（被処理ガス導入配管）
７ａ 接続位置
８ 処理後ガス導出配管
８ａ 接続位置
１０ 吸収液導入配管
１０ａ 接続位置
１２ 吸収液導出配管
１２ａ 接続位置
１４ 第１吸収液抜出配管
１４ａ 上流端
１５ 合流部
１６ 第１返送配管
１６ａ 上流端
１６ｂ 下流端
１８ 第１冷却器（冷却器）
２０ 第２吸収液抜出配管
２０ａ 上流端
２２ 導出吸収液抜出配管
２２ａ 上流端
２４ 第２冷却器（第２吸収液返送ライン用冷却器）
２６ 第２返送配管
Ｌ１ 第１吸収液返送ライン
Ｌ２ 第２吸収液返送ライン
Ｈ１ 第１高さ位置
Ｈ２ 第２高さ位置
Ｈｒ１ 第１返送高さ位置
Ｈｒ２ 第２返送高さ位置

Claims (5)

  1. 被処理ガスに含まれる酸性ガスと該酸性ガスを吸収する吸収液とを接触させる接触層と、
    前記接触層を収容する容器と、
    前記接触層の下方にて前記容器に接続され、前記酸性ガスを含む前記被処理ガスを該容器内に導入する被処理ガス導入配管と、
    前記容器の上部に接続され、前記吸収液によって前記酸性ガスが除去された後の処理後ガスが導出される処理後ガス導出配管と、
    前記接触層の上方にて前記容器に接続され、前記吸収液を該容器内に導入する吸収液導入配管と、
    前記容器の底部に接続され、前記酸性ガスを吸収した前記吸収液を導出する吸収液導出配管と、
    第１高さ位置から前記吸収液の一部を抜き出し、該吸収液を冷却器にて冷却した後に、前記第１高さ位置よりも高い返送高さ位置に該吸収液を前記接触層に返送する第１吸収液返送ラインと、
    前記返送高さ位置よりも高い第２高さ位置から前記吸収液の一部を抜き出し、該吸収液を冷却した後に、該吸収液を前記接触層に返送する第２吸収液返送ラインと、
    を備えている酸性ガス吸収装置。
  2. 前記吸収液導出配管と、前記第１吸収液返送ラインの前記冷却器の上流側とを接続する導出吸収液抜出配管を備えている請求項１に記載の酸性ガス吸収装置。
  3. 前記第２吸収液返送ラインは、前記第１吸収液返送ラインの前記冷却器の上流側に接続されている請求項１又は２に記載の酸性ガス吸収装置。
  4. 前記第２吸収液返送ラインは、前記冷却器とは別の第２吸収液返送ライン用冷却器を備えている請求項１又は２に記載の酸性ガス吸収装置。
  5. 被処理ガスに含まれる酸性ガスと該酸性ガスを吸収する吸収液とを接触させる接触層と、
    前記接触層を収容する容器と、
    前記接触層の下方にて前記容器に接続され、前記酸性ガスを含む前記被処理ガスを該容器内に導入する被処理ガス導入配管と、
    前記容器の上部に接続され、前記吸収液によって前記酸性ガスが除去された後の処理後ガスが導出される処理後ガス導出配管と、
    前記接触層の上方にて前記容器に接続され、前記吸収液を該容器内に導入する吸収液導入配管と、
    前記容器の底部に接続され、前記酸性ガスを吸収した前記吸収液を導出する吸収液導出配管と、
    を備えた酸性ガス吸収装置を用いた酸性ガス吸収方法であって、
    第１高さ位置から前記吸収液の一部を抜き出し、該吸収液を冷却器にて冷却した後に、前記第１高さ位置よりも高い返送高さ位置に該吸収液を前記接触層に返送する第１吸収液返送工程と、
    前記返送高さ位置よりも高い第２高さ位置から前記吸収液の一部を抜き出し、該吸収液を冷却した後に、該吸収液を前記接触層に返送する第２吸収液返送工程と、
    を有している酸性ガス吸収方法。
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