JP2020089304A5 - - Google Patents

Claims (13)

1. 細胞を培養する培養容器と、
   前記培養容器内の前記細胞に供給する培養液を保持する培養槽と、
   前記培養槽に保持された前記培養液を前記培養容器に送液する送液ポンプと、を備えた細胞培養装置において、
   前記培養液中のターゲットガスの濃度を検出する溶存ガスセンサによって検出された溶存ガス濃度に基づいて前記培養液中の前記ターゲットガスの濃度を制御する気体制御モジュールを備えた
   ことを特徴とする細胞培養装置。
2. 請求項１に記載の細胞培養装置において、
   前記気体制御モジュールは、前記ターゲットガスを含む気体および前記培養液と接触する気体透過性フィルムと、前記気体透過性フィルムを介して前記気体を前記培養液に供給あるいは前記培養液から脱気させる溶存ガス濃度制御部と、を有する
   ことを特徴とする細胞培養装置。
3. 請求項１に記載の細胞培養装置において、
   前記気体制御モジュールは、前記ターゲットガスおよび前記培養液と接触する気体選択性透過フィルムと、前記気体選択性透過フィルムを介して前記ターゲットガスを前記培養液に加圧あるいは前記培養液から脱気させる溶存ガス濃度制御部と、を有する
   ことを特徴とする細胞培養装置。
4. 請求項２に記載の細胞培養装置において、
   前記気体制御モジュールのうち、前記気体透過性フィルムは、前記溶存ガスセンサの上流側に配置され、フィードバック制御により前記ターゲットガスの濃度が制御される
   ことを特徴とする細胞培養装置。
5. 請求項１に記載の細胞培養装置において、
   前記気体制御モジュールは、前記溶存ガスセンサによって検出された溶存ガス濃度を記憶する記憶装置を更に有する
   ことを特徴とする細胞培養装置。
6. 請求項１に記載の細胞培養装置において、
   前記培養槽と前記培養容器とを接続する流路を構成する配管は、前記ターゲットガスを含めて気体を透過させないガス不透過性配管で構成される
   ことを特徴とする細胞培養装置。
7. 請求項１に記載の細胞培養装置において、
   前記培養液の流速を測定する流速センサと、
   前記流速センサによって測定された前記培養液の流速に基づいて前記送液ポンプによる前記培養液の送液速度を制御する流速制御部と、を更に備えた
   ことを特徴とする細胞培養装置。
8. 請求項１に記載の細胞培養装置において、
   前記ターゲットガスは、ＣＯ_２あるいはＯ_２のうち少なくともいずれか一方である
   ことを特徴とする細胞培養装置。
9. 請求項１に記載の細胞培養装置において、
   前記細胞培養装置は、前記培養容器から排出された前記培養液が前記培養槽に戻る循環型の閉鎖系で構成される
   ことを特徴とする細胞培養装置。
10. 請求項９に記載の細胞培養装置において、
    前記培養容器から排出された前記培養液が前記培養槽に戻るまでの流路を構成する配管も、前記ターゲットガスを含めて気体を透過させないガス不透過性配管で構成される
    ことを特徴とする細胞培養装置。
11. 請求項１に記載の細胞培養装置において、
    前記細胞培養装置は、前記培養槽が前記培養液を供給するのみであり、前記培養容器から排出された前記培養液を貯留する廃棄槽を更に有する一方通行型の閉鎖系で構成される
    ことを特徴とする細胞培養装置。
12. 培養容器に収容された細胞に供給される培養液中のターゲットガスの濃度を制御する培養液の気体濃度制御方法において、
    前記培養容器内の前記細胞に供給する培養液中のターゲットガスの濃度を溶存ガスセンサによって検出し、検出された溶存ガス濃度に基づいて前記培養液中のターゲットガスを前記培養液に注入あるいは前記培養液から脱気することで前記培養液中の前記ターゲットガスの濃度を制御する
    ことを特徴とする培養液の気体濃度制御方法。
13. 請求項３に記載の細胞培養装置において、
    前記気体制御モジュールのうち、前記気体選択性透過フィルムは、前記溶存ガスセンサの上流側に配置され、フィードバック制御により前記ターゲットガスの濃度が制御される
    ことを特徴とする細胞培養装置。