JP2020076151A - マイクロラフ処理された電解銅箔及びこれを用いた銅張基板 - Google Patents
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Abstract
Description
また、粗化処理された電解銅箔に対する測定において、測定装置としては形状測定レーザー顕微鏡(メーカー:Keyence、型番:VK−X100)が用いられる。具体的には、粗化処理された電解銅箔における、粗化処理面のうちの22500μm2の区域(150μmx150μm)の表面に対し、前記レーザー顕微鏡により倍率1000倍にて測定を行った。得られた粗化処理面の外形に対し斜面補償を行った後、フィルター処理にて寸法5×5に平滑化した。Waについては表面粗さ解析によりうねり測定が実施された。フィルターとしてメディアン(median)フィルタータイプが採用され、また、各輪郭曲線に対するフィルターのカットオフ値λsが0.25μmであり、λcが0.08umであり、λfが80mmであった。Sa、Spdの測定は、Sタイプフィルターによるカットオフ波長が0.8μmとなり、Lタイプフィルターによるカットオフ波長が0.1mmとなるように行われた。
図4、図5を参照しながら説明すると、マイクロラフ処理された電解銅箔1におけるマイクロラフな表面10は連続式電解装置3で形成されたものである。連続式電解装置3には、1本の巻き出しロール31と、1本の巻き入れロール32と、巻き出しロール31と巻き入れロール32の間に設けられた複数の電解槽33と、複数の電解槽33の上方に夫々設けられた電解ロールセット34と、複数の電解槽33の内部に夫々設けられた補助ロールセット35を備える。その中で、電解槽33ごとに一対の電極331(例えば白金電極)が設けられ、電解ロールセット34ごとに2本の電解ロール341を有している。また、補助ロールセット35ごとに2本の補助ロール351を有している。各電解槽33における電極231、それに対応する電解ロールセット34が夫々外部電源サプライヤーに電気的に接続される。
原箔、電解装置及び銅含有電解液の組成については実施例1と同様であり、表1に示す操作条件のように、10m/minの生産速度で原箔に対し電解粗化処理を行った。マイクロラフ処理された電解銅箔1を1枚取って、実施例1と同様な方法でそのSa値とSpd値を測定した。その結果を表2に示す。又、2枚のマイクロラフ処理された電解銅箔1と1枚の基板2(低損失プリプレグ材料、型番S7439G)を貼り合わせて銅張基板Lを形成し、その後、実施例1と同様な方法でその剥離強度を測定した。その結果を表2に示す。
原箔、電解装置及び銅含有電解液の組成については実施例1と同様であり、表1に示す操作条件のように、10m/minの生産速度で原箔に対し電解粗化処理を行った。マイクロラフ処理された電解銅箔1を1枚取って、実施例1と同様な方法でそのSa値とSpd値を測定した。その結果を表2に示す。2枚のマイクロラフ処理された電解銅箔1と1枚の基板2(低損失プリプレグ材料、型番S7439G)を貼り合わせて銅張基板Lを形成すると共に、更に2枚のマイクロラフ処理された電解銅箔1と他の1枚の基板(中損失プリプレグ材料、型番S7040G)を貼り合わせて他の銅張基板Lを形成した。その後、実施例1と同様な方法でこれらの銅張基板Lの剥離強度を測定した。その結果を表2に示す。
原箔については図8及び図9に示された表面・断面構造を有するリバース処理済銅箔(型番RTF3、以下、"RTF3銅箔"と称する)を使用した。1枚のRTF3銅箔を取って、実施例1と同様な方法でそのSa値とSpd値を測定した。その結果を表2に示す。2枚のマイクロラフ処理された電解銅箔1と、1枚の基板2(低損失プリプレグ材料、型番S7439G)を貼り合わせて銅張基板Lを形成すると共に、更に2枚のマイクロラフ処理された電解銅箔1と、他の1枚の基板2(中損失プリプレグ材料、型番S7040G)を貼り合わせて他の銅張基板Lを形成した。その後、実施例1と同様な方法でこれらの銅張基板Lの剥離強度を測定した。その結果を表2に示す。
1 マイクロラフ処理された電解銅箔
10 マイクロラフな表面
11 山形状構造
12 凹み構造
13 微結晶クラスター
W ウィスカー
C 微結晶
2 基板
3 連続式電解設備
31 巻き出しロール
32 巻き入れロール
33 電解槽
331 電極
34 電解ロールセット
341 電解ロール
35 補助ロールセット
351 補助ロール
Claims (19)
- マイクロラフな表面を有し、且つ前記マイクロラフな表面に複数の山形状構造と、前記山形状構造に対して、複数の凹み構造を有する、マイクロラフ処理された電解銅箔であって、
国際規格であるISO25178に準拠して測定された、前記複数の山形状構造の算術平均高さ(Sa)と頂点密度(Spd)の積(Sa×Spd)が150000〜400000ミクロンメートル/平方ミリメートルであり、且つ日本工業規格であるJIS B0601−2001に準拠して測定された、前記複数の山形状構造の算術平均うねり(Wa)が0.06μmを超過し且つ1.5μm以下であることを特徴とする、マイクロラフ処理された電解銅箔。 - 前記複数の山形状構造のSa×Spdが240000μm/mm2を超過し且つ350000μm/mm2未満である、請求項1に記載のマイクロラフ処理された電解銅箔。
- 前記複数の山形状構造の算術平均うねり(Wa)が0.1μmを超過し且つ1.5μm未満である、請求項1に記載のマイクロラフ処理された電解銅箔。
- 前記凹み構造ごとに、U字形の断面輪郭及び/又はV字形の断面輪郭を有する、請求項1に記載のマイクロラフ処理された電解銅箔。
- 日本工業規格であるJIS 94に準拠して測定された、前記マイクロラフな表面の表面粗さ(Rz)が2.3μm以下である、請求項1に記載のマイクロラフ処理された電解銅箔。
- 基板と、前記基板の一方の表面に貼り付けられるためのマイクロラフな表面を有する、マイクロラフ処理された電解銅箔を備える銅張基板であって、
前記マイクロラフ処理された電解銅箔における、前記マイクロラフな表面に複数の山形状構造と、前記山形状構造に対して、複数の凹み構造を有しており、国際規格であるISO25178に準拠して測定された、前記複数の山形状構造の算術平均高さ(Sa)と頂点密度(Spd)の積(Sa×Spd)が150000〜400000ミクロンメートル/平方ミリメートルであり、且つ日本工業規格であるJIS B0601−2001に準拠して測定された、前記複数の山形状構造の算術平均うねり(Wa)が0.06μmを超過し且つ1.5μm以下である、銅張基板。 - 前記複数の山形状構造のSa×Spdが240000μm/mm2を超過し且つ350000μm/mm2未満である、請求項6に記載の銅張基板。
- 前記複数の山形状構造の算術平均うねり(Wa)が0.1μmを超過し且つ1.5μm未満である、請求項6に記載の銅張基板。
- 前記凹み構造ごとに、U字形の断面輪郭及び/又はV字形の断面輪郭を有する、請求項6に記載の銅張基板。
- 日本工業規格であるJIS 94に準拠して測定された、前記マイクロラフな表面の表面粗さ(Rz)が2.3μm以下である、請求項6に記載の銅張基板。
- 前記基板が低損失(Low loss)のプリプレグ材料で形成され、前記銅張基板の、4GHzでの挿入損失が−0.35dB/in〜−0.371dB/inである、請求項6に記載の銅張基板。
- 前記基板が低損失プリプレグ材料で形成され、前記銅張基板の、8GHzでの挿入損失が−0.601dB/in〜−0.635dB/inである、請求項6に記載の銅張基板。
- 前記基板が低損失プリプレグ材料で形成され、前記銅張基板の、12.89GHzでの挿入損失が−0.885dB/in〜−0.956dB/inである、請求項6に記載の銅張基板。
- 前記基板が低損失プリプレグ材料で形成され、前記銅張基板の、16GHzでの挿入損失が−1.065dB/in〜−1.105dB/inである、請求項6に記載の銅張基板。
- 前記基板が中損失プリプレグ材料で形成され、前記銅張基板の、4GHzでの挿入損失が−0.443dB/in〜−0.468dB/inである、請求項6又は11に記載の銅張基板。
- 前記基板が中損失プリプレグ材料で形成され、前記銅張基板の、8GHzでの挿入損失が−0.780dB/in〜−0.823dB/inである、請求項6又は12に記載の銅張基板。
- 前記基板が中損失プリプレグ材料で形成され、前記銅張基板の、12.89GHzでの挿入損失が−1.177dB/in〜−1.265dB/inである、請求項6又は13に記載の銅張基板。
- 前記基板が中損失プリプレグ材料で形成され、前記銅張基板の、16GHzでの挿入損失が−1.422dB/in〜−1.475dB/inである、請求項6又は14に記載の銅張基板。
- 前記基板が低損失プリプレグ材料で形成された場合、前記基板の、10GHzでのDk値が3.2以上3.8以下となり、且つDf値が0.005を超過し0.010以下となり、また、前記基板が中損失プリプレグ材料で形成された場合、前記基板の、10GHzでのDk値が3.5以上4.0以下となり、且つDf値が0.010を超過し0.015以下となる、請求項6に記載の銅張基板。
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