JP2020074353A - 化学機械研磨用タングステンバフ研磨スラリー - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、2018年5月21日出願の米国仮出願第62/674,363号に対する利益を主張する。
研磨剤、
触媒、
Wの腐食防止剤、
浸食およびWトレンチディッシングを低減させる化学添加剤、
酸化剤、
pH調整剤、ならびに、
溶媒、
を含んでおり、
pH範囲は、2.0〜8.0、2〜6.5、2.0〜4、2.0〜3.0、または2.0〜2.5である。
M(n+)−Lm
半導体基材を準備する工程、
研磨パッドを準備する工程、
開示された化学機械研磨(CMP)組成物を準備する工程、
半導体基材の表面を、研磨パッドおよび化学機械研磨組成物と接触させる工程、ならびに、
表面を研磨する工程。
ここで、少なくとも1つの誘電体層またはバリア層のタングステンに対する除去選択性は、1:1〜10:1、1.5:1〜9:1、2:1〜8:1、または2.5:1〜6:1である。
半導体基材
研磨パッド、
上記の化学機械研磨(CMP)組成物、
を含むCMP研磨システムが、タングステンを含む少なくとも1つの表面および誘電体層もしくはバリア層の少なくとも1つを含む基材のCMP研磨のために提供され、
半導体基材の表面は、研磨パッドおよび化学機械研磨組成物と接触される。
研磨剤、
触媒、
Wの腐食防止剤、
浸食およびWトレンチディッシングを低減させる化学添加剤、
酸化剤、
pH調整剤、ならびに、
溶剤、
を含んでおり、
pH範囲は、2.0〜8.0、2〜6.5、2.0〜4、2.0〜3.0または2.0〜2.5である。
M(n+)−Lm
半導体基材を準備する工程、
研磨パッドを準備する工程、
開示された化学機械研磨(CMP)組成物を準備する工程、
半導体基材の表面を研磨パッドおよび化学機械研磨組成物と接触させる工程、ならびに、
表面を研磨する工程、
ここで、少なくとも1つの誘電体層もしくはバリア層のタングステンに対する除去選択性は、1:1〜10:1、1.5:1〜9:1、2:1〜8:1、または2.5:1〜6:1である。
半導体基材、
研磨パッド、
上記の化学機械研磨(CMP)組成物、
ここで、半導体基材の表面は、研磨パッドおよび化学機械研磨組成物と接触している。
全般
CMP方法
用語集
成分
鉄コーティングシリカ:2.5質量%の固形分濃度の、約45ナノメートル(nm)の粒子径を有するコロイド状シリカ、このシリカ粒子は、鉄原子が、シリカ粒子上の利用可能な結合サイトの約25%に結合されているような程度に、鉄でコーティングされている。
Col Sil:日本のJGC Inc.または日本のFuso Chemical Inc.によって供給されるコロイド状シリカ粒子(種々のサイズを有する)。
エチレンイミンオリゴマー混合物:Sigma-Aldrich(St. Louis、ミズーリ州)によって供給される少量のテトラエチレンペンタミン(この製品のMSDSから5%以上で20%以下)を有するポリエチレンイミン。
PEI:ポリエチレンイミン(Aldrich、Milwaukee、ウィスコンシン州)。
Sigma-Aldrichによって供給されるポリスチレンスルホン酸。
Sigma-Aldrichによって供給される、ポリスチレンスルホネートのアンモニウム塩。
TEOS:テトラエチルオルソシリケート
研磨パッド:研磨パッド、DOW, Inc.から供給されたIC1000およびIC1010が、CMPの間に用いられた。
パラメータ
一般
ÅもしくはA:長さの単位
BP:背圧、単位はpsi
CMP:化学機械平坦化=化学機械研磨
CS:保持体速度
DF:下向き力:CMPの間に加えられる圧力、単位はpsi
min:分間
mL:ミリリットル
mV:ミリボルト
psi:ポンド毎平方インチ
PS:研磨機のプラテン回転速度、rpm(毎分回転数)
SF:スラリー流量、mL/分
Wt.%:質量パーセント(列挙された成分について)
TEOS:W選択性: (TEOSの除去速度)/(Wの除去速度)
CMP法
方法
CMP装置
ウエハ
研磨実験
例1
例2
例3
Claims (14)
- 化学機械平坦化(CMP)組成物であって、
アルミナ、セリア、ゲルマニア、シリカ、チタニア、ジルコニア、金属変性研磨剤、例えば鉄コーティングシリカ、およびそれらの組み合わせからなる群から選択された0.1質量%〜10質量%の研磨剤、
50ppm〜3000ppmの固体状態触媒または水溶性触媒、
エチレンイミン単位、ポリプロピレンイミン単位、およびそれらの組み合わせを含むオリゴマーまたはポリマーからなる群から選択された0.1ppm〜10ppmのWの腐食防止剤、前記ポリマーの分子量は約500〜1000000である、
(1)ポリスチレンスルホン酸またはそのアンモニウム塩、カリウム塩もしくはナトリウム塩で、1000〜2000000の範囲の分子量を有する、(2)ポリアクリル酸またはそのアンモニウム塩、カリウム塩もしくはナトリウム塩で、1000〜4000000の範囲の分子量を有する、および(3)それらの組み合わせ、からなる群から選択された25ppm〜2500ppmの化学添加剤、
酸化剤、
pH調整剤、ならびに
溶媒、
を含んでなり、
前記組成物が、2〜6.5のpHを有する、
化学機械平坦化(CMP)組成物。 - 前記固体状態触媒が、鉄コーティングシリカ、鉄コーティングアルミナ、鉄コーティングチタニア、鉄コーティングジルコニア、鉄コーティング有機ポリマーナノサイズ粒子、鉄コーティング無機金属酸化物、およびそれらの組合わせからなる群から選択された、請求項1記載の化学機械平坦化(CMP)組成物。
- 前記水溶性触媒が、下記の一般的分子構造、
M(n+)−Lm
式中、
Mは、Cs、Ce、Ru、Os、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、およびAuイオンからなる群から選択され、
n+は、金属イオンの酸化数を表し、そして1+、2+、または3+であり、
配位子分子Lは、有機アミン、モノ−、ビ−、トリ−、テトラ−カルボン酸官能基を有する有機酸、スルホン酸もしくはリン酸官能基、モノ−、ビ−、トリ−、テトラ−カーボネート、スルホネートもしくはホスフェート官能基を有するアンモニウム塩、カリウム塩またはナトリウム塩から選択された有機酸塩、ピリジン分子およびその誘導体、ビピリジン分子およびその誘導体、テルピリジンおよびその誘導体、有機芳香族酸およびそれらの塩、ピコリン酸およびその誘導体、ならびにそれらの組み合わせからなる群から選択され、
mは、鉄配位子錯体中のカチオン性鉄中心に直接および化学的に結合された配位子分子の数を表しており、mは、それぞれ1、2、3、4、5または6であることができ、それは金属配位子錯体を形成するのに選択された配位子に依存する、
を有する金属配位子錯体を含む、請求項1記載の化学機械平坦化(CMP)組成物。 - 前記金属配位子錯体が、
- 前記Wの腐食防止剤が、1ppm〜500ppmの濃度を有するポリエチレンイミンであり、前記ポリエチレンイミン(PEI)は、分岐または直鎖のいずれかであることができ、前記分岐ポリエチレンイミンは、下記に示された式(−NHCH2CH2−)x[−N(CH2CH2NH2)CH2CH2−]yで表され、
- 前記ポリスチレンスルホン酸またはそのアンモニウム塩、カリウム塩もしくはナトリウム塩、あるいはポリアクリル酸またはそのアンモニウム塩、カリウム塩もしくはナトリウム塩が、下記の一般的分子構造、
を有する、請求項1記載の化学機械平坦化(CMP)組成物。 - 前記酸化剤が、H2O2、および尿素過酸化水素、過酸化ナトリウムもしくは過酸化カリウム、過酸化ベンジル、ジ−t−ブチルペルオキシド、過硫酸塩、過炭酸塩、過塩素酸塩、過臭素酸塩、過ヨウ素酸塩、およびそれらの酸、ペルオキシ酸、過酢酸、モノ過硫酸、およびジ過硫酸、ヨウ素酸、およびそれらの塩、硝酸、それらの組み合わせからなる群から選択された、少なくとも1つのペルオキシ基(−O−O−)を含むペルオキシ酸化剤からなる群から選択された、請求項1記載の化学機械平坦化(CMP)組成物。
- 前記pH調整剤が、(1)硝酸、スルホン酸、リン酸およびそれらの組み合わせからなる群から選択された無機酸、(2)水酸化アンモニア、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムおよびそれらの組み合わせからなる群から選択された無機塩基、からなる群から選択された、請求項1記載の化学機械平坦化(CMP)組成物。
- 前記溶媒が、水、水と混和性の液体からなる群から選択された、請求項1記載の化学機械平坦化(CMP)組成物。
- 前記組成物が、コロイド状シリカ、鉄コーティングシリカまたはグルコン酸鉄、H2O2、ポリエチレンイミン、ポリスチレンスルホン酸(PSSA)、硝酸、および水、ならびに2.0〜3.5のpHを含む、請求項1記載の化学機械平坦化(CMP)組成物。
- タングステンおよび、誘電体層もしくはバリア層の少なくとも1つを含む表面を含む半導体基材を化学機械研磨する方法であって、以下の工程、
前記半導体基材を準備する工程、
研磨パッドを準備する工程、
請求項1〜10のいずれか1項記載の化学機械研磨(CMP)組成物を準備する工程、
前記半導体基材の前記表面を前記研磨パッドおよび前記化学機械研磨組成物と接触させる工程、ならびに、
前記半導体の前記表面を研磨する工程、
を含んでなり、
誘電体層もしくはバリア層の少なくとも1つのタングステンに対する除去選択性が、1〜10の範囲である、
方法。 - 前記誘電体層もしくはバリア層の少なくとも1つが、酸化物膜を含む誘電体層であり、3psiで、タングステンの除去速度が100Å/分超であり、前記酸化物膜の除去速度が500Å/分超である、請求項11記載の方法。
- タングステンの除去速度が、3psiの下向き力で、100Å/分超、好ましくは150Å/分超、そしてより好ましくは200Å/分超であり、前記誘電体層の除去速度が、3psiで、500Å/分超、好ましくは700Å/分超である、請求項11記載の方法。
- タングステンおよび、誘電体層もしくはバリア層の少なくとも1つを含む表面を含む半導体基材を化学機械研磨するシステムであって、
前記半導体基材、
研磨パッド、
請求項1〜10のいずれか1項記載の化学機械研磨(CMP)組成物、
を含み、
前記半導体基材の前記表面が、前記研磨パッドおよび前記化学機械研磨組成物と接触する、
システム。
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US16/414,093 US20190352535A1 (en) | 2018-05-21 | 2019-05-16 | Chemical Mechanical Polishing Tungsten Buffing Slurries |
Publications (2)
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