JP2020070449A - 積層造形体の製造方法 - Google Patents

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【課題】積層造形体の硬さを積層方向において制御することが可能な積層造形体の製造方法を提供することである。【解決手段】本発明の一態様にかかる積層造形体の製造方法は、ベースプレート10上に金属粉体を供給し、この金属粉体を部分的に加熱して溶融凝固させることで、ベースプレート10上に積層造形体31を形成する積層造形体の製造方法である。ベースプレート10はベースプレート10上に形成された積層造形体31に対してアニール処理を実施するためのヒータ15を備えている。ヒータ15は、積層造形体31の形成開始から期間t1経過時にベースプレート10が最高温度に到達し、その後、当該最高温度よりも低い温度を期間t2の間、維持するようにベースプレート10を加熱する。そして、期間t1と期間t2の長さを調整することで、積層造形体31の積層方向における硬さを調整する。【選択図】図5

Description

本発明は積層造形体の製造方法に関する。
近年、金属粉体にレーザビームを照射し、焼結または溶融凝固させることにより、3次元形状の積層造形体を製造する製造装置が注目されている。具体的には、ベースプレート上に金属粉体を供給する工程と、供給された金属粉体を部分的に加熱して溶融凝固させる工程とを繰り返すことで、ベースプレート上に積層造形体を形成することができる。
特許文献1には、金属製のベースプレート上に金属粉体を配置し、この金属粉体にレーザ光を照射することで、ベースプレート上に積層造形体を形成する技術が開示されている。
特開2017−088992号公報
上述のように、金属粉体にレーザビームを照射し、焼結または溶融凝固させることにより形成された積層造形体は、様々な分野で用いられてきている。積層造形体を使用する分野によっては、積層造形体の一部を軟らかくすることが求められる。一例を挙げると、車両に用いられるクラッシュボックスは衝突時のエネルギーを吸収するための部材であるが、このようなクラッシュボックスを上述の積層造形体の製造方法を用いて形成する場合は、積層造形体を形成する際に、車両に取り付けられる側を硬くし、衝突する側を軟らかくする必要がある。すなわち、積層造形体の硬さを積層方向において制御する技術が必要とされている。
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、積層造形体の硬さを積層方向において制御することが可能な積層造形体の製造方法を提供することを目的とするものである。
本発明の一態様にかかる積層造形体の製造方法は、ベースプレート上に金属粉体を供給し、当該供給された金属粉体を部分的に加熱して溶融凝固させることで、前記ベースプレート上に積層造形体を形成する積層造形体の製造方法である。前記ベースプレートは前記ベースプレート上に形成された積層造形体に対してアニール処理を実施するためのヒータを備えており、前記ヒータは、前記積層造形体の形成開始から第1の期間経過時に前記ベースプレートが最高温度に到達し、当該最高温度に到達した後、当該最高温度よりも低い温度を第2の期間維持するように前記ベースプレートを加熱し、前記第1及び第2の期間の長さを調整することで、前記積層造形体の積層方向における硬さを調整する。
本発明の一態様にかかる積層造形体の製造方法では、ベースプレート上に積層造形体を形成している間、ベースプレート上に形成された積層造形体に対してアニール処理を実施している。具体的には、積層造形体の形成開始から第1の期間経過時にベースプレートが最高温度に到達し、当該最高温度に到達した後、当該最高温度よりも低い温度を第2の期間維持するようにしている。そして、第1及び第2の期間の長さを調整することで、積層造形体の積層方向における硬さを調整している。したがって、積層造形体の硬さを積層方向において制御することができる。
本発明により、積層造形体の硬さを積層方向において制御することが可能な積層造形体の製造方法を提供することができる。
実施の形態にかかる積層造形体製造装置を説明するための図である。 ベースプレートの構造を説明するための斜視図である。 実施の形態にかかる積層造形体の製造方法を説明するための斜視図である。 実施の形態にかかる積層造形体の製造方法を説明するための斜視図である。 ベースプレートの温度プロファイルの一例を示す図である。 アルミニウム合金の熱処理(焼なまし)データベースの一例を示す図である。 本発明の効果を説明するための図である。 本発明の効果を説明するための図である。 ベースプレートの温度プロファイルを決定する工程を説明するためのフローチャートである。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
まず、本実施の形態にかかる積層造形体の製造方法を実施するための装置(積層造形体製造装置)について説明する。図1は、本実施の形態にかかる積層造形体製造装置を説明するための図である。図1に示すように、積層造形体製造装置1は、ベースプレート10、原料供給手段11、溶融手段12、ヒータ15、温度センサ16、及び温度制御部17を備える。
図1に示す積層造形体製造装置1は、原料供給手段11からベースプレート10上に金属粉体21を供給(積層)し、供給された金属粉体21を溶融手段12を用いて部分的に加熱して溶融凝固させる処理を繰り返すことで、ベースプレート10上に積層造形体22を形成する。つまり、積層造形体製造装置1は、3Dプリンタ技術を利用した製造装置である。また、図1に示す積層造形体製造装置1のベースプレート10は、ベースプレート10上に形成された積層造形体22に対してアニール処理を実施するためのヒータ15を備えている。以下、積層造形体製造装置1について詳細に説明する。
原料供給手段11は、ベースプレート10上に金属粉体21を供給可能に構成されている。具体的には、原料供給手段11は、ベースプレート10上に金属粉体21の層を1層毎に順番に積層することができるように構成されている。例えば、原料供給手段11には移動手段が取り付けられており、この移動手段を用いることで、ベースプレート10に対する原料供給手段11の位置を調整することができる。
金属粉体21には、溶融手段12を用いて加熱することで溶融凝固することができる材料を用いることができる。例えば、単一の金属元素や複数の金属元素を含む合金などを用いることができる。一例を挙げると、アルミニウム合金(例えば、AL−10%Si−0.3Mg合金)を用いることができる。
溶融手段12は、ベースプレート10上に供給(積層)された金属粉体21を部分的に加熱して溶融凝固させることで、ベースプレート10上に積層造形体22を形成する。溶融手段12は、例えば、レーザ光を出力可能なレーザ装置を用いて構成することができる。また、溶融手段(レーザ装置)12は、レーザ光を走査する走査手段を備えており、ベースプレート10上の任意の場所にレーザ光を照射することができるように構成されている。したがって、ベースプレート10上の任意の場所の金属材料21に対してレーザ光を照射することができる。
ベースプレート10は、積層造形体22を形成するためのステージとして機能する。また、ベースプレート10は、ベースプレート10上に形成された積層造形体22に対してアニール処理を実施する機能を有する。ベースプレート10は、ヒータ15と温度センサ16とを備えており、温度制御部17を用いてベースプレート10の温度が制御される。
図1に示すベースプレート10の断面図、及び図2に示すベースプレート10の斜視図に示すように、ベースプレート10には複数のヒータ15が取り付けられている。ヒータ15には、例えばカートリッジヒータを用いることができる。このように、ベースプレート10にヒータ15を設けることで、ベースプレート10の表面を加熱することができる。また、ベースプレート10には温度センサ16が設けられている。例えば温度センサ16には熱電対などを用いることができる。温度センサ16は、ベースプレート10の表面の温度を正確に測定できる位置に取り付けられている。なお、図1、図2に示したヒータ15の配置や温度センサ16の配置は一例であり、本実施の形態にかかる積層造形体製造装置1ではこのような構成に限定されることはない。
温度制御部17は、予め決定されたベースプレート10の温度プロファイルに基づいてヒータ15を制御する。温度制御部17は、温度センサ16で測定されたベースプレート10の実際の温度が、温度プロファイルの設定温度となるようにヒータ15を制御する。なお、ベースプレート10の温度プロファイルについては後述する。
次に、本実施の形態にかかる積層造形体の製造方法について説明する。図3、図4は、本実施の形態にかかる積層造形体の製造方法を説明するための斜視図である。図5は、ベースプレート10の温度プロファイルの一例を示す図である。なお、図5ではヒータ15の温度設定値を示している。本実施の形態にかかる積層造形体の製造方法では、積層造形体を形成する過程において、積層造形体の積層厚さに合わせてベースプレート10の温度を調整することで、積層造形体の積層方向における硬さを制御している。本実施の形態にかかる積層造形体の製造方法では、ベースプレート10上に形成された積層造形体22に対してアニール処理を実施する際の温度プロファイルに特徴がある。
具体的には、図5に示すように、積層造形体の形成開始(積層高さ=0)から期間t1経過時にベースプレートが最高温度に到達し、当該最高温度に到達した後、当該最高温度よりも低い温度を期間t2の間、維持するように、ヒータ15がベースプレート10を加熱するように制御している。そして、期間t1の長さと期間t2の長さを調整することで(換言すると期間t1と期間t2との割合を調整することで)、積層造形体の積層方向における硬さを調整している。図5に示す例では、期間t1が期間t2よりも短くなるように設定している。
以下で説明する本実施の形態にかかる積層造形体の製造方法では、一例として、直径50mm、高さ100mm、肉厚2mmの筒状の積層造形体(図7参照)を、AL−10%Si−0.3Mg合金を用いて形成する場合について説明する。このときの造形条件は、金属粉体21の1層当たりの厚さを0.05mmとし、1層当たりの処理時間を0.2分としている。この条件では、厚さ1mmの積層造形体を形成するのに20層必要となり、このときの処理時間は4分となる。
なお、以下に示す例は一例であり、本実施の形態にかかる積層造形体の製造方法は、他の任意の形状を有する積層造形体や他の任意の金属材料(金属粉体)を用いた積層造形体の製造にも適用することができる。
図3のステップS1に示すように、積層造形体31の造形開始直後において、ベースプレート10の温度は100℃に設定されている(図5参照)。なお、図3、図4では、積層造形体31の周囲の金属粉体(図1の金属粉体21に対応)の図示を省略している。
その後、ステップS2に示すように、造形開始後40分が経過したタイミングにおいて、積層造形体31の積層高さが最終形状の10%(10mm)に到達する。このとき、ベースプレート10の温度は最高温度である300℃に到達する(図5参照)。
その後、ステップS3に示すように、造形開始後80分が経過したタイミングにおいて、積層造形体31の積層高さが最終形状の20%(20mm)に到達する。ベースプレート10の温度は、ステップS2において最高温度(300℃)に到達した後、この最高温度よりも低い温度を維持するように設定されており、ステップS3では、ベースプレート10の温度は250℃に設定されている(図5参照)。
その後、ステップS4に示すように、造形開始後120分が経過したタイミングにおいて、積層造形体31の積層高さが最終形状の30%(30mm)に到達する。また、ステップS4では、ベースプレート10の温度は225℃に設定されている(図5参照)。
その後、図4のステップS5に示すように、造形開始後200分が経過したタイミングにおいて、積層造形体31の積層高さが最終形状の50%(50mm)に到達する。また、ステップS5では、ベースプレート10の温度は200℃に設定されている(図5参照)。
その後、ステップS6に示すように、造形開始からの経過時間が400分に到達すると、積層造形体31の積層高さが最終形状の高さ(100mm)に到達する。ステップS5からステップS6までの間において、ベースプレート10の温度が200℃から100℃まで緩やかに下がるように設定されている(図5参照)。また、積層造形体の造形が終了すると、ヒータ15の温度は室温に設定される。最後にステップS7に示すように、ベースプレート10から積層造形体31を切り離す。
このように、本実施の形態にかかる積層造形体の製造方法では、ベースプレート10の上に積層造形体を形成している間、ベースプレート10上に形成された積層造形体に対してアニール処理を実施している。そして、このときのベースプレート10の温度プロファイルが図5に示す温度プロファイルとなるようにしている。すなわち、積層造形体の形成開始(積層高さ=0)から期間t1経過後にベースプレートが最高温度に到達し、当該最高温度に到達した後、当該最高温度よりも低い温度を期間t2の間、維持するように、ヒータ15がベースプレート10を加熱するように制御している。そして、期間t1の長さと期間t2の長さを調整することで(換言すると期間t1と期間t2の割合を調整することで)、積層造形体の積層方向における硬さを調整している。図5に示す例では、期間t1が期間t2よりも短くなるように設定している。よって、積層造形体の硬さを積層方向において制御することができる。以下、本発明のメカニズムについて詳細に説明する。
図6は、アルミニウム合金の熱処理(焼なまし)データベースの一例を示す図である。図6では、アルミニウム合金をアニール処理した際の温度と時間に対するビッカース硬さ(Hv5kg)の値を示している。図6に示すように、アルミニウム合金のアニール処理温度が高くなるほど、またアニール処理の時間が長くなるほど、ビッカース硬さ(Hv5kg)の値が小さくなる(つまり、金属材料が軟らかくなる)傾向にある。これは、アニール処理の温度が高く、またアニール処理の時間が長いほど、金属材料中の結晶粒径が大きくなり、その結果、金属材料が軟らかくなるからである。逆に、アルミニウム合金のアニール処理温度が低くなるほど、またアニール処理の時間が短くなるほど、ビッカース硬さ(Hv5kg)の値が大きくなる(つまり、金属材料が硬くなる)傾向にある。
本実施の形態にかかる積層造形体の製造方法では、積層造形体のアニール処理の条件(つまり、ベースプレート10の温度)を積層造形体の積層厚さに合わせて調整することで、積層造形体の硬さを積層方向において制御している。すなわち、ベースプレート10を加熱して積層造形体31をアニールする際に、図5に示す温度プロファイルのように、積層造形体の形成開始から短時間(t1)でベースプレート10の温度が最高温度に到達し、その後、最高温度よりも低い温度を長時間(t2)維持した状態で緩やかにベースプレート10の温度が下がるようにする。
このようなアニール処理を施すことで、図7に示す積層造形体31のベースプレート10側の根元部分32が高温で長時間アニールされる。よって、積層造形体31の根元部分32のビッカース硬さ(Hv5kg)の値が小さくなる(つまり、軟らかくなる)。一方、積層造形体31のベースプレート10から離れた側の先端部分33は、ベースプレート10の根元部分32よりも低温でアニールされるので、ビッカース硬さ(Hv5kg)の値が大きくなる(つまり硬くなる)。
上述の理由から、図7に示す積層造形体31では、根元部分32から先端部分33に向かうにしたがって、ビッカース硬さ(Hv5kg)の値が大きくなる。具体的には、ビッカース硬さ(Hv5kg)の値が、根元部分32から先端部分33に向かって、65〜75、75〜100、100〜、のようになる。したがって、積層造形体31の硬さを積層方向において制御することができる。
また、上述のように本実施の形態では、期間t1の長さと期間t2の長さを調整することで(換言すると期間t1と期間t2との割合を調整することで)、積層造形体の積層方向における硬さを調整することができる。具体的には、期間t1の長さを長くするほど(換言すると、期間t2に対する期間t1の割合が大きいほど)、積層造形体31が高温でアニールされる領域が増える。したがって、図7に示す例において、ビッカース硬さ(Hv5kg)の値が小さくなる(つまり、軟らかくなる)領域を積層造形体31の先端部分33側に向かって増やすことができる。
逆に、期間t1の長さが短いほど(換言すると、期間t2に対する期間t1の割合が小さいほど)、積層造形体31が高温でアニールされる領域が減少する。つまり、高温でアニールされる領域が積層造形体31の根元部分32側に限定される。この場合は、ビッカース硬さ(Hv5kg)の値が小さくなる(つまり、軟らかくなる)領域を減少させることができる。
このように、本実施の形態では、期間t1の長さと期間t2の長さを調整することで(換言すると期間t1と期間t2との割合を調整することで)、積層造形体の積層方向における硬さを調整することができる。
特に、本実施の形態にかかる積層造形体の製造方法は、クラッシュボックスの製造に好適に用いることができる。車両に用いられるクラッシュボックスは衝突時のエネルギーを吸収するための部材である。このため、クラッシュボックスの車両に取り付けられる側を硬くするとともに、クラッシュボックスの衝突する側を軟らかくする必要がある。このような構造を備える積層造形体は、上述した本実施の形態にかかる積層造形体の製造方法を用いることで容易に形成することができる。
つまり、図8に示すように、積層造形体31の先端部分33(硬い側)を車両の土台34に取り付け、積層造形体31の根元部分32(軟らかい側)を衝突する側に配置することでクラッシュボックスを構成する。このような構成とすることで、クラッシュボックス(積層造形体31)の衝突する側(根元部分32側)を軟らかくすることができるので、エネルギー吸収性能の優れたクラッシュボックスを構成することができる。また、クラッシュボックス(積層造形体31)の土台34に取り付ける側(先端部分33)を硬くすることができるので、衝突時にクラッシュボックスの土台34側の部分が折れることを抑制することができる。
次に、図9のフローチャートを用いて、アニール処理時におけるベースプレートの温度プロファイルを決定する工程について説明する。まず、積層造形体を形成する際に用いる金属材料の熱処理データベース50(図6参照)を予め準備する。次に、形成する積層造形体の目標とする硬さ分布を決定する(ステップS10)。例えば、図7に示したように、積層造形体31の積層方向における硬さ分布を決定する。次に、形成する積層造形体のCAD(Computer-Aided Design)データから積層造形体(ワーク)の形状を抽出する(ステップS11)。次に、抽出した積層造形体の形状から積層造形体の断面形状(つまり、積層方向における厚さ)を抽出する(ステップS12)。また、積層造形体を形成する際の1層当たりの積層時間を算出する(ステップS13)。
次に、ステップS12で算出した積層造形体の断面形状(積層方向における厚さ)と、ステップS13で算出した1層当たりの積層時間とを用いて、積層造形体を形成する際の全体の積層時間を算出する(ステップS14)。具体的には、「積層造形体の積層方向における厚さ」を「1層当たりの厚さ」で除算することで、積層造形体を形成する際の「総層数」を求める。そして、求めた「総層数」と「1層当たりの積層時間」とを乗算することで、「積層造形体の積層時間(処理時間)」を算出することができる。なお、上述の例では、各々の層における処理時間が同一であることを前提としているが、各々の層における処理時間が異なる場合は、各々の層毎に処理時間を求めて同様の計算を行う。
その後、熱処理データベース50の熱処理データと、ステップS10で決定した積層造形体の目標とする硬さ分布と、ステップS14で算出した全体の積層時間とを用いて、ベースプレートの温度プロファイル(図5参照)を決定する(ステップS15)。このような処理を行うことで、積層造形体に対してアニール処理を実施する際のベースプレート10の温度プロファイルを決定することができる。なお、図9に示した温度プロファイルを決定する工程は、コンピュータ等の情報処理装置でプログラムを実行することで行うことができる。
以上、本発明を上記実施の形態に即して説明したが、本発明は上記実施の形態の構成にのみ限定されるものではなく、本願特許請求の範囲の請求項の発明の範囲内で当業者であればなし得る各種変形、修正、組み合わせを含むことは勿論である。
1 積層造形体製造装置
10 ベースプレート
11 原料供給手段
12 溶融手段
15 ヒータ
16 温度センサ
17 温度制御部
21 金属粉体
22、31 積層造形体

Claims (1)

  1. ベースプレート上に金属粉体を供給し、当該供給された金属粉体を部分的に加熱して溶融凝固させることで、前記ベースプレート上に積層造形体を形成する積層造形体の製造方法であって、
    前記ベースプレートは前記ベースプレート上に形成された積層造形体に対してアニール処理を実施するためのヒータを備えており、
    前記ヒータは、前記積層造形体の形成開始から第1の期間経過時に前記ベースプレートが最高温度に到達し、当該最高温度に到達した後、当該最高温度よりも低い温度を第2の期間維持するように前記ベースプレートを加熱し、
    前記第1及び第2の期間の長さを調整することで、前記積層造形体の積層方向における硬さを調整する、
    積層造形体の製造方法。
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