JP2020053587A - Multilayer substrate and component mounting substrate, and manufacturing method thereof - Google Patents

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JP2020053587A JP2018182433A JP2018182433A JP2020053587A JP 2020053587 A JP2020053587 A JP 2020053587A JP 2018182433 A JP2018182433 A JP 2018182433A JP 2018182433 A JP2018182433 A JP 2018182433A JP 2020053587 A JP2020053587 A JP 2020053587A
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Abstract

To provide a multilayer substrate and a component mounting substrate excellent in connection reliability, and to provide a manufacturing method thereof.SOLUTION: A multilayer substrate 100 includes an insulation substrate 15 with circuit pattern having an insulation substrate 4 and a surface circuit pattern 2 and a backside circuit pattern 3 provided on the surface and the backside of the insulation substrate 4, and conductive paste 6 filling a through hole 1, and electrically connected with the surface circuit pattern 2 and the backside circuit pattern 3, has an exposure part 20 where the insulation substrate 4 is exposed around the through hole 1, in at least one of the surface and the backside of the insulation substrate 4, where the exposure part 20 has multiple extension parts extending in the peripheral direction of the through hole 1, in the plan view, and at least a part of the exposure part 20 is coated with the conductive paste 6.SELECTED DRAWING: Figure 1B

Description

本開示は、多層基板及び部品実装基板、並びに、それらの製造方法に関する。   The present disclosure relates to a multilayer board and a component mounting board, and a method for manufacturing the same.

多層基板の層間接続部は、部品実装工程での熱処理や半田付け作業時の熱衝撃に耐える接続信頼性が必要である。例えば、特許文献1では、絶縁基板を貫通する透孔の両端開口部の内径を変えると共に、透孔内に小径部を有することで、接続信頼性を向上させた回路基板及び回路基板の製造方法を開示している。   The interlayer connection portion of the multilayer board needs to have connection reliability that can withstand heat treatment in a component mounting process and thermal shock in a soldering operation. For example, in Patent Literature 1, a circuit board and a method of manufacturing a circuit board having improved connection reliability by changing the inner diameter of both end openings of a through hole penetrating an insulating substrate and having a small diameter portion in the through hole. Is disclosed.

特開平2−33996号公報JP-A-2-33996

しかしながら上記特許文献の技術では、接続信頼性について、さらなる改善の余地がある。   However, there is room for further improvement in connection reliability in the technology of the above-mentioned patent document.

本開示に係る実施形態は、接続信頼性に優れる多層基板及び部品実装基板、並びに、それらの製造方法を提供することを課題とする。   It is an object of embodiments of the present disclosure to provide a multilayer board and a component mounting board having excellent connection reliability, and a method for manufacturing the same.

本開示の実施形態に係る多層基板は、絶縁基板と前記絶縁基板の表面及び裏面に設けられる回路パターンとを持ち、貫通穴が形成されている回路パターン付き絶縁基板と、前記貫通穴に充填され、前記回路パターンと電気的に接続される導電性ペーストと、を備え、前記絶縁基板の表面及び裏面のうちの少なくとも一方に、前記貫通穴の周囲において前記絶縁基板が露出した露出部を有し、前記露出部は、平面視で、前記貫通穴の外周方向へ延出する複数の延出部を有し、前記露出部の少なくとも一部が前記導電性ペーストで被覆されている。   A multilayer substrate according to an embodiment of the present disclosure has an insulating substrate and a circuit pattern provided on the front surface and the back surface of the insulating substrate, an insulating substrate with a circuit pattern having a through hole formed therein, and the through hole is filled. A conductive paste electrically connected to the circuit pattern, and at least one of a front surface and a back surface of the insulating substrate has an exposed portion where the insulating substrate is exposed around the through hole. The exposed portion has a plurality of extending portions extending in the outer peripheral direction of the through hole in plan view, and at least a part of the exposed portion is covered with the conductive paste.

本開示の実施形態に係る部品実装基板は、前記記載の多層基板に、実装部品が実装されたものである。   A component mounting board according to an embodiment of the present disclosure is obtained by mounting components on the multilayer board described above.

本開示の実施形態に係る多層基板の製造方法は、絶縁基板と前記絶縁基板の表面及び裏面に設けられる回路パターンとを持ち、貫通穴が形成されている回路パターン付き絶縁基板を準備する工程と、前記貫通穴に導電性ペーストを充填する工程と、を含み、前記回路パターン付き絶縁基板を準備する工程は、前記絶縁基板の表面及び裏面のうちの少なくとも一方に、前記貫通穴の周囲において前記絶縁基板が露出し、前記貫通穴の外周方向へ延出する複数の延出部を有する露出部を形成し、前記導電性ペーストを充填する工程は、前記露出部の少なくとも一部を前記導電性ペーストで被覆する。   A method for manufacturing a multilayer substrate according to an embodiment of the present disclosure includes an insulating substrate and a circuit pattern provided on the front surface and the back surface of the insulating substrate, and a step of preparing an insulating substrate with a circuit pattern in which a through hole is formed. Filling the through-hole with a conductive paste, the step of preparing the insulating substrate with a circuit pattern, at least one of the front surface and the back surface of the insulating substrate, around the through-hole, Forming an exposed portion having a plurality of extended portions extending in an outer peripheral direction of the through hole, wherein the insulating substrate is exposed, and filling the conductive paste with at least a part of the exposed portion; Cover with paste.

本開示の実施形態に係る部品実装基板の製造方法は、前記記載の多層基板の製造方法で製造された多層基板の表面及び裏面にレジストを形成する工程と、前記レジストを形成した多層基板に部品を実装する工程と、を含む。   A method of manufacturing a component mounting board according to an embodiment of the present disclosure includes a step of forming a resist on the front and back surfaces of a multilayer board manufactured by the method of manufacturing a multilayer board described above, and a step of forming a component on the multilayer board formed with the resist. And mounting.

本開示に係る実施形態の多層基板及び部品実装基板、並びに、それらの製造方法は、高い接続信頼性を有する。   The multilayer board and the component mounting board of the embodiment according to the present disclosure, and their manufacturing methods have high connection reliability.

実施形態に係る多層基板の構成を模式的に示す平面図である。It is a top view showing typically composition of a multilayer substrate concerning an embodiment. 実施形態に係る多層基板の構成を模式的に示す断面図であり、図1AのIB−IB線に相当する断面を示す。FIG. 1B is a cross-sectional view schematically illustrating a configuration of the multilayer substrate according to the embodiment, illustrating a cross-section corresponding to line IB-IB in FIG. 1A. 実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。FIG. 4 is a plan view schematically showing an exposed portion and a formation position of a conductive paste in the multilayer substrate according to the embodiment. 実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view schematically showing an exposed portion and a formation position of a conductive paste in the multilayer substrate according to the embodiment. 従来の多層基板における、導電性ペースト印刷時のマスクの位置ズレについて説明する平面図である。FIG. 9 is a plan view illustrating a positional shift of a mask when printing a conductive paste on a conventional multilayer substrate. 実施形態に係る多層基板における、導電性ペースト印刷時のマスクの位置ズレについて説明する平面図である。FIG. 5 is a plan view illustrating a positional shift of a mask when printing a conductive paste in the multilayer substrate according to the embodiment. 実施形態に係る多層基板の製造方法のフローチャートである。4 is a flowchart of a method for manufacturing a multilayer substrate according to an embodiment. 実施形態に係る多層基板の製造方法における、回路パターンを形成する前の状態を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state before a circuit pattern is formed in the method for manufacturing a multilayer substrate according to the embodiment. 実施形態に係る多層基板の製造方法における、回路パターンを形成する工程を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a step of forming a circuit pattern in the method for manufacturing a multilayer substrate according to the embodiment. 実施形態に係る多層基板の製造方法における、貫通穴を形成する工程を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a step of forming a through hole in the method for manufacturing a multilayer substrate according to the embodiment. 実施形態に係る多層基板の製造方法における、導電性ペーストを充填する工程を示す断面図であり、貫通穴に導電性ペーストを充填すると共に、露出部を導電性ペーストで被覆する工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the process of filling a conductive paste in the manufacturing method of the multilayer board which concerns on embodiment, and fills a through-hole with a conductive paste, and shows the process of covering an exposed part with a conductive paste. It is. 実施形態に係る多層基板の製造方法における、導電性ペーストを充填する工程を示す断面図であり、導電性ペーストを加熱加圧処理する工程を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a step of filling a conductive paste in the method for manufacturing a multilayer substrate according to the embodiment, and is a cross-sectional view illustrating a step of performing heat and pressure treatment on the conductive paste. 実施形態に係る多層基板の製造方法における、導電性ペーストを研磨する工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the process of grinding | polishing a conductive paste in the manufacturing method of the multilayer substrate which concerns on embodiment. 実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成する前の露出部を模式的に示す平面図である。FIG. 4 is a plan view schematically showing an exposed portion before forming a through hole in the multilayer substrate according to the embodiment. 実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成した後の露出部を模式的に示す平面図である。FIG. 3 is a plan view schematically showing an exposed portion after forming a through hole in the multilayer substrate according to the embodiment. 実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。FIG. 4 is a plan view schematically showing an exposed portion and a formation position of a conductive paste in the multilayer substrate according to the embodiment. 実施形態に係る部品実装基板の構成を模式的に示す断面図である。It is a sectional view showing typically composition of a component mounting board concerning an embodiment. 実施形態に係る部品実装基板の製造方法における、レジストを形成する前の多層基板を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing the multilayer board before forming a resist in the method for manufacturing a component mounting board according to the embodiment. 実施形態に係る部品実装基板の製造方法における、レジストを形成する工程を示す断面図であり、多層基板の表面にレジストを形成する工程を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a step of forming a resist in the method of manufacturing the component mounting board according to the embodiment, and is a cross-sectional view illustrating a step of forming a resist on a surface of a multilayer substrate. 実施形態に係る部品実装基板の製造方法における、レジストを形成する工程を示す断面図であり、多層基板の裏面にレジストを形成する工程を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a step of forming a resist in the method of manufacturing the component mounting board according to the embodiment, and is a cross-sectional view illustrating a step of forming a resist on the back surface of the multilayer substrate. 実施形態に係る部品実装基板の製造方法における、部品を実装する工程を示す断面図であり、接着層を形成する工程を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a step of mounting components in the method of manufacturing the component mounting board according to the embodiment, and is a cross-sectional view illustrating a step of forming an adhesive layer. 実施形態に係る部品実装基板の製造方法における、部品を実装する工程を示す断面図であり、部品を実装した後の状態を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating a step of mounting components in the method of manufacturing the component mounting board according to the embodiment, and is a cross-sectional view illustrating a state after the components are mounted. 実施例で用いた、導電性ペーストを充填する前の層間接続部評価用基板を示す画像である。It is an image which shows the board | substrate for interlayer connection part evaluation before filling a conductive paste used in the Example. 図8Aの一部を拡大して示す画像である。It is an image which expands and shows a part of FIG. 8A. 実施例で用いた、導電性ペーストを充填した後の層間接続部評価用基板における層間接続部の接続状態を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically the connection state of the interlayer connection part in the board for interlayer connection part evaluation after filling with the conductive paste used in the Example. 実施例で用いた、導電性ペーストを充填した後の層間接続部評価用基板における、接続抵抗値と、抵抗値バラツキを示すグラフであり、露出部形状が円環状のもの及び十字状のものについてのペースト印刷マスク位置合わせが適切な場合のグラフである。It is a graph showing the connection resistance value and the resistance value variation in the interlayer connection portion evaluation substrate after filling the conductive paste used in the examples, the exposed portion shape is annular and cross-shaped 4 is a graph when the paste print mask alignment is appropriate. 実施例で用いた、導電性ペーストを充填した後の層間接続部評価用基板における、接続抵抗値と、抵抗値バラツキを示すグラフであり、露出部形状が円環状のもの及び十字状のものについてのペースト印刷マスク位置をずらした場合のグラフである。It is a graph showing the connection resistance value and the resistance value variation in the interlayer connection portion evaluation substrate after filling the conductive paste used in the examples, the exposed portion shape is annular and cross-shaped 7 is a graph when the paste print mask position is shifted. 他の実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成する前の露出部を模式的に示す平面図である。FIG. 10 is a plan view schematically showing an exposed portion before forming a through hole in a multilayer substrate according to another embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成した後の露出部を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the exposure part after forming the through-hole in the multilayer substrate which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the formation part of the exposure part and the conductive paste in the multilayer board which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成する前の露出部を模式的に示す平面図である。FIG. 10 is a plan view schematically showing an exposed portion before forming a through hole in a multilayer substrate according to another embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成した後の露出部を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the exposure part after forming the through-hole in the multilayer substrate which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the formation part of the exposure part and the conductive paste in the multilayer board which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成する前の露出部を模式的に示す平面図である。FIG. 10 is a plan view schematically showing an exposed portion before forming a through hole in a multilayer substrate according to another embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成した後の露出部を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the exposure part after forming the through-hole in the multilayer substrate which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the formation part of the exposure part and the conductive paste in the multilayer board which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成する前の露出部を模式的に示す平面図である。FIG. 10 is a plan view schematically showing an exposed portion before forming a through hole in a multilayer substrate according to another embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成した後の露出部を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the exposure part after forming the through-hole in the multilayer substrate which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the formation part of the exposure part and the conductive paste in the multilayer board which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成する前の露出部を模式的に示す平面図である。FIG. 10 is a plan view schematically showing an exposed portion before forming a through hole in a multilayer substrate according to another embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成した後の露出部を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the exposure part after forming the through-hole in the multilayer substrate which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the formation part of the exposure part and the conductive paste in the multilayer board which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成する前の露出部を模式的に示す平面図である。FIG. 10 is a plan view schematically showing an exposed portion before forming a through hole in a multilayer substrate according to another embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成した後の露出部を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the exposure part after forming the through-hole in the multilayer substrate which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the formation part of the exposure part and the conductive paste in the multilayer board which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成する前の露出部を模式的に示す平面図である。FIG. 10 is a plan view schematically showing an exposed portion before forming a through hole in a multilayer substrate according to another embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成した後の露出部を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the exposure part after forming the through-hole in the multilayer substrate which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the formation part of the exposure part and the conductive paste in the multilayer board which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成する前の露出部を模式的に示す平面図である。FIG. 10 is a plan view schematically showing an exposed portion before forming a through hole in a multilayer substrate according to another embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成した後の露出部を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the exposure part after forming the through-hole in the multilayer substrate which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the formation part of the exposure part and the conductive paste in the multilayer board which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成する前の露出部を模式的に示す平面図である。FIG. 10 is a plan view schematically showing an exposed portion before forming a through hole in a multilayer substrate according to another embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成した後の露出部を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the exposure part after forming the through-hole in the multilayer substrate which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the formation part of the exposure part and the conductive paste in the multilayer board which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成する前の露出部を模式的に示す平面図である。FIG. 10 is a plan view schematically showing an exposed portion before forming a through hole in a multilayer substrate according to another embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成した後の露出部を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the exposure part after forming the through-hole in the multilayer substrate which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the formation part of the exposure part and the conductive paste in the multilayer board which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成する前の露出部を模式的に示す平面図である。FIG. 10 is a plan view schematically showing an exposed portion before forming a through hole in a multilayer substrate according to another embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成した後の露出部を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the exposure part after forming the through-hole in the multilayer substrate which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the formation part of the exposure part and the conductive paste in the multilayer board which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the formation part of the exposure part and the conductive paste in the multilayer board which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the formation part of the exposure part and the conductive paste in the multilayer board which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the formation part of the exposure part and the conductive paste in the multilayer board which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the formation part of the exposure part and the conductive paste in the multilayer board which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the formation part of the exposure part and the conductive paste in the multilayer board which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the formation part of the exposure part and the conductive paste in the multilayer board which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the formation part of the exposure part and the conductive paste in the multilayer board which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the formation part of the exposure part and the conductive paste in the multilayer board which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the formation part of the exposure part and the conductive paste in the multilayer board which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る部品実装基板の構成を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the structure of the component mounting board which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る部品実装基板の構成を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the structure of the component mounting board which concerns on other embodiment.

<実施形態>
実施形態を、以下に図面を参照しながら説明する。ただし、以下に示す形態は、本実施形態の技術思想を具現化するための多層基板及び部品実装基板、並びに、それらの製造方法を例示するものであって、以下に限定するものではない。また、実施の形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置などは、特定的な記載がない限り、本発明の範囲をそれのみに限定する趣旨ではなく、単なる例示に過ぎない。なお、各図面が示す部材の大きさや位置関係などは、説明を明確にするために誇張していることがある。
<Embodiment>
Embodiments will be described below with reference to the drawings. However, the embodiments described below exemplify a multilayer board and a component mounting board for embodying the technical idea of the present embodiment, and a manufacturing method thereof, and are not limited to the following. Further, the dimensions, materials, shapes, relative arrangements, and the like of the components described in the embodiments are not intended to limit the scope of the present invention thereto, unless otherwise specified, and are merely examples. It's just In addition, the size, the positional relationship, and the like of the members illustrated in each drawing may be exaggerated for clarity of description.

[多層基板]
まず、本実施形態に係る多層基板について説明する。
図1Aは、実施形態に係る多層基板の構成を模式的に示す平面図である。図1Bは、実施形態に係る多層基板の構成を模式的に示す断面図であり、図1AのIB−IB線に相当する断面を示す。図1Cは、実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。図1Dは、実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す斜視図である。図2Aは、従来の多層基板における、導電性ペースト印刷時のマスクの位置ズレについて説明する平面図である。図2Bは、実施形態に係る多層基板における、導電性ペースト印刷時のマスクの位置ズレについて説明する平面図である。なお、図1C、図1D、図2A、図2Bでは、便宜上、導電性ペースト6は、外縁のみを記載している。
[Multilayer substrate]
First, the multilayer substrate according to the present embodiment will be described.
FIG. 1A is a plan view schematically showing the configuration of the multilayer substrate according to the embodiment. FIG. 1B is a cross-sectional view schematically showing the configuration of the multilayer substrate according to the embodiment, and shows a cross-section corresponding to line IB-IB in FIG. 1A. FIG. 1C is a plan view schematically showing the positions where the exposed portions and the conductive paste are formed in the multilayer substrate according to the embodiment. FIG. 1D is a perspective view schematically illustrating a formation position of an exposed portion and a conductive paste in the multilayer substrate according to the embodiment. FIG. 2A is a plan view illustrating a positional shift of a mask when printing a conductive paste on a conventional multilayer substrate. FIG. 2B is a plan view illustrating a positional shift of a mask when printing a conductive paste on the multilayer substrate according to the embodiment. 1C, 1D, 2A, and 2B, for convenience, only the outer edge of the conductive paste 6 is described.

多層基板100は、回路パターン付き絶縁基板15と、導電性ペースト6と、を備えている。
回路パターン付き絶縁基板15は、絶縁基板4と、絶縁基板4の表面に設けられる表面回路パターン2と、絶縁基板4の裏面に設けられる裏面回路パターン3と、を持ち、絶縁基板4を貫通して導電性ペースト6が設けられる貫通穴1が形成されている。
The multilayer substrate 100 includes an insulating substrate 15 with a circuit pattern and a conductive paste 6.
The insulating substrate with a circuit pattern 15 has the insulating substrate 4, the front surface circuit pattern 2 provided on the surface of the insulating substrate 4, and the back surface circuit pattern 3 provided on the back surface of the insulating substrate 4, and penetrates the insulating substrate 4. Through hole 1 in which conductive paste 6 is provided.

絶縁基板4は、表面に、貫通穴1の周囲において絶縁基板4が露出した露出部20を有する。また、絶縁基板4は、裏面に、貫通穴1の周囲において絶縁基板4が露出した露出部20を有する。露出部20は、表面回路パターン2及び裏面回路パターン3の一部である。
露出部20は、平面視で、貫通穴1の外周に形成された露出基部20aと、貫通穴1の外周方向へ延出する複数の延出部20bと、を有する。
露出基部20aは、貫通穴1の周縁に、回路表面よりも凹んで円環状に形成されている。
延出部20bは、露出基部20aの周方向に断続的に形成され、平面視で矩形に凹んで形成されている。なお、ここでの矩形とは、露出基部20aに接続する部分が露出基部20aの形状に沿って湾曲するものを含むものである。延出部20bが平面視で矩形であれば、簡易な形状のため、露出部20の形成が容易となる。
The insulating substrate 4 has on its surface an exposed portion 20 where the insulating substrate 4 is exposed around the through hole 1. The insulating substrate 4 has an exposed portion 20 on the back surface where the insulating substrate 4 is exposed around the through hole 1. The exposed portion 20 is a part of the front surface circuit pattern 2 and the back surface circuit pattern 3.
The exposed part 20 has an exposed base part 20a formed on the outer periphery of the through hole 1 and a plurality of extending parts 20b extending in the outer peripheral direction of the through hole 1 in plan view.
The exposed base portion 20a is formed on the periphery of the through hole 1 in an annular shape that is recessed from the circuit surface.
The extension portion 20b is formed intermittently in the circumferential direction of the exposed base portion 20a, and is formed to be rectangularly concave in plan view. Here, the rectangular shape includes a shape in which a portion connected to the exposed base 20a is curved along the shape of the exposed base 20a. If the extending portion 20b is rectangular in plan view, the exposed portion 20 can be easily formed due to its simple shape.

延出部20bは、平面視で貫通穴1の中心に対して対向する位置に設けられており、貫通穴1の周囲、ここでは、平面視で露出基部20aの周縁に等間隔で放射状に複数(図では8つ)設けられている。これにより、露出部20は、平面視において歯車状に形成されている。
延出部20bが貫通穴1の中心に対して対向する位置に設けられていることで、後述するように、導電性ペースト6と表面回路パターン2との電気的接続と、導電性ペースト6と絶縁基板4との樹脂接合とが、貫通穴1の周囲でより均等となる。また、延出部20bが貫通穴1の周縁に等間隔で設けられていることで、前記した電気的接続と樹脂接合とが、貫通穴1の周囲でより均等となる。
延出部20bは、1つの貫通穴1に対し、少なくとも2つ設けられていればよく、4つ以上設けられていることが好ましい。延出部20bが4つ以上設けられていることで、前記した電気的接続と樹脂接合とがより良好となる。
露出部20の寸法は貫通穴1の寸法などに合わせて適宜調整するが、貫通穴1の外縁から延出部20bの先端までの最小長さが、10μm〜200μmであることが好ましい。
The extending portion 20b is provided at a position facing the center of the through hole 1 in a plan view, and a plurality of the extending portions 20b are arranged radially at equal intervals around the through hole 1, here, the periphery of the exposed base portion 20a in a plan view. (Eight in the figure). Thereby, the exposed part 20 is formed in a gear shape in a plan view.
Since the extension portion 20b is provided at a position facing the center of the through hole 1, the electrical connection between the conductive paste 6 and the surface circuit pattern 2 and the connection between the conductive paste 6 and the The resin bonding with the insulating substrate 4 becomes more uniform around the through hole 1. Further, since the extending portions 20b are provided at equal intervals on the peripheral edge of the through hole 1, the above-described electrical connection and resin bonding become more uniform around the through hole 1.
It is sufficient that at least two extension portions 20b are provided for one through hole 1, and it is preferable that four or more extension portions 20b are provided. By providing four or more extending portions 20b, the above-described electrical connection and resin bonding are further improved.
The size of the exposed portion 20 is appropriately adjusted according to the size of the through hole 1 and the like, but the minimum length from the outer edge of the through hole 1 to the tip of the extension portion 20b is preferably 10 μm to 200 μm.

絶縁基板4としては、1枚もしくは複数枚のガラスクロスにエポキシ樹脂などの熱硬化性絶縁樹脂を含侵させ、この熱硬化性絶縁樹脂を硬化させたガラスエポキシや、フィルム状のポリイミド、液晶ポリマーなどから形成される。なお、絶縁基板4は、一般的に両面に銅箔が張り付いた両面銅張積層板として製造されている。
絶縁基板4がガラスエポキシである場合、厚さは50μm〜1000μmとすることができる。また、絶縁基板4がポリイミドである場合、厚さは12μm〜50μmとすることができる。絶縁基板4としては、このように、ある程度の厚みのある板から薄板まで用いることができる。
As the insulating substrate 4, one or a plurality of glass cloths are impregnated with a thermosetting insulating resin such as an epoxy resin, and the thermosetting insulating resin is cured, such as glass epoxy, film-like polyimide, and liquid crystal polymer. And the like. The insulating substrate 4 is generally manufactured as a double-sided copper-clad laminate having copper foils attached to both sides.
When the insulating substrate 4 is made of glass epoxy, the thickness can be set to 50 μm to 1000 μm. When the insulating substrate 4 is made of polyimide, the thickness can be set to 12 μm to 50 μm. As described above, the insulating substrate 4 can be used from a plate having a certain thickness to a thin plate.

表面回路パターン2は、絶縁基板4の表面上に形成されている。裏面回路パターン3は、絶縁基板4の裏面上に形成されている。表面回路パターン2及び裏面回路パターン3は、所望の形状に配線されるように形成されている。表面回路パターン2及び裏面回路パターン3は、銅などの金属性の材料からなる。   The surface circuit pattern 2 is formed on the surface of the insulating substrate 4. The back surface circuit pattern 3 is formed on the back surface of the insulating substrate 4. The front surface circuit pattern 2 and the back surface circuit pattern 3 are formed so as to be wired in a desired shape. The front circuit pattern 2 and the back circuit pattern 3 are made of a metallic material such as copper.

表面回路パターン2及び裏面回路パターン3の厚みは、12μm〜70μmとすることが好ましい。表面回路パターン2及び裏面回路パターン3の厚みが12μm以上であれば、表面回路パターン2及び裏面回路パターン3を形成しやすい。一方、厚みが70μm以下であれば、多層基板100を薄くすることができる。   The thickness of the front surface circuit pattern 2 and the rear surface circuit pattern 3 is preferably 12 μm to 70 μm. When the thickness of the front surface circuit pattern 2 and the rear surface circuit pattern 3 is 12 μm or more, the front surface circuit pattern 2 and the rear surface circuit pattern 3 can be easily formed. On the other hand, if the thickness is 70 μm or less, the thickness of the multilayer substrate 100 can be reduced.

貫通穴1は、絶縁基板4を貫通するように形成されている。貫通穴1の直径は、例えば、0.05mm〜0.3mmである。貫通穴1は、開口部の周囲に露出部20を有する。露出部20は、貫通穴1の周縁に円環状に形成された露出基部20aを有し、また、露出基部20aの周縁に形成された延出部20bを有する。すなわち、貫通穴1は、貫通穴1の周縁に露出基部20aが形成されるように、露出部20の中央部分を貫通して露出基部20aの内側に形成されている。貫通穴1が露出基部20aの内側に形成されることで、穴加工時に、表面回路パターン2を打ち抜かないため、バリの発生をなくすことができる。   The through hole 1 is formed so as to penetrate the insulating substrate 4. The diameter of the through hole 1 is, for example, 0.05 mm to 0.3 mm. The through hole 1 has an exposed part 20 around the opening. The exposed portion 20 has an exposed base 20a formed in an annular shape at the periphery of the through hole 1 and has an extended portion 20b formed at the periphery of the exposed base 20a. That is, the through hole 1 is formed inside the exposed base 20a so as to penetrate the central portion of the exposed portion 20 so that the exposed base 20a is formed on the periphery of the through hole 1. Since the through hole 1 is formed inside the exposed base portion 20a, the surface circuit pattern 2 is not punched at the time of drilling, so that generation of burrs can be eliminated.

導電性ペースト6は、貫通穴1及び露出部20に充填され、表面回路パターン2及び裏面回路パターン3と電気的に接続される。導電性ペースト6は、表面回路パターン2と裏面回路パターン3とを電気的に接続する部位である。貫通穴1及び露出部20に充填された導電性ペースト6は、層間接続部となる。また、導電性ペースト6は、貫通穴1、露出部20、及び露出部20の周囲に充填すると共に表面回路パターン2と十分接触させた状態で硬化させて形成されている。ここで露出部20の周囲とは露出部20の近傍であり、例えば延出部20bの先端から0.5mm以内、好ましくは0.1mm以内、より好ましくは0.05mm以内を指す。
層間接続部は、貫通穴1に導電性ペースト6を充填して形成されることで、部品などを実装する工程での熱衝撃に対する接続信頼性が向上する。
The conductive paste 6 fills the through holes 1 and the exposed portions 20, and is electrically connected to the front surface circuit pattern 2 and the back surface circuit pattern 3. The conductive paste 6 is a part that electrically connects the front surface circuit pattern 2 and the back surface circuit pattern 3. The conductive paste 6 filled in the through hole 1 and the exposed part 20 becomes an interlayer connection part. The conductive paste 6 is formed by filling the through hole 1, the exposed portion 20, and the periphery of the exposed portion 20, and curing the conductive paste 6 in a state of being sufficiently in contact with the surface circuit pattern 2. Here, the periphery of the exposed portion 20 is in the vicinity of the exposed portion 20, for example, within 0.5 mm, preferably within 0.1 mm, more preferably within 0.05 mm from the tip of the extension portion 20b.
Since the interlayer connection portion is formed by filling the through-hole 1 with the conductive paste 6, the connection reliability against a thermal shock in the process of mounting components and the like is improved.

導電性ペースト6は、絶縁基板4の表面において、凸状に形成されている。また、導電性ペースト6は、露出部20の全部を被覆すると共に、表面回路パターン2及び裏面回路パターン3の一部を被覆している。本実施形態では、導電性ペースト6で形成される層間接続部は、この表面回路パターン2及び裏面回路パターン3を被覆した部位も含むものとする。
すなわち、導電性ペースト6(層間接続部)は、貫通穴1内及び露出部20に充填された充填部6aと、表面回路パターン2の上面の位置から突出する突出部6bとを有している。なお、表面回路パターン2の上面の位置とは、表面回路パターン2の上面の他、貫通穴1及び露出部20上の表面回路パターン2が形成されていない、表面回路パターン2の上面の位置を含むものである。
The conductive paste 6 is formed in a convex shape on the surface of the insulating substrate 4. The conductive paste 6 covers the entire exposed portion 20 and also covers a part of the front surface circuit pattern 2 and the back surface circuit pattern 3. In the present embodiment, the interlayer connection portion formed of the conductive paste 6 includes a portion that covers the front surface circuit pattern 2 and the back surface circuit pattern 3.
That is, the conductive paste 6 (interlayer connection portion) has the filling portion 6a filled in the through hole 1 and the exposed portion 20, and the protrusion 6b protruding from the upper surface of the surface circuit pattern 2. . The position of the upper surface of the surface circuit pattern 2 refers to the position of the upper surface of the surface circuit pattern 2 where the surface circuit pattern 2 on the through hole 1 and the exposed portion 20 is not formed, in addition to the upper surface of the surface circuit pattern 2. Including.

導電性ペースト6としては、例えば、フレーク状、鱗片状又は樹皮状の銀粉や銅粉などのフィラーと、熱硬化性のバインダ樹脂と、を混合したものを用いることができる。
また、導電性ペースト6としては、できるだけ体積抵抗率が小さく、バインダ樹脂や溶剤成分の含有量が少ないものを用いることが好ましい。
導電性ペースト6は、例えば、体積抵抗率が2×10‐5Ω・cm〜1.5×10‐4Ω・cm、バインダ樹脂含有量が3質量%〜10質量%のものを用いることが好ましい。このような導電性ペースト6であれば、層間接続部の抵抗値がより小さくなり、かつ抵抗値のバラツキもより小さくなる。体積抵抗率は、より好ましくは7.5Ω・cm×10‐5Ω・cm程度であり、バインダ樹脂含有量は、より好ましくは6質量%〜7質量%である。また、導電性ペースト6は、例えば、溶剤含有量が0質量%〜1質量%のものを用いることが好ましい。
As the conductive paste 6, for example, a mixture of a flake-like, flake-like or bark-like filler such as silver powder or copper powder and a thermosetting binder resin can be used.
It is preferable that the conductive paste 6 has as small a volume resistivity as possible and a small content of the binder resin and the solvent component.
As the conductive paste 6, for example, a paste having a volume resistivity of 2 × 10 −5 Ω · cm to 1.5 × 10 −4 Ω · cm and a binder resin content of 3% by mass to 10% by mass can be used. preferable. With such a conductive paste 6, the resistance value of the interlayer connection portion becomes smaller, and the variation of the resistance value becomes smaller. The volume resistivity is more preferably about 7.5 Ω · cm × 10 −5 Ω · cm, and the binder resin content is more preferably 6% by mass to 7% by mass. Further, as the conductive paste 6, for example, it is preferable to use one having a solvent content of 0% by mass to 1% by mass.

また、導電性ペースト6は、硬化時の熱収縮が小さいものが好ましい。具体的には、硬化時の質量減少率が1%以下であることが好ましい。このような導電性ペースト6であれば、後述する導電性ペースト6の表面となる突出部6bにおける平面度をより制御しやすくなる。   The conductive paste 6 preferably has a small heat shrinkage during curing. Specifically, it is preferable that the mass reduction rate during curing is 1% or less. With such a conductive paste 6, it is easier to control the flatness of the protruding portion 6b which will be the surface of the conductive paste 6 described later.

絶縁基板4の表面における導電性ペースト6の部位は、平坦に形成されている。すなわち、導電性ペースト6の表面における凸状の部位(突出部6b)の上面が平坦に形成されている。導電性ペースト6の表面となる突出部6bを平坦とすることで、層間接続部上への部品実装が容易となる。
ここで、平坦とは、突出部6bの最薄部と最厚部の厚み差が20μm以下であるものとし、好ましくは10μm以下、より好ましくは5μm以下であるものとする。
The portion of the conductive paste 6 on the surface of the insulating substrate 4 is formed flat. That is, the upper surface of the convex portion (projection 6b) on the surface of conductive paste 6 is formed flat. By flattening the protruding portion 6b serving as the surface of the conductive paste 6, it is easy to mount components on the interlayer connection portion.
Here, “flat” means that the thickness difference between the thinnest portion and the thickest portion of the protruding portion 6b is 20 μm or less, preferably 10 μm or less, and more preferably 5 μm or less.

絶縁基板4の表面における導電性ペースト6の平坦な部位の厚み、すなわち、絶縁基板4の表面となる突出部6bの厚みは、10μm〜30μmであることが好ましい。突出部6bの厚みが10μm以上であれば、層間接続部を形成しやすくなる。一方、突出部6bの厚みが30μm以下であれば、多層基板100の厚みを薄くすることができる。なお、絶縁基板4の表面における突出部6bの厚みとは、表面回路パターン2の上面から、絶縁基板4の表面における突出部6bの上面までの厚みである。
突出部6bの厚みは、貫通穴1に充填する際の導電性ペーストの量により制御することができる。また、導電性ペースト6を加圧処理する際の圧力により制御することができる。また、突出部6bを研磨することで制御することができる。
The thickness of the flat portion of the conductive paste 6 on the surface of the insulating substrate 4, that is, the thickness of the protruding portion 6b serving as the surface of the insulating substrate 4 is preferably 10 μm to 30 μm. When the thickness of the protruding portion 6b is 10 μm or more, it becomes easy to form an interlayer connection portion. On the other hand, when the thickness of the protruding portion 6b is 30 μm or less, the thickness of the multilayer substrate 100 can be reduced. The thickness of the protrusion 6b on the surface of the insulating substrate 4 is the thickness from the upper surface of the surface circuit pattern 2 to the upper surface of the protrusion 6b on the surface of the insulating substrate 4.
The thickness of the protrusion 6b can be controlled by the amount of the conductive paste when filling the through hole 1. Further, it can be controlled by the pressure when the conductive paste 6 is subjected to the pressure treatment. Further, it can be controlled by polishing the protruding portion 6b.

以上説明した通り、本実施形態では、多層基板100は、所定の形状を有した露出部20が形成されている。
多層基板100の層間接続部は、部品を実装する工程での熱処理や半田付け作業時の熱衝撃に耐える接続信頼性が必要である。従来の多層基板では、めっきによるスルーホール接続が多く用いられている。しかしながら、このような多層基板では、基板厚方向への基板の熱膨張率とめっきの熱膨張率との差により生じる応力で、スルーホールのコーナー部にクラックが生じ接続信頼性を低下させる。そのため、例えば、背景技術で説明した特許文献1に記載のように、めっきによるスルーホール接続に対して、貫通穴に導電性ペーストを充填する接続方法も提案されている。
As described above, in the present embodiment, the exposed portion 20 having a predetermined shape is formed on the multilayer substrate 100.
The interlayer connection portion of the multilayer board 100 needs to have connection reliability that can withstand heat treatment in a process of mounting components and thermal shock in a soldering operation. In a conventional multilayer substrate, through-hole connection by plating is often used. However, in such a multilayer substrate, cracks occur at the corners of the through holes due to the stress generated by the difference between the coefficient of thermal expansion of the substrate and the coefficient of thermal expansion of the plating in the thickness direction of the substrate, thereby reducing the connection reliability. Therefore, for example, as described in Patent Literature 1 described in the Background Art, a connection method of filling a through-hole with a conductive paste has been proposed with respect to a through-hole connection by plating.

上記特許文献1では、表と裏の穴径が異なり穴内部に膨出部がある貫通穴構造に、導電性ペーストを埋め込むことで、ペースト流れ込み性を良くした上で、接続部を形成している。しかし、導電性ペースト印刷時のマスクの位置ズレが発生した場合、導電性ペーストの半円側部分には金属接合が起きず、偏った接合状態となり接続信頼性が低下する懸念がある(図2A参照)。   In the above-mentioned Patent Document 1, a conductive paste is buried in a through-hole structure in which the front and rear holes have different hole diameters and a swelling portion is provided inside the hole to improve the flowability of the paste. I have. However, when the mask is misaligned during the printing of the conductive paste, metal bonding does not occur on the semicircular portion of the conductive paste, and there is a concern that the bonding state is unbalanced and connection reliability is reduced (FIG. 2A). reference).

本実施形態では、多層基板100は、所定の形状を有した露出部20を有することで、貫通穴1周辺の絶縁基板4と表面回路パターン2とで段差が形成される(図1B参照)。これにより、露出部20を有さない多層基板に比べ、導電性ペースト6と、絶縁基板4との接触面積が広くなる。また、表面回路パターン2の導体露出部と、絶縁基板4の樹脂露出部とが併存することにより、導電性ペースト6と表面回路パターン2とが接触する部位での電気的接続と、導電性ペースト6と露出部20とが接触する部位での樹脂接合とが、偏りなく起きる。そのため、層間接続部の抵抗値が低く、安定すると共に、熱衝撃に対する接続信頼性も向上する。なお、電気的接続は、導電性ペースト6中の金属粒子と表面回路パターン2との接続であり、樹脂接合は、導電性ペースト6中のバインダ樹脂と絶縁基板4の樹脂との接合である。
また、導電性ペースト印刷時のマスクの位置ズレが発生した場合であっても、導電性ペースト6の半円側部分が表面回路パターン2と接触して金属接合が起きる。これにより、層間接続部の抵抗値が低く、安定すると共に、熱衝撃に対する接続信頼性も向上する(図2B参照)。
In the present embodiment, since the multilayer substrate 100 has the exposed portion 20 having a predetermined shape, a step is formed between the insulating substrate 4 around the through hole 1 and the surface circuit pattern 2 (see FIG. 1B). Thereby, the contact area between the conductive paste 6 and the insulating substrate 4 is increased as compared with a multilayer substrate having no exposed portion 20. In addition, since the conductor exposed portion of the surface circuit pattern 2 and the resin exposed portion of the insulating substrate 4 coexist, the electrical connection at the portion where the conductive paste 6 and the surface circuit pattern 2 are in contact with each other, and the conductive paste Resin bonding at a portion where the 6 and the exposed portion 20 come into contact occurs evenly. Therefore, the resistance value of the interlayer connection is low and stable, and the connection reliability against thermal shock is improved. The electrical connection is a connection between the metal particles in the conductive paste 6 and the surface circuit pattern 2, and the resin bonding is a bonding between the binder resin in the conductive paste 6 and the resin of the insulating substrate 4.
Further, even if the mask is misaligned during printing of the conductive paste, the semicircular portion of the conductive paste 6 comes into contact with the surface circuit pattern 2 and metal bonding occurs. Thereby, the resistance value of the interlayer connection portion is low and stable, and the connection reliability against thermal shock is improved (see FIG. 2B).

[多層基板の製造方法]
次に、本実施形態に係る多層基板の製造方法の一例について説明する。
図3は、実施形態に係る多層基板の製造方法のフローチャートである。図4Aは、実施形態に係る多層基板の製造方法における、回路パターンを形成する前の状態を示す断面図である。図4Bは、実施形態に係る多層基板の製造方法における、回路パターンを形成する工程を示す断面図である。図4Cは、実施形態に係る多層基板の製造方法における、貫通穴を形成する工程を示す断面図である。図4Dは、実施形態に係る多層基板の製造方法における、導電性ペーストを充填する工程を示す断面図であり、貫通穴に導電性ペーストを充填すると共に、露出部を導電性ペーストで被覆する工程を示す断面図である。図4Eは、実施形態に係る多層基板の製造方法における、導電性ペーストを充填する工程を示す断面図であり、導電性ペーストを加熱加圧処理する工程を示す断面図である。図4Fは、実施形態に係る多層基板の製造方法における、導電性ペーストを研磨する工程を示す断面図である。図5Aは、実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成する前の露出部を模式的に示す平面図である。図5Bは、実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成した後の露出部を模式的に示す平面図である。図5Cは、実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。なお、図5Cでは、便宜上、導電性ペースト6は、外縁のみを記載している。
[Manufacturing method of multilayer substrate]
Next, an example of a method for manufacturing a multilayer substrate according to the present embodiment will be described.
FIG. 3 is a flowchart of the method for manufacturing a multilayer substrate according to the embodiment. FIG. 4A is a cross-sectional view showing a state before a circuit pattern is formed in the method for manufacturing a multilayer substrate according to the embodiment. FIG. 4B is a cross-sectional view illustrating a step of forming a circuit pattern in the method for manufacturing a multilayer substrate according to the embodiment. FIG. 4C is a cross-sectional view illustrating a step of forming a through hole in the method for manufacturing a multilayer substrate according to the embodiment. FIG. 4D is a cross-sectional view illustrating a step of filling the conductive paste in the method of manufacturing the multilayer substrate according to the embodiment, in which the through holes are filled with the conductive paste and the exposed portions are covered with the conductive paste. FIG. FIG. 4E is a cross-sectional view illustrating a step of filling the conductive paste in the method for manufacturing a multilayer substrate according to the embodiment, and is a cross-sectional view illustrating the step of heating and pressing the conductive paste. FIG. 4F is a cross-sectional view illustrating a step of polishing the conductive paste in the method for manufacturing a multilayer substrate according to the embodiment. FIG. 5A is a plan view schematically showing an exposed portion before forming a through hole in the multilayer substrate according to the embodiment. FIG. 5B is a plan view schematically showing an exposed portion after forming a through hole in the multilayer substrate according to the embodiment. FIG. 5C is a plan view schematically illustrating the formation positions of the exposed portions and the conductive paste on the multilayer substrate according to the embodiment. In FIG. 5C, only the outer edge of the conductive paste 6 is shown for convenience.

本実施形態の多層基板の製造方法は、回路パターン付き絶縁基板を準備する工程S101と、導電性ペーストを充填する工程S102と、必要に応じて導電性ペーストを研磨する工程S103と、を含み、この順に行う。なお、各部材の材質や配置などについては、前記した多層基板100の説明で述べた通りであるので、ここでは適宜、説明を省略する。   The method for manufacturing a multilayer substrate according to the present embodiment includes a step S101 of preparing an insulating substrate with a circuit pattern, a step S102 of filling a conductive paste, and a step S103 of polishing the conductive paste as needed. Perform in this order. The material and arrangement of each member are the same as those described in the description of the multilayer substrate 100, and thus description thereof will be omitted as appropriate.

(回路パターン付き絶縁基板を準備する工程)
回路パターン付き絶縁基板を準備する工程S101は、絶縁基板4と、絶縁基板4の表面に設けられる表面回路パターン2と、絶縁基板4の裏面に設けられる裏面回路パターン3と、を持ち、貫通穴1が形成されている回路パターン付き絶縁基板15を準備する工程である。
この工程S101では、絶縁基板4の表面及び裏面に、貫通穴1の周囲において絶縁基板4が露出し、貫通穴1の外周方向へ延出する複数の延出部20bを有する露出部20を形成する。この工程S101では、まず、絶縁基板4の表面及び裏面に、露出基部20aと、延出部20bと、を有する露出部20を形成する(図5A参照)。なお、露出部20については、貫通穴1の周囲に存在するものの他、貫通穴1を形成する前に、貫通穴1が形成される部位及びその周囲において絶縁基板4が露出した部位も露出部20というものとする。貫通穴1を形成する前は、平面視で中央の部分を露出基部20a、露出基部20aの周縁に設けられた部分を延出部20bとする。
(Step of preparing an insulating substrate with a circuit pattern)
The step S101 of preparing an insulating substrate with a circuit pattern includes an insulating substrate 4, a front surface circuit pattern 2 provided on the surface of the insulating substrate 4, and a back surface circuit pattern 3 provided on the back surface of the insulating substrate 4. This is a step of preparing an insulating substrate 15 with a circuit pattern on which the substrate 1 is formed.
In this step S101, on the front and back surfaces of the insulating substrate 4, the exposed portion 20 having the plurality of extending portions 20b that expose the insulating substrate 4 around the through hole 1 and extend in the outer peripheral direction of the through hole 1 is formed. I do. In this step S101, first, an exposed portion 20 having an exposed base portion 20a and an extended portion 20b is formed on the front and back surfaces of the insulating substrate 4 (see FIG. 5A). In addition to the exposed portion 20, the portion where the through-hole 1 is formed and the portion where the insulating substrate 4 is exposed around the portion where the through-hole 1 is formed before forming the through-hole 1 are also exposed portions, in addition to those that are present around the through-hole 1. It is assumed to be 20. Before the through-hole 1 is formed, the central portion in plan view is an exposed base portion 20a, and a portion provided on the periphery of the exposed base portion 20a is an extended portion 20b.

この工程S101では、例えば、まず、シート状の1枚もしくは複数枚のガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸させ、その表面に表面銅箔2a、裏面に裏面銅箔3aを接合してエポキシ樹脂を硬化させて形成した市販の両面銅張積層板を用意する。次に、表面銅箔2a及び裏面銅箔3aにエッチングを施して表面回路パターン2及び裏面回路パターン3、及び露出部20を形成する(回路パターンを形成する工程)。
なお、市販の両面銅張積層板を用いずに、絶縁基板4の表面に表面銅箔2a及び裏面に裏面銅箔3aを接合してもよい。また、あらかじめ、表面回路パターン2及び裏面回路パターン3、及び露出部20が形成された両面銅張積層板を購入してもよい。
In this step S101, for example, first, one or a plurality of sheet-like glass cloths are impregnated with an epoxy resin, and the front surface copper foil 2a is bonded to the front surface and the rear surface copper foil 3a is bonded to the back surface to cure the epoxy resin. A commercially available double-sided copper-clad laminate is prepared. Next, the front surface copper foil 2a and the back surface copper foil 3a are etched to form the front surface circuit pattern 2, the back surface circuit pattern 3, and the exposed portion 20 (process of forming a circuit pattern).
Instead of using a commercially available double-sided copper-clad laminate, the front surface copper foil 2a may be joined to the surface of the insulating substrate 4 and the back surface copper foil 3a may be joined to the back surface. Alternatively, a double-sided copper-clad laminate on which the front surface circuit pattern 2, the rear surface circuit pattern 3, and the exposed portion 20 are formed may be purchased in advance.

次に、露出部20が形成された部位において、絶縁基板4を貫通する貫通穴1を形成する(貫通穴を形成する工程)。貫通穴を形成する工程では、絶縁基板4の表面側から、露出基部20aの内側に貫通穴1が形成されるように、工具14を用いて、ドリル加工もしくはパンチング加工により貫通穴1を形成する(図5B参照)。   Next, a through hole 1 that penetrates the insulating substrate 4 is formed at a portion where the exposed portion 20 is formed (a step of forming a through hole). In the step of forming the through-hole, the through-hole 1 is formed by drilling or punching using the tool 14 so that the through-hole 1 is formed inside the exposed base 20a from the surface side of the insulating substrate 4. (See FIG. 5B).

(導電性ペーストを充填する工程)
導電性ペーストを充填する工程S102は、貫通穴1に導電性ペースト6を充填する工程である。
この工程S102では、貫通穴1に導電性ペースト6を充填すると共に、露出部20を導電性ペースト6で被覆する。また、露出部20の周囲の表面回路パターン2も導電性ペースト6で被覆される(図5C参照)。また、この工程S102では、貫通穴1付近において、表面回路パターン2の上面の位置から突出した導電性ペースト6を加圧処理する。貫通穴1付近とは、例えば、貫通穴1の周辺における、絶縁基板4上及び表面回路パターン2上の導電性ペースト6が存在する部位である。
(Step of filling conductive paste)
Step S102 of filling the conductive paste is a step of filling the through-hole 1 with the conductive paste 6.
In this step S102, the conductive paste 6 is filled into the through holes 1, and the exposed portions 20 are covered with the conductive paste 6. The surface circuit pattern 2 around the exposed portion 20 is also covered with the conductive paste 6 (see FIG. 5C). In step S102, the conductive paste 6 protruding from the position of the upper surface of the surface circuit pattern 2 in the vicinity of the through hole 1 is subjected to pressure treatment. The vicinity of the through hole 1 is, for example, a portion around the through hole 1 where the conductive paste 6 exists on the insulating substrate 4 and on the surface circuit pattern 2.

この工程S102では、まず、導電性ペースト6cを、マスク11を介して、絶縁基板4の表面からスクリーン印刷法で貫通穴1及び露出部20に充填する。スクリーン印刷の条件は、例えば、クリアランス0mm〜2mmとし、20μm〜300μm厚、開口穴径φ0.2mm〜0.5mmのメタルマスク(マスク11)、又は、150メッシュ〜400メッシュ、乳剤厚10μm〜20μmのスクリーンマスク(マスク11)と、硬度70〜80のウレタンゴムのスキージ40とを用い、スキージ実効角度15度〜30度、印圧0.1MPa〜0.4MPa、スキージ速度10mm/sec〜100mm/sec、スキージ往復印刷とすることができる。往復印刷とすることで、貫通穴1及び露出部20に導電性ペースト6cをより充填しやすくなる。なお、絶縁基板4の厚みが薄い場合や貫通穴1が大きい場合は、スキージ片道印刷でも導電性ペースト6cが貫通穴1及び露出部20に充填されるので、スキージ片道印刷としても構わない。この工程S102では、貫通穴1内及び露出部20に充填された充填部6aと、表面回路パターン2の上面の位置から突出する突出部6bとを形成する。   In this step S102, first, the conductive paste 6c is filled into the through holes 1 and the exposed portions 20 from the surface of the insulating substrate 4 via the mask 11 by screen printing. Screen printing conditions are, for example, a metal mask (mask 11) having a clearance of 0 mm to 2 mm, a thickness of 20 μm to 300 μm, an opening hole diameter of 0.2 mm to 0.5 mm, or a 150 mesh to 400 mesh, and an emulsion thickness of 10 μm to 20 μm. Using a screen mask (mask 11) and a urethane rubber squeegee 40 having a hardness of 70 to 80, an effective squeegee angle of 15 to 30 degrees, a printing pressure of 0.1 MPa to 0.4 MPa, and a squeegee speed of 10 mm / sec to 100 mm / sec, reciprocating squeegee printing can be performed. The reciprocating printing makes it easier to fill the through-hole 1 and the exposed portion 20 with the conductive paste 6c. In the case where the thickness of the insulating substrate 4 is small or the through hole 1 is large, the conductive paste 6c is filled in the through hole 1 and the exposed portion 20 even in one-way printing of a squeegee. In this step S102, a filling portion 6a filled in the through hole 1 and the exposed portion 20 and a projecting portion 6b projecting from a position on the upper surface of the surface circuit pattern 2 are formed.

その後、突出部6bを、上下に樹脂製又は金属製のロール50、及び紙などのセパレータ51が設置されている熱ラミネーター装置を用いて、例えば、80℃〜250℃の一定温度、0.1MPa〜0.4MPaの圧力、5mm/sec〜50mm/secの速度で、加熱加圧処理する。これにより、導電性ペースト6cと表面回路パターン2及び裏面回路パターン3との密着性、及び、導電性ペースト6cと露出部20との密着性を向上させると共に、露出部20を含めた層間接続部に、ボイドや気泡が発生することを防止する。   Thereafter, the protruding portion 6b is formed at a constant temperature of, for example, 80 ° C. to 250 ° C. and 0.1 MPa by using a heat laminator device in which a resin or metal roll 50 and a separator 51 such as paper are installed above and below. The heating and pressurizing treatment is performed at a pressure of 0.40.4 MPa and a speed of 5 mm / sec to 50 mm / sec. Thereby, the adhesion between the conductive paste 6c and the front surface circuit pattern 2 and the back surface circuit pattern 3 and the adhesion between the conductive paste 6c and the exposed portion 20 are improved, and the interlayer connection portion including the exposed portion 20 is improved. In addition, the generation of voids and bubbles is prevented.

その後、導電性ペースト6cを180℃〜260℃の一定温度で5分〜90分加熱させ硬化させる。これにより、表面回路パターン2と裏面回路パターン3とを電気的に接続する層間接続部が形成される。なお、図4D、図4Eでは、便宜上、導電性ペースト6cを硬化した後の状態として導電性ペースト6を図示している。   Thereafter, the conductive paste 6c is heated and cured at a constant temperature of 180C to 260C for 5 minutes to 90 minutes. As a result, an interlayer connecting portion for electrically connecting the front surface circuit pattern 2 and the back surface circuit pattern 3 is formed. 4D and 4E, for convenience, the conductive paste 6 is illustrated as a state after the conductive paste 6c is cured.

本実施形態では、導電性ペーストを充填する工程と、熱ラミネーター装置を用いて、加熱加圧処理を行う工程により、絶縁基板4の表面における導電性ペースト6の突出部6bの部位を平坦にすることができる。   In the present embodiment, the portion of the projecting portion 6b of the conductive paste 6 on the surface of the insulating substrate 4 is flattened by the step of filling the conductive paste and the step of performing the heating and pressurizing treatment using the heat laminator device. be able to.

(導電性ペーストを研磨する工程)
導電性ペーストを研磨する工程S103は、表面回路パターン2の上面の位置から突出した導電性ペースト6を平坦に研磨する工程である。すなわち、この工程S103は、導電性ペースト6の表面における突出部6bの上面がより平坦になるように、突出部6bの上面を研磨する工程であり、必要に応じて適宜実施されるものである。
(Step of polishing conductive paste)
The step S103 of polishing the conductive paste is a step of flatly polishing the conductive paste 6 protruding from the upper surface of the surface circuit pattern 2. That is, this step S103 is a step of polishing the upper surface of the protruding portion 6b so that the upper surface of the protruding portion 6b on the surface of the conductive paste 6 becomes flatter, and is appropriately performed as necessary. .

実装部品10の電極形状及び厚みと表面レジスト7の厚みとの関係などから、必要に応じて、表面レジスト7を印刷形成する前に導電性ペースト6の研磨処理を実施してもよい。その場合は、セラミックバフ30での物理研磨が好ましい。導電性ペースト6の研磨処理を行うことで、導電性ペースト6の突出部6bの部位をさらに平坦にすることができる。なお、導電性ペーストを研磨する工程S103は必須の工程として行わなくてもよい。   If necessary, the conductive paste 6 may be polished before the surface resist 7 is formed by printing, depending on the relationship between the electrode shape and thickness of the mounted component 10 and the thickness of the surface resist 7. In that case, physical polishing with the ceramic buff 30 is preferable. By performing the polishing treatment of the conductive paste 6, the portion of the protruding portion 6b of the conductive paste 6 can be further flattened. Step S103 of polishing the conductive paste may not be performed as an essential step.

[部品実装基板]
次に、本実施形態に係る部品実装基板について説明する。
図6は、実施形態に係る部品実装基板の構成を模式的に示す断面図である。
[Component mounting board]
Next, the component mounting board according to the present embodiment will be described.
FIG. 6 is a cross-sectional view schematically illustrating the configuration of the component mounting board according to the embodiment.

部品実装基板101は、多層基板100と、多層基板100の表面における一部の領域に設けられた表面レジスト7と、多層基板100の裏面に設けられた裏面レジスト8と、多層基板100の表面の導電性ペースト6上に、半田ペーストである接着層9を介して設けられた実装部品10と、を備える。   The component mounting board 101 includes a multilayer substrate 100, a front surface resist 7 provided in a partial area on the surface of the multilayer substrate 100, a back surface resist 8 provided on the back surface of the multilayer substrate 100, And a mounting component 10 provided on the conductive paste 6 via an adhesive layer 9 which is a solder paste.

表面レジスト7は、実装部品10の周辺に形成されている。すなわち、表面レジスト7は、導電性ペースト6とその近傍を除く表面回路パターン2上に設けられている。裏面レジスト8は、裏面回路パターン3と、導電性ペースト6を覆うように形成されている。   The surface resist 7 is formed around the mounted component 10. That is, the surface resist 7 is provided on the surface circuit pattern 2 excluding the conductive paste 6 and its vicinity. The back surface resist 8 is formed so as to cover the back surface circuit pattern 3 and the conductive paste 6.

表面レジスト7及び裏面レジスト8としては、例えば、エポキシなどの共重合樹脂に溶剤や消泡剤などを混合した一般的なものや、酸化チタンなどのフィラーを添加した白色化したものを用いることができる。なお、表面レジスト7及び裏面レジスト8は絶縁層となる。表面レジスト7及び裏面レジスト8の厚みは、例えば、10μm〜30μmである。表面レジスト7の厚みは突出部6bの厚みと同等もしくは厚い方が好ましい。突出部6bの厚みを表面レジスト7の厚みよりも薄くすることで接着層9の高さを抑えることができ、実装部品10の高さを低くすることができるからである。突出部6bの厚みは表面レジスト7の厚みに比べて、例えば0.5倍〜0.9倍程度の厚みが好ましく、0.6倍〜0.8倍程度の厚みがより好ましい。突出部6bの厚みを0.5倍以上とすることで導電性ペースト6の厚みを抑えることができ、0.9倍以下とすることで電気伝導性を高いまま維持することができる。表面レジスト7と裏面レジスト8との厚みは同一でも良いが異なっていてもよい。   As the front surface resist 7 and the back surface resist 8, for example, a general resin obtained by mixing a solvent or an antifoaming agent with a copolymer resin such as epoxy, or a white resin obtained by adding a filler such as titanium oxide may be used. it can. In addition, the front surface resist 7 and the back surface resist 8 become an insulating layer. The thickness of the front surface resist 7 and the back surface resist 8 is, for example, 10 μm to 30 μm. The thickness of the surface resist 7 is preferably equal to or greater than the thickness of the protrusion 6b. This is because the height of the adhesive layer 9 can be suppressed by making the thickness of the protrusion 6b smaller than the thickness of the surface resist 7, and the height of the mounted component 10 can be reduced. The thickness of the protrusion 6b is preferably, for example, about 0.5 to 0.9 times, more preferably about 0.6 to 0.8 times the thickness of the surface resist 7. By setting the thickness of the protruding portion 6b to 0.5 times or more, the thickness of the conductive paste 6 can be suppressed, and by setting the thickness to 0.9 times or less, high electrical conductivity can be maintained. The thickness of the front surface resist 7 and the back surface resist 8 may be the same or may be different.

接着層9の材料としては、例えば、Sn−Ag−Cu、Au、Ag、Cu、Sn、Biなどやこれらの合金を用いることができる。実装部品10としては、例えば、LED、チップ抵抗器、コンデンサなどが挙げられる。   As a material of the adhesive layer 9, for example, Sn-Ag-Cu, Au, Ag, Cu, Sn, Bi, or an alloy thereof can be used. Examples of the mounted component 10 include an LED, a chip resistor, and a capacitor.

[部品実装基板の製造方法]
次に、本実施形態に係る部品実装基板の製造方法について説明する。
図7Aは、実施形態に係る部品実装基板の製造方法における、レジストを形成する前の多層基板を示す断面図である。図7Bは、実施形態に係る部品実装基板の製造方法における、レジストを形成する工程を示す断面図であり、多層基板の表面にレジストを形成する工程を示す断面図である。図7Cは、実施形態に係る部品実装基板の製造方法における、レジストを形成する工程を示す断面図であり、多層基板の裏面にレジストを形成する工程を示す断面図である。図7Dは、実施形態に係る部品実装基板の製造方法における、部品を実装する工程を示す断面図であり、接着層を形成する工程を示す断面図である。図7Eは、実施形態に係る部品実装基板の製造方法における、部品を実装する工程を示す断面図であり、部品を実装した後の状態を示す断面図である。硬化前の表面レジストは7c、硬化前の裏面レジストは8cとする。
なお、各工程においてスキージやマスクに同一番号を付しているが、物理的同一物を用いている訳ではなく、機能や性状などが共通するだけであり、異なる大きさ、材質などを使用することができる。
[Method of manufacturing component mounting board]
Next, a method for manufacturing the component mounting board according to the present embodiment will be described.
FIG. 7A is a cross-sectional view showing the multilayer board before forming a resist in the method for manufacturing a component mounting board according to the embodiment. FIG. 7B is a cross-sectional view illustrating a step of forming a resist in the method of manufacturing the component mounting board according to the embodiment, and is a cross-sectional view illustrating a step of forming a resist on the surface of the multilayer substrate. FIG. 7C is a cross-sectional view illustrating a step of forming a resist in the method of manufacturing the component mounting board according to the embodiment, and is a cross-sectional view illustrating a step of forming a resist on the back surface of the multilayer substrate. FIG. 7D is a cross-sectional view illustrating a step of mounting a component in the method for manufacturing a component mounting board according to the embodiment, and is a cross-sectional view illustrating a step of forming an adhesive layer. FIG. 7E is a cross-sectional view illustrating a step of mounting the component in the method of manufacturing the component mounting board according to the embodiment, and is a cross-sectional view illustrating a state after the component is mounted. The front surface resist before curing is 7c, and the rear surface resist before curing is 8c.
In each process, the same number is assigned to the squeegee and the mask, but the same physical number is not used, but only the functions and properties are common, and different sizes and materials are used. be able to.

本実施形態の部品実装基板の製造方法は、一例として、前記した多層基板にレジストを形成する工程と、部品を実装する工程と、を含み、この順に行う。なお、各部材の材質や配置などについては、前記した部品実装基板の説明で述べた通りであるので、ここでは適宜、説明を省略する。なお、図7Cは、多層基板の向きが、図7Bとは上下面反対として示されている。   As one example, the method for manufacturing a component mounting board of the present embodiment includes a step of forming a resist on the above-described multilayer board and a step of mounting components, and the steps are performed in this order. The material and arrangement of each member are the same as those described in the description of the component mounting board, and thus the description will be omitted as appropriate. In FIG. 7C, the orientation of the multilayer substrate is shown as being opposite to the upper and lower surfaces of FIG. 7B.

(レジストを形成する工程)
レジストを形成する工程は、多層基板100の表面及び裏面に表面レジスト7及び裏面レジスト8を形成する工程である。ここでは多層基板100の表面、裏面の順に表面レジスト7、裏面レジスト8を形成するが、多層基板100の裏面、表面の順に裏面レジスト8、表面レジスト7を形成してもよい。
(Step of forming resist)
The step of forming a resist is a step of forming a front surface resist 7 and a back surface resist 8 on the front and back surfaces of the multilayer substrate 100. Here, the front surface resist 7 and the back surface resist 8 are formed in the order of the front surface and the back surface of the multilayer substrate 100. However, the back surface resist 8 and the front surface resist 7 may be formed in the order of the back surface and the front surface of the multilayer substrate 100.

この工程では、まず、多層基板100の表面回路パターン2上に、所望の塗布パターンを形成したスクリーンマスク12、表面レジスト7cを用いて、スクリーン印刷法で表面レジスト7を形成する。   In this step, first, the surface resist 7 is formed on the surface circuit pattern 2 of the multilayer substrate 100 by a screen printing method using the screen mask 12 and the surface resist 7c on which a desired coating pattern is formed.

スクリーン印刷の条件は、例えば、クリアランス0.5mm〜5.0mmとし、100メッシュ〜400メッシュ、乳剤厚10μm〜20μmのスクリーンマスク12と、硬度60〜80のウレタンゴムのスキージ40とを用い、スキージ実効角度60度〜80度、印圧0.2MPa〜0.4MPa、スキージ速度20mm/sec〜100mm/sec、スキージ片道印刷とすることができる。その後、表面レジスト7を50℃〜250℃で、5分〜60分加熱させ硬化させる。   The screen printing conditions are, for example, a clearance of 0.5 mm to 5.0 mm, a screen mask 12 of 100 mesh to 400 mesh, an emulsion thickness of 10 μm to 20 μm, and a squeegee 40 of urethane rubber having a hardness of 60 to 80. An effective angle of 60 to 80 degrees, a printing pressure of 0.2 MPa to 0.4 MPa, a squeegee speed of 20 mm / sec to 100 mm / sec, and squeegee one-way printing can be performed. Thereafter, the surface resist 7 is heated and cured at 50 ° C. to 250 ° C. for 5 minutes to 60 minutes.

続いて、裏面回路パターン3上に、スクリーンマスク12、裏面レジスト8cを用いて、スクリーン印刷法で裏面レジスト8を形成する。裏面レジスト8は、絶縁基板4の表面から印刷形成したレジストと同じものを使用することができ、スクリーン印刷の条件は、表面レジスト7の印刷形成時と同じ条件とすることができる。その後、裏面レジスト8を50℃〜250℃で、5分〜60分加熱させ硬化させる。これにより、表面回路パターン2と裏面回路パターン3の所望の範囲に絶縁層が形成される。   Subsequently, the backside resist 8 is formed on the backside circuit pattern 3 by screen printing using the screen mask 12 and the backside resist 8c. The same resist as that formed by printing from the front surface of the insulating substrate 4 can be used as the back surface resist 8, and the conditions for screen printing can be the same as those for forming the front surface resist 7. Then, the back surface resist 8 is heated and cured at 50 ° C. to 250 ° C. for 5 minutes to 60 minutes. Thereby, an insulating layer is formed in a desired range of the front surface circuit pattern 2 and the back surface circuit pattern 3.

(部品を実装する工程)
部品を実装する工程は、表面レジスト7及び裏面レジスト8を形成した多層基板100に部品を実装する工程である。
この工程では、まず、部品の実装部分に開口部を設けたメタルマスク13、スキージ40を用いて半田ペースト9cを印刷し、接着層9を形成する。次に、接着層9上に実装部品10を載せ、接着層9を硬化させて実装部品10を多層基板100と接続し固定させる。
この例では、半田ペースト9cを導電性ペースト6上に直接塗布したが、部品の接合強度の観点から、あらかじめ部品の実装部分にめっき処理や有機防錆処理をしておいてもよい。
(Process of mounting components)
The step of mounting the component is a step of mounting the component on the multilayer substrate 100 on which the front surface resist 7 and the back surface resist 8 are formed.
In this step, first, a solder paste 9c is printed using a metal mask 13 having an opening in a component mounting portion and a squeegee 40 to form an adhesive layer 9. Next, the mounted component 10 is placed on the adhesive layer 9, the adhesive layer 9 is cured, and the mounted component 10 is connected to the multilayer substrate 100 and fixed.
In this example, the solder paste 9c is applied directly on the conductive paste 6, but from the viewpoint of the bonding strength of the component, the mounting portion of the component may be subjected to plating treatment or organic rust prevention treatment in advance.

以上説明した通り、本実施形態によれば、層間接続部が貫通穴1と露出部20に導電性ペースト6を充填することで形成されている。ここで、導電性ペースト6に用いられる材料と基板絶縁樹脂との熱膨張率差に着目すると、バインダ樹脂を含んでいる導電性ペースト6と絶縁基板4の絶縁樹脂材料との熱膨張率差は、一般的に用いられているめっきによるスルーホール接続におけるめっき金属と基板の絶縁樹脂材料との熱膨張率差に比べ小さい。そのため、熱衝撃時の応力が抑えられることにより、多層基板100は、部品などを実装する工程での接続信頼性が向上する。   As described above, according to the present embodiment, the interlayer connection portion is formed by filling the through hole 1 and the exposed portion 20 with the conductive paste 6. Here, focusing on the difference in the coefficient of thermal expansion between the material used for the conductive paste 6 and the substrate insulating resin, the difference in the coefficient of thermal expansion between the conductive paste 6 containing the binder resin and the insulating resin material of the insulating substrate 4 is as follows. The difference in thermal expansion coefficient between the plated metal and the insulating resin material of the substrate in through hole connection by generally used plating is small. Therefore, since the stress at the time of the thermal shock is suppressed, the connection reliability of the multilayer board 100 in the process of mounting components and the like is improved.

また、露出部20を有することで、層間接続部の抵抗値が低く、安定すると共に、熱衝撃に対する接続信頼性も向上する。また、導電性ペースト印刷時のマスクの位置ズレが発生した場合であっても、層間接続部の抵抗値が低く、安定すると共に、熱衝撃に対する接続信頼性も向上する。
また、導電性ペースト6の表面が平坦であるため、導電性ペースト6上への部品実装が容易となる。そのため、多層基板100における部品実装密度を高めることができる。また、特にLED部品の実装において重要な、実装部品10の搭載位置の精度、傾きの精度なども、導電性ペースト6の表面の平坦性により確保できる。また、絶縁層の薄いフレキシブル基板へも適用可能であり、電子機器、ディスプレイの小型化、薄型化、狭額縁化にも貢献できる。
In addition, the presence of the exposed portion 20 lowers the resistance value of the interlayer connection portion, stabilizes it, and improves the connection reliability against thermal shock. In addition, even if the mask is misaligned during printing of the conductive paste, the resistance value of the interlayer connection is low and stable, and the connection reliability against thermal shock is improved.
Further, since the surface of the conductive paste 6 is flat, it is easy to mount components on the conductive paste 6. Therefore, the component mounting density of the multilayer board 100 can be increased. In addition, the accuracy of the mounting position of the mounting component 10, the accuracy of the inclination, and the like, which are particularly important in mounting the LED component, can be ensured by the flatness of the surface of the conductive paste 6. Further, the present invention can be applied to a flexible substrate having a thin insulating layer, and can contribute to miniaturization, thinning, and narrowing of a frame of an electronic device and a display.

以下、実施例について説明する。
図8Aは、実施例で用いた、導電性ペーストを充填する前の層間接続部評価用基板を示す画像である。図8Bは、図8Aの一部を拡大して示す画像である。図8Cは、実施例で用いた、導電性ペーストを充填した後の層間接続部評価用基板における層間接続部の接続状態を模式的に示す斜視図である。図8Dは、実施例で用いた、導電性ペーストを充填した後の層間接続部評価用基板における、接続抵抗値と、抵抗値バラツキを示すグラフであり、露出部形状が円環状のもの及び十字状のものについてのペースト印刷マスク位置合わせが適切な場合のグラフである。図8Eは、実施例で用いた、導電性ペーストを充填した後の層間接続部評価用基板における、接続抵抗値と、抵抗値バラツキを示すグラフであり、露出部形状が円環状のもの及び十字状のものについてのペースト印刷マスク位置をずらした場合のグラフである。
Hereinafter, examples will be described.
FIG. 8A is an image showing a substrate for interlayer connection evaluation before filling the conductive paste used in the example. FIG. 8B is an image showing a part of FIG. 8A in an enlarged manner. FIG. 8C is a perspective view schematically illustrating a connection state of the interlayer connection portion in the substrate for evaluating an interlayer connection portion after being filled with the conductive paste used in the example. FIG. 8D is a graph showing the connection resistance value and the variation in the resistance value of the interlayer connection portion evaluation substrate after filling the conductive paste used in the examples, wherein the shape of the exposed portion is annular and cross-shaped. 7 is a graph in a case where the paste print mask alignment for a shape-like object is appropriate. FIG. 8E is a graph showing the connection resistance value and the variation in the resistance value of the interlayer connection portion evaluation board after filling the conductive paste used in the examples, wherein the exposed portions are annular and cross-shaped. 9 is a graph when a paste print mask position is shifted for a shape-like object.

層間接続部評価用基板を用いて層間接続部の評価を実施した。層間接続部評価用基板は、基板外形寸法は40mm×190mmで、左上端と左下端の測定用ランド間を、デイジーチェーン状に0.9mm間隔で140箇所直列接続された層間接続部が全40列つながる構造である。全40列中の列ごとに、表面回路パターン上に、露出部の形状を複数種類形成し(列ごとに1種類の露出部の形状)、列の両端に測定用ランドを設けてある。そして、1基板中の層間接続部の総数は5600箇所となる構造を有している。なお、層間接続部評価用基板は、貫通穴径φ0.2mmとした。また、層間接続部評価用基板は、露出部形状が、円環状(図2A参照)のもの及び露出基部を有さない十字状(図10C参照)のものについて、ペースト印刷マスクの位置合わせをしたものをそれぞれ2列作製した。また、層間接続部評価用基板は、露出部形状が、円環状(図2A参照)のもの及び露出基部を有さない十字状(図10C参照)のものについて、ペースト印刷マスク位置を横方向(上面視で右側(図2A参照))に50μm程度ずらしたものをそれぞれ2列作製した。   The evaluation of the interlayer connection portion was performed using the interlayer connection portion evaluation substrate. The board for evaluating the interlayer connection part has a board outer dimension of 40 mm × 190 mm, and has a total of 40 interlayer connection parts connected in series in a daisy chain at 0.9 mm intervals between the upper left and lower left measurement lands at 0.9 mm intervals. It is a structure that connects columns. A plurality of types of exposed portions are formed on the surface circuit pattern for each of the 40 rows (one type of exposed portion for each row), and measurement lands are provided at both ends of the row. In addition, it has a structure in which the total number of interlayer connection portions in one substrate is 5,600. In addition, the board | substrate for an interlayer connection part evaluation made the through-hole diameter 0.2mm. In addition, for the substrate for evaluating the interlayer connection portion, the position of the paste print mask was adjusted for the exposed portion having an annular shape (see FIG. 2A) and the cross shape having no exposed base portion (see FIG. 10C). Each of them was manufactured in two rows. Also, regarding the interlayer connection portion evaluation board, the exposed portion shape is circular (see FIG. 2A) and cross-shaped (see FIG. 10C) having no exposed base portion, and the paste print mask position is set in the horizontal direction (see FIG. 10C). Two rows each of which was shifted by about 50 μm to the right (see FIG. 2A) in a top view were produced.

層間接続部評価用基板は、前記した多層基板の製造方法により製造した。具体的には以下の通りである。
まず、厚みが400μmの絶縁基板(ガラスエポキシ)の表面及び裏面に、厚みが35μmの銅箔を接合し、層間接続部における多層基板の総厚みを470μmとした。次に、両面の銅箔にエッチングを施して表面回路パターン及び裏面回路パターン、及び、露出部を形成した。次に、絶縁基板の表面側からNC加工機でドリル穴明け加工して、貫通穴径φ0.2mmの貫通穴を形成した。
The board for interlayer connection evaluation was manufactured by the above-described method for manufacturing a multilayer board. Specifically, it is as follows.
First, a copper foil having a thickness of 35 μm was bonded to the front and back surfaces of an insulating substrate (glass epoxy) having a thickness of 400 μm, and the total thickness of the multilayer substrate at the interlayer connection portion was set to 470 μm. Next, the copper foil on both surfaces was etched to form a front circuit pattern, a back circuit pattern, and an exposed portion. Next, a through hole having a through hole diameter of φ0.2 mm was formed by drilling a hole from the front surface side of the insulating substrate using an NC processing machine.

次に、導電性ペーストを、マスクを介して、絶縁基板の表面からスクリーン印刷法で貫通穴及び露出部に充填した。スクリーン印刷の条件は、クリアランス0mm〜1mmとし、20μm〜30μm厚、開口穴径φ0.3mm、0.4mmのメタルマスクと、硬度80のウレタンゴムのスキージとを用い、スキージ実効角度15度〜25度、印圧0.15MPa〜0.3MPa、スキージ速度10mm/sec〜100mm/sec、スキージ往復印刷とした。その後、熱ラミネーターで120℃、圧力0.2MPa、速度5mm/sec〜10mm/secで、表面回路パターンの上面の位置から突出した導電性ペーストに加圧処理を行った。導電性ペーストとしては、フレーク状の銀及びフレーク状の銀コート銅粉のフィラーと、熱硬化性のバインダ樹脂とを混合したもので、体積抵抗率が7.5×10‐5Ω・cm、バインダ樹脂含有量が6質量〜7質量%、溶剤含有量が0質量%、硬化時の質量減少率が1%未満のものを用いた。 Next, the conductive paste was filled into the through-holes and the exposed portions by a screen printing method from the surface of the insulating substrate through a mask. Screen printing conditions were as follows: clearance 0 mm to 1 mm, a metal mask having a thickness of 20 μm to 30 μm, an opening hole diameter of φ0.3 mm and 0.4 mm, and a urethane rubber squeegee having a hardness of 80, and a squeegee effective angle of 15 ° to 25 °. And printing pressure 0.15 MPa to 0.3 MPa, squeegee speed 10 mm / sec to 100 mm / sec, and squeegee reciprocal printing. Thereafter, the conductive paste protruding from the upper surface of the surface circuit pattern was subjected to a pressure treatment at 120 ° C., a pressure of 0.2 MPa, and a speed of 5 mm / sec to 10 mm / sec by a heat laminator. The conductive paste is a mixture of flake silver and flake silver-coated copper powder filler and a thermosetting binder resin, and has a volume resistivity of 7.5 × 10 −5 Ω · cm, A binder resin having a binder resin content of 6% to 7% by mass, a solvent content of 0% by mass, and a mass reduction rate of less than 1% upon curing was used.

その後、導電性ペーストを230℃の一定温度で60分加熱させ硬化させた。これにより、表面回路パターンと裏面回路パターンとを電気的に接続する層間接続部を形成した。   Thereafter, the conductive paste was heated and cured at a constant temperature of 230 ° C. for 60 minutes. As a result, an interlayer connecting portion for electrically connecting the front surface circuit pattern and the back surface circuit pattern was formed.

このようにして得られた層間接続部評価用基板を、前記した露出部形状が円環状のもの及び十字状のもの8列について、電気検査装置にて接続部抵抗値を四端子測定し、図8D、図8Eの結果を得た。ペースト印刷マスク位置合わせが適切な場合(図8D)は、露出部形状が円環状のもの、十字状のものに関わらず接続抵抗値は6.9mΩ〜8.7mΩの範囲にあり、抵抗値バラツキも同程度であった。しかし、ペースト印刷マスク位置を横方向に50μm程度ずらした場合(図8E)、円環状のものは接続抵抗値が高抵抗にシフトし、抵抗値バラツキも2.5倍程度大きくなった。一方、十字状のものは印刷位置合わせが適切な場合とほとんど変わらない結果を得た。この結果から、円環状のものは、ペースト印刷マスク位置ズレにより、表裏回路パターンと導電性ペースト間の接続状態が低下するのに対し、十字状のものでは安定した接続状態を確保できることが確認された。
また、ペースト印刷マスク位置合わせが適切な場合、露出部形状が十字状のものの接続抵抗値は、露出部形状が円環状のものの接続抵抗値よりも低かった。この結果から、本実施形態の多層基板及び部品実装基板は、高い接続信頼性を有するといえる。
The interlayer connection evaluation board obtained in this manner was subjected to four-terminal measurement of the connection part resistance with an electric inspection device for eight rows having the above-described exposed parts having a ring shape and a cross shape. 8D and the result of FIG. 8E were obtained. When the paste print mask alignment is proper (FIG. 8D), the connection resistance value is in the range of 6.9 mΩ to 8.7 mΩ regardless of the shape of the exposed portion being annular or cross-shaped, and the resistance value varies. Was similar. However, when the paste print mask position was shifted by about 50 μm in the horizontal direction (FIG. 8E), the connection resistance of the ring-shaped one was shifted to a high resistance, and the variation in the resistance was increased by about 2.5 times. On the other hand, in the case of the cross shape, the result obtained was almost the same as that in the case where the printing alignment was appropriate. From this result, it was confirmed that the connection state between the front and back circuit patterns and the conductive paste was reduced due to the misalignment of the paste printing mask in the case of the ring-shaped one, whereas a stable connection state could be secured in the case of the cross-shaped one. Was.
In addition, when the paste print mask alignment was appropriate, the connection resistance value of the exposed portion having a cross shape was lower than the connection resistance value of the exposed portion having an annular shape. From these results, it can be said that the multilayer board and the component mounting board of the present embodiment have high connection reliability.

以上、本実施形態に係る多層基板及び部品実装基板、並びに、それらの製造方法について、発明を実施するための形態により具体的に説明したが、本発明の趣旨はこれらの記載に限定されるものではなく、特許請求の範囲の記載に基づいて広く解釈されなければならない。また、これらの記載に基づいて種々変更、改変などしたものも本発明の趣旨に含まれる。   As described above, the multi-layer board and the component mounting board according to the present embodiment, and the method of manufacturing the same have been specifically described by the embodiments for carrying out the invention, but the gist of the present invention is limited to these descriptions. Rather, they must be interpreted broadly based on the claims. Various changes and modifications based on these descriptions are also included in the gist of the present invention.

露出部の形状は、前記した実施形態に限定されるものではない。
図9A、図10A、図11A、図12A、図13A、図14A、図15A、図16A、図17A、図18A、図19Aは、他の実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成する前の露出部を模式的に示す平面図である。図9B、図10B、図11B、図12B、図13B、図14B、図15B、図16B、図17B、図18B、図19Bは、他の実施形態に係る多層基板における、貫通穴を形成した後の露出部を模式的に示す平面図である。図9C、図10C、図11C、図12C、図13C、図14C、図15C、図16C、図17C、図18C、図19Cは、他の実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。なお、便宜上、導電性ペースト6は、外縁のみを記載している。
図20A〜図23は、他の実施形態に係る多層基板における、露出部と導電性ペーストの形成位置を模式的に示す平面図である。なお、図20A〜図22Bは、露出部の延出部が、表面回路パターンの端部まで延出したものであり、図23は、前記した実施形態の露出部について、導電性ペーストが、延出部の一部を被覆する形態を示したものである。
The shape of the exposed portion is not limited to the above embodiment.
FIGS. 9A, 10A, 11A, 12A, 13A, 14A, 15A, 16A, 17A, 18A, and 19A show a multi-layer substrate according to another embodiment before forming a through hole. It is a top view which shows the exposed part typically. 9B, FIG. 10B, FIG. 11B, FIG. 12B, FIG. 13B, FIG. 14B, FIG. 15B, FIG. 16B, FIG. 17B, FIG. 18B, and FIG. It is a top view which shows the exposed part typically. 9C, 10C, 11C, 12C, 13C, 14C, 15C, 16C, 17C, 18C, and 19C show an exposed portion and a conductive paste in a multilayer substrate according to another embodiment. FIG. 3 is a plan view schematically showing the formation position of the. For convenience, only the outer edge of the conductive paste 6 is described.
20A to 23 are plan views schematically showing exposed portions and formation positions of a conductive paste in a multilayer substrate according to another embodiment. 20A to 22B show the extension of the exposed portion extending to the end of the surface circuit pattern, and FIG. 23 shows that the conductive paste is applied to the exposed portion of the embodiment described above. It shows a form in which a part of the protrusion is covered.

露出部20は、延出部20bが貫通穴1の中心に対して対向する位置に4つ設けられている形状であってもよい(図9A〜図9Cなど参照)。
露出部20は、露出基部20aを有さない形状であってもよい(図10A〜図11Cなど参照)。すなわち、露出部20は、延出部20bのみからなるものであってもよい。このような形態であれば、露出部20の形成が容易となる。この場合、例えば、回路パターンを形成する工程において、露出部20の形状を調整したり、貫通穴を形成する工程において、露出基部20aがなくなるように貫通穴1を形成したりする。これにより、貫通穴1の外周に延出部20b(露出部20)が形成される。
The exposed portion 20 may have a shape in which four extending portions 20b are provided at positions facing the center of the through hole 1 (see FIGS. 9A to 9C and the like).
The exposed portion 20 may have a shape without the exposed base portion 20a (see FIGS. 10A to 11C and the like). That is, the exposed portion 20 may be composed of only the extending portion 20b. With such a form, the formation of the exposed portion 20 becomes easy. In this case, for example, in the step of forming a circuit pattern, the shape of the exposed portion 20 is adjusted, and in the step of forming the through hole, the through hole 1 is formed so as to eliminate the exposed base portion 20a. As a result, an extended portion 20b (exposed portion 20) is formed on the outer periphery of the through hole 1.

露出部20は、延出部20bが平面視で三角形であってもよい(図12A〜図12Cなど参照)。すなわち、露出部20は、棘状に形成されていてもよい。なお、ここでの三角形とは、露出基部20aに接続する部分が露出基部20aの形状に沿って湾曲するものを含むものとする。延出部20bが平面視で三角形であれば、簡易な形状のため、露出部20の形成が容易となる。
露出部20は、延出部20bが貫通穴1の外周方向へ向けて、平面視で幅広となるような形状であってもよい(図16A〜図17C参照)。また、露出部20は、延出部20bが平面視で楕円の一部を欠いた形状や、円の一部を欠いた形状であってもよい(図18A〜図19C参照)。さらに、延出部20bが平面視で、例えば星形や菱形などのその他の形状であってもよい。
The exposed portion 20 may have a triangular shape in the extending portion 20b in plan view (see FIGS. 12A to 12C and the like). That is, the exposed portion 20 may be formed in a spike shape. Note that the triangle here includes a portion where the portion connected to the exposed base 20a curves along the shape of the exposed base 20a. If the extending portion 20b is triangular in plan view, the exposed portion 20 can be easily formed because of the simple shape.
The exposed portion 20 may have a shape such that the extending portion 20b becomes wider in plan view toward the outer peripheral direction of the through hole 1 (see FIGS. 16A to 17C). The exposed portion 20 may have a shape in which the extension portion 20b lacks a part of an ellipse in plan view or a shape lacking a part of a circle (see FIGS. 18A to 19C). Further, the extension portion 20b may have another shape such as a star shape or a rhombus shape in a plan view.

露出部20は、延出部20bの一部が表面回路パターン2の端部まで延出するものであってもよい(図20A〜図22B参照)。ここでは、図面上、上下左右の4つの延出部20bが長い形状に形成されている。そして、ここでは、上、下、左の延出部20bが、表面回路パターン2の上端部、下端部、左端部まで延出している。このような形態であれば、バインダ樹脂が多い配合の導電性ペーストや、高粘度の導電性ペーストにおいても安定した接続が可能となる。なお、この場合においても、貫通穴1の大きさや位置、導電性ペースト6の形成範囲などは適宜調整すればよい。
また、導電性ペースト6は、露出部20の一部を被覆するものであってもよい(図23参照)。ここでは、導電性ペースト6は、延出部20bの一部を被覆するように、平面視で円状に形成されている。このような形態であれば、露出部20の全てを導電性ペースト6で被覆する必要がなく、導電性ペースト6の形成が容易となる。
さらに、露出部は、貫通穴の寸法や回路パターンの厚み、絶縁基板の厚みなどによって、その他の配置、形状であってもよい。また、貫通穴を形成した後の露出基部は、円環状に限らず、楕円環状、四角環状などのその他の環状や、その他の形状であってもよい。
The exposed part 20 may be such that a part of the extending part 20b extends to the end of the surface circuit pattern 2 (see FIGS. 20A to 22B). Here, in the drawing, the four extending portions 20b in the upper, lower, left, and right directions are formed in a long shape. In this case, the upper, lower, and left extensions 20b extend to the upper end, lower end, and left end of the surface circuit pattern 2. With such a form, stable connection is possible even in a conductive paste containing a large amount of binder resin or a high-viscosity conductive paste. In this case as well, the size and position of the through hole 1 and the formation range of the conductive paste 6 may be adjusted as appropriate.
Further, the conductive paste 6 may cover a part of the exposed portion 20 (see FIG. 23). Here, the conductive paste 6 is formed in a circular shape in plan view so as to cover a part of the extension 20b. In such a form, it is not necessary to cover the entire exposed portion 20 with the conductive paste 6, and the formation of the conductive paste 6 is facilitated.
Furthermore, the exposed portion may have other arrangements and shapes depending on the size of the through hole, the thickness of the circuit pattern, the thickness of the insulating substrate, and the like. Further, the exposed base after forming the through hole is not limited to an annular shape, and may be another annular shape such as an elliptical annular shape or a square annular shape, or may have another shape.

多層基板及び部品実装基板は、他の実施形態であってもよい。
図24Aは、他の実施形態に係る部品実装基板の構成を模式的に示す断面図である。図24Bは、他の実施形態に係る部品実装基板の構成を模式的に示す断面図である。
The multilayer board and the component mounting board may be other embodiments.
FIG. 24A is a cross-sectional view schematically illustrating a configuration of a component mounting board according to another embodiment. FIG. 24B is a cross-sectional view schematically illustrating a configuration of a component mounting board according to another embodiment.

多層基板100A及び部品実装基板101Aのように、露出部20が絶縁基板4の表面のみに形成されたものであってもよい。なお、この場合、貫通穴1は、絶縁基板4及び裏面回路パターン3を貫通するように形成されている。また、多層基板100B及び部品実装基板101Bのように、露出部20が絶縁基板4の裏面のみに形成されたものであってもよい。なお、この場合、貫通穴1は、絶縁基板4及び表面回路パターン2を貫通するように形成されている。
これらの形態であっても、接続信頼性に優れる多層基板及び部品実装基板となる。
The exposed portion 20 may be formed only on the surface of the insulating substrate 4 like the multilayer substrate 100A and the component mounting substrate 101A. In this case, the through hole 1 is formed so as to penetrate the insulating substrate 4 and the back surface circuit pattern 3. Further, the exposed portion 20 may be formed only on the back surface of the insulating substrate 4 like the multilayer substrate 100B and the component mounting substrate 101B. In this case, the through hole 1 is formed so as to penetrate the insulating substrate 4 and the surface circuit pattern 2.
Even in these forms, a multilayer board and a component mounting board having excellent connection reliability can be obtained.

多層基板の製造方法では、絶縁基板の表面から導電性ペーストを貫通穴に充填するものとしたが、絶縁基板の表面及び裏面の両面から導電性ペーストを貫通穴に充填してもよい。このようにして、絶縁基板の裏面にも突出部を設けてもよい。導電性ペースト6の裏面の突出部が平坦であれば、層間接続部上(層間接続部の下側)へのレジスト形成が容易で絶縁性が高くなる。   In the method for manufacturing the multilayer substrate, the conductive paste is filled into the through holes from the front surface of the insulating substrate. However, the conductive paste may be filled into the through holes from both the front surface and the rear surface of the insulating substrate. In this manner, the protrusion may be provided on the back surface of the insulating substrate. If the projection on the back surface of the conductive paste 6 is flat, it is easy to form a resist on the interlayer connection (below the interlayer connection), and the insulation is enhanced.

また、多層基板の製造方法及び部品実装基板の製造方法は、前記した多層基板及び部品実装基板の形態に合わせ、露出部の形成箇所や露出部の形状などを適宜、調整すればよい。また、多層基板の製造方法及び部品実装基板の製造方法は、前記各工程に悪影響を与えない範囲において、前記各工程の間、あるいは前後に、他の工程を含めてもよい。例えば、製造途中に混入した異物を除去する異物除去工程などを含めてもよい。   In addition, in the method of manufacturing the multilayer board and the method of manufacturing the component mounting board, the location of the exposed portion, the shape of the exposed portion, and the like may be appropriately adjusted according to the form of the multilayer board and the component mounted board. In addition, the method for manufacturing a multilayer substrate and the method for manufacturing a component mounting board may include other steps before, during, or after each of the steps as long as the steps are not adversely affected. For example, a foreign matter removing step of removing foreign matter mixed during the manufacturing may be included.

本開示の実施形態に係る多層基板及び部品実装基板は、電子機器、ディスプレイなどに利用することができる。   The multilayer board and the component mounting board according to the embodiments of the present disclosure can be used for electronic devices, displays, and the like.

1 貫通穴
2 表面回路パターン
2a 表面銅箔
3 裏面回路パターン
3a 裏面銅箔
4 絶縁基板
6a 充填部
6b 突出部
6、6c 導電性ペースト
7、7c 表面レジスト
8、8c 裏面レジスト
9 接着層
9c 半田ペースト
10 実装部品
11 マスク
12 スクリーンマスク
13 メタルマスク
14 工具
15 回路パターン付き絶縁基板
20 露出部
20a 露出基部
20b 延出部
30 セラミックバフ
40 スキージ
50 ロール
51 セパレータ
100、100A、100B 多層基板
101、101A、101B 部品実装基板
REFERENCE SIGNS LIST 1 through hole 2 surface circuit pattern 2a front surface copper foil 3 back surface circuit pattern 3a back surface copper foil 4 insulating substrate 6a filling portion 6b projecting portion 6, 6c conductive paste 7, 7c surface resist 8, 8c back surface resist 9, adhesive layer 9c solder paste DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Mounting component 11 Mask 12 Screen mask 13 Metal mask 14 Tool 15 Insulating board 20 with a circuit pattern Exposed part 20a Exposed base 20b Extension part 30 Ceramic buff 40 Squeegee 50 Roll 51 Separator 100, 100A, 100B Multilayer substrate 101, 101A, 101B Component mounting board

Claims (16)

絶縁基板と前記絶縁基板の表面及び裏面に設けられる回路パターンとを持ち、貫通穴が形成されている回路パターン付き絶縁基板と、
前記貫通穴に充填され、前記回路パターンと電気的に接続される導電性ペーストと、を備え、
前記絶縁基板の表面及び裏面のうちの少なくとも一方に、前記貫通穴の周囲において前記絶縁基板が露出した露出部を有し、前記露出部は、平面視で、前記貫通穴の外周方向へ延出する複数の延出部を有し、前記露出部の少なくとも一部が前記導電性ペーストで被覆されている多層基板。
Having an insulating substrate and a circuit pattern provided on the front and back surfaces of the insulating substrate, an insulating substrate with a circuit pattern having a through hole formed therein,
A conductive paste filled in the through-hole and electrically connected to the circuit pattern,
At least one of the front surface and the back surface of the insulating substrate has an exposed portion where the insulating substrate is exposed around the through hole, and the exposed portion extends in an outer peripheral direction of the through hole in a plan view. A multi-layer substrate having a plurality of extending portions, wherein at least a part of the exposed portion is covered with the conductive paste.
前記延出部は、平面視で前記貫通穴の中心に対して対向する位置に設けられている請求項1に記載の多層基板。   The multilayer substrate according to claim 1, wherein the extension is provided at a position facing a center of the through hole in a plan view. 前記延出部は、1つの前記貫通穴に対し、少なくとも4つ設けられている請求項1又は請求項2に記載の多層基板。   The multilayer substrate according to claim 1, wherein at least four extending portions are provided for one through hole. 前記延出部は、平面視で前記貫通穴の周縁に等間隔で設けられている請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の多層基板。   4. The multilayer substrate according to claim 1, wherein the extension portions are provided at equal intervals on a periphery of the through hole in a plan view. 5. 前記延出部は、平面視で矩形又は三角形である請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の多層基板。   The multilayer substrate according to claim 1, wherein the extension is a rectangle or a triangle in plan view. 前記導電性ペーストは、体積抵抗率が2×10‐5Ω・cm〜1.5×10‐4Ω・cm、バインダ樹脂含有量が3質量%〜10質量%である請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の多層基板。 The said conductive paste has volume resistivity of 2 * 10 < -5 > (ohm * cm) -1.5 * 10 < -4 > (ohm * cm), and binder resin content is 3 mass% -10 mass%. 6. The multilayer substrate according to any one of 5. 前記絶縁基板は、厚さが50μm〜1000μmのガラスエポキシ、又は、厚さが12μm〜50μmのポリイミドであり、前記絶縁基板の表面及び裏面に形成された前記回路パターンの厚みが12μm〜70μmである請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載の多層基板。   The insulating substrate is a glass epoxy having a thickness of 50 μm to 1000 μm or a polyimide having a thickness of 12 μm to 50 μm, and the circuit pattern formed on the front and back surfaces of the insulating substrate has a thickness of 12 μm to 70 μm. The multilayer substrate according to claim 1. 請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載の多層基板に、実装部品が実装された部品実装基板。   A component mounting board comprising a multilayer board according to any one of claims 1 to 7, on which a mounting component is mounted. 絶縁基板と前記絶縁基板の表面及び裏面に設けられる回路パターンとを持ち、貫通穴が形成されている回路パターン付き絶縁基板を準備する工程と、
前記貫通穴に導電性ペーストを充填する工程と、を含み、
前記回路パターン付き絶縁基板を準備する工程は、前記絶縁基板の表面及び裏面のうちの少なくとも一方に、前記貫通穴の周囲において前記絶縁基板が露出し、前記貫通穴の外周方向へ延出する複数の延出部を有する露出部を形成し、
前記導電性ペーストを充填する工程は、前記露出部の少なくとも一部を前記導電性ペーストで被覆する多層基板の製造方法。
A step of preparing an insulating substrate with a circuit pattern having an insulating substrate and a circuit pattern provided on the front surface and the back surface of the insulating substrate, and having a through hole formed therein,
Filling the through-hole with a conductive paste,
The step of preparing the insulating substrate with a circuit pattern includes the step of: exposing the insulating substrate around at least one of the front surface and the back surface of the insulating substrate around the through hole, and extending in a peripheral direction of the through hole. Forming an exposed portion having an extension portion of
The step of filling the conductive paste is a method of manufacturing a multilayer substrate in which at least a part of the exposed portion is covered with the conductive paste.
前記導電性ペーストを充填する工程は、前記貫通穴付近において、前記回路パターンの上面の位置から突出した前記導電性ペーストを加圧処理する請求項9に記載の多層基板の製造方法。   The method according to claim 9, wherein the step of filling the conductive paste presses the conductive paste protruding from a position on an upper surface of the circuit pattern in the vicinity of the through hole. 前記導電性ペーストを充填する工程の後、前記回路パターンの上面の位置から突出した前記導電性ペーストを平坦に研磨する工程を行う請求項9又は請求項10に記載の多層基板の製造方法。   The method according to claim 9, wherein after the step of filling the conductive paste, a step of flatly polishing the conductive paste protruding from a position on an upper surface of the circuit pattern is performed. 前記回路パターン付き絶縁基板を準備する工程において、前記延出部を、平面視で前記貫通穴の中心に対して対向する位置に形成する請求項9乃至請求項11のいずれか一項に記載の多層基板の製造方法。   The method according to claim 9, wherein in the step of preparing the insulating substrate with a circuit pattern, the extending portion is formed at a position facing a center of the through hole in a plan view. A method for manufacturing a multilayer substrate. 前記回路パターン付き絶縁基板を準備する工程において、前記延出部を、1つの前記貫通穴に対し、少なくとも4つ形成する請求項9乃至請求項12のいずれか一項に記載の多層基板の製造方法。   The manufacturing of the multilayer substrate according to any one of claims 9 to 12, wherein in the step of preparing the insulating substrate with a circuit pattern, at least four extending portions are formed for one of the through holes. Method. 前記回路パターン付き絶縁基板を準備する工程において、前記延出部を、平面視で前記貫通穴の周縁に等間隔で形成する請求項9乃至請求項13のいずれか一項に記載の多層基板の製造方法。   The multi-layer substrate according to claim 9, wherein in the step of preparing the insulating substrate with a circuit pattern, the extending portions are formed at equal intervals on a periphery of the through hole in a plan view. Production method. 前記回路パターン付き絶縁基板を準備する工程において、前記延出部を、平面視で矩形又は三角形に形成する請求項9乃至請求項14のいずれか一項に記載の多層基板の製造方法。   The method of manufacturing a multilayer substrate according to any one of claims 9 to 14, wherein in the step of preparing the insulating substrate with a circuit pattern, the extension is formed in a rectangular shape or a triangular shape in plan view. 請求項9乃至請求項15のいずれか一項に記載の多層基板の製造方法で製造された多層基板の表面及び裏面にレジストを形成する工程と、
前記レジストを形成した多層基板に部品を実装する工程と、を含む部品実装基板の製造方法。
A step of forming a resist on the front surface and the back surface of the multilayer substrate manufactured by the method for manufacturing a multilayer substrate according to any one of claims 9 to 15,
Mounting a component on the multi-layer substrate on which the resist is formed.
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