JP2020034857A - 表示体、および、表示体の製造方法 - Google Patents

表示体、および、表示体の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】観察の条件に応じて互いに異なる外観の像を視認させることができ、意匠性及びセキュリティ性の優れる表示体、および、表示体の製造方法を提供する。【解決手段】表示体は、支持部11aの上に形成された遮光層10と、遮光層10の上に形成されたサブ波長周期を有した二次元格子状に並ぶ複数の周期要素11Tを備える誘電体である周期構造体を備える。さらに、表示体は、周期要素11Tを囲む領域と周期要素11Tの表面とを含む面である周期構造体の表面に位置し、周期構造体の表面形状に追従する形状を有した金属層23,42を備える。【選択図】図3

Description

本発明は、表示体、および、表示体の製造方法に関する。
表示体は、回折格子や多層膜による光の干渉等を利用することにより、印刷物とは異なる視覚的な効果を、表示体が示す像に付加する(例えば、特許文献1参照)。表示体は、例えば、パスポートや免許証等の認証書類や、商品券や小切手等の有価証券類のように、偽造が困難であることを求められる物品に備えられることにより、物品の偽造の困難性を高める。また、表示体は、身の回りの物品に備えられることにより、物品の意匠性を高める。
特許第5124272号公報
意匠性をより高めるためには、1つの表示体が、観察の条件に応じて互いに異なる外観の像を形成可能であることが好ましい。例えば、表示体の表面の観察と裏面の観察とで、互いに異なる色彩の像が視認される表示体や、表示体の一方の面に対する反射光の観察と透過光の観察とで、互いに異なる色彩の像が視認される表示体が望まれている。
また、偽造の困難性を高めるためには、表示体の一方の面に対する透過光の観察により反射光の観察では視認できない絵柄や文字を視認させる、透かし効果を有する表示体が望まれている。
本発明は、観察の条件に応じて互いに異なる外観の像を視認させることができ、透かし効果により、意匠性及びセキュリティ性に優れる表示体、および、表示体の製造方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決する表示体は、基準面を有する支持部と、基準面においてサブ波長周期を有した二次元格子状に並ぶ複数の周期要素であって、基準面から突出する凸部、もしくは、前記基準面から窪む凹部のいずれかである周期要素を備える誘電体である周期構造体と、基準面のうち周期要素を囲む領域と周期要素の表面とを含む面である周期構造体の表面に位置し、周期構造体の表面形状に追従する形状を有した金属層と、を備え、
基準面上に、
10nm以上200nm以下の厚さを有した第1格子層と、
第1格子層よりも上層に設けられ、10nm以上200nm以下の厚さを有した第2格子層と、
第1格子層および第2格子層よりも厚い中間格子層であって、厚さ方向に第1格子層と第2格子層とに挟まれた中間格子層と、を含み、
支持部の基準面と第1格子層の間、或いは、支持部における基準面とは反対側の面に遮光層を備え、
第1格子層は、周期的に島状配列に並ぶ複数の第1誘電体層と、各第1誘電体層を囲う網目状を有した第1金属層と、を備え、
中間格子層は、周期的に島状配列に並ぶ複数の第1中間誘電体層と、各第1中間誘電体層を囲う網目状を有し、かつ、第1中間誘電体層よりも低い誘電率を有した第2中間誘電体層と、を備え、
第2格子層は、周期的に島状配列に並ぶ複数の第2金属層と、各第2金属層を囲う網目状を有した第2誘電体層と、を備え、
周期要素は凸部であって、第1誘電体層と第1中間誘電体層とが周期要素を構成し、第1金属層と第2金属層とが金属層に含む。
上記構成において、前記第1格子層における前記第1金属層の体積比率が、前記第2格子層における前記第2金属層の体積比率よりも大きく、かつ、前記第2格子層における前記第2金属層の体積比率が、前記中間格子層における金属材料の体積比率よりも大きく、
前記第1誘電体層の構造周期に対する前記第1誘電体層の幅の比、および、前記第2金属層の構造周期に対する前記第2金属層の幅の比が、0.25以上0.75以下であり、
第1金属層、および、第2金属層は、可視領域の光に対する複素誘電率の実部が負の値を有する材料で構成されてもよい。
上記構成において、遮光層は可視光波長を吸収する材料で構成されてもよい。
上記構成において、遮光層は、可視領域の光に対する複素誘電率の実部が負の値を有する金属材料で構成されてもよい。
上記構成において、第1誘電体層の構造周期に対する第1誘電体層の幅の比、および、第2金属層の構造周期に対する第2金属層の幅の比が、0.40以上0.60以下であってもよい。
上記構成において、第1誘電体層と第1中間誘電体層とが一体の構造体であり、第1格子層の厚さは、100nm以下であり、第2格子層の厚さは、100nm以下であり、中間格子層の厚さは、150nm以下であってもよい。
上記構成において、第1格子層は支持部との間に境界を有していなくても良く、第1格子層と支持部が一体の構造である場合は、第1格子層と支持部の合計の厚さは、50nm以上500nm以下であってもよい。
上記構成において、遮光層が第1金属層及び第2金属層と同一の材料で構成され、第2誘電体層は、空気層であり、第1誘電体層の屈折率と第1金属層の屈折率との差は、第2誘電体層の屈折率と第2金属層の屈折率との差よりも大きくてもよい。
上記構成において、第1誘電体層と第1中間誘電体層とが一体の構造体であり、第2中間誘電体層と第2誘電体層とが一体の構造体であってもよい。
上記構成によれば、第1誘電体層と第1中間誘電体層とが一体の構造体であり、また、第2中間誘電体層と第2誘電体層とが一体の構造体であるため、表示体の構造を簡素化することが可能ともなる。
上記構成において、金属層における周期構造体と接する面とは反対側の面に位置し、金属層の表面形状に追従する形状を有した誘電体層を備えてもよい。
上記課題を解決する製造方法は、基準面を有する支持部の基準面上、或いは、支持部における基準面とは反対側の面に遮光層を形成する第1工程と、遮光層が形成された支持部の基準面側の面に、樹脂により、基準面に対向する方向から見て凸部またはである周期要素が、サブ波長周期を有した二次元格子状に位置する周期構造体を形成する第2工程と、周期構造体の表面形状に追従する形状を有した金属層を周期構造体の上に形成する第3工程と、を含む。
上記製法によれば、観察の条件に応じて互いに異なる外観の像を視認させることのできる表示体が得られる。特に、微細な凹凸を有する周期構造体を、容易にかつ好適に形成することができる。
上記製法において、金属層を覆う誘電体層を形成する第4工程を含んでもよい。
上記製法によれば、誘電体層を構成する材料の変更によって、表示体に対する反射観察や透過観察で観察される色彩を調整することが可能であるため、こうした色彩の調整についての自由度が高められる。
本発明によれば、表示体において、観察の条件に応じて互いに異なる概観の像を視認させることができ、意匠性及びセキュリティ性の優れる表示体を提供することができる。
表示体の第1実施形態における平面構造を示す平面図。 第1実施形態の表示体における第1表示領域の平面構造を拡大して示す拡大図。 第1実施形態の第1表示領域の断面構造を示す図であり、図2のIII‐III線断面図。 第1実施形態の第1表示領域の断面構造を示す図であり、図2のIV‐IV線断面図。 第1実施形態の第2表示領域の断面構造を示す図であり、図1のV‐V線断面図。 第1実施形態の表示体の作用を表面側での反射観察、および、裏面側での透過観察によって示す作用図。 第1実施形態の表示体の作用を裏面側での反射観察、および、表面側での透過観察によって示す作用図。 第1実施形態の変形例の第1表示領域における断面構造の一部を拡大して示す断面図。 第2実施形態の第1表示領域の断面構造を示す図であり、図2のIII‐III線断面図。 第2実施形態の第1表示領域の断面構造を示す図であり、図2のIV‐IV線断面図。 第2実施形態の第2表示領域の断面構造を示す図であり、図1のV‐V線断面図。 第2実施形態の表示体の作用を表面側での反射観察、および、裏面側での透過観察によって示す作用図。 第2実施形態の表示体の作用を裏面側での反射観察、および、表面側での透過観察によって示す作用図。 第2実施形態の変形例の第1表示領域における断面構造の一部を拡大して示す断面図。 第2実施形態の変形例の第1表示領域における断面構造の一部を拡大して示す断面図。
(第1実施形態)
図1から図7を参照して表示体および表示体の製造方法の第1実施形態を説明する。なお、表示体は、物品の偽造の困難性を高める目的で用いられてもよいし、物品の意匠性を高める目的で用いられてもよいし、これらの目的を兼ねて用いられてもよい。物品の偽造の困難性を高める目的で、表示体は、例えば、パスポートや免許証等の認証書類、商品券や小切手等の有価証券類、クレジットカードやキャッシュカード等のカード類、紙幣等に貼り付けられる。また、物品の意匠性を高める目的で、表示体は、例えば、身に着けられる装飾品や、使用者に携帯される物品、家具や家電等のように据え置かれる物品、壁や扉等の構造物等に取り付けられる。
図1が示すように、表示体の有する表面10Sは、第1表示領域10Aと、第2表示領域10Bとに区画される。第1表示領域10Aの備える断面構造と、第2表示領域10Bの備える断面構造とは、相互に異なる。第1表示領域10Aは、表面10Sにおいて、文字、図形、記号、模様、絵などを描く領域であり、図1では、例えば、星形の図形を描く領域である。
[表示体の構造]
まず、第1表示領域10Aの構成について以下に説明する。
図2が示すように、第1表示領域10Aは、表示体の表面10Sに対向する方向から見て、複数の孤立領域A2と、各孤立領域A2を囲む単一の周辺領域A3とを含む。図2では、孤立領域A2を説明する便宜上、各孤立領域A2にドットを付して示す。
各孤立領域A2は、表面10Sに沿って正方配列に並ぶ。正方配列は、一辺が構造周期PTを有する正方形LTの各頂点に孤立領域A2が位置する配列である。なお、各孤立領域A2は、正三角形の各頂点に孤立領域A2が位置する六方配列に並ぶことも可能である。すなわち、孤立領域A2は、周期的に島状配列として並ぶ。
図3が示すように、表示体は、可視領域の光を透過する透明な支持部11aを備える。可視領域の光が有する波長は、400nm以上800nm以下である。支持部11aは、第1表示領域10Aと第2表示領域10Bとに共通する。支持部11aの有する断面構造は、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。
支持部11aを構成する材料は、誘電体であり、例えば、光硬化性樹脂などの樹脂や、石英などの無機材料である。物品に表示体を貼り付けることに要する可撓性を得やすいこと、支持部11aに付加できる光学的な特性の自由度が高いことなどの観点において、支持部11aを構成する材料は、樹脂であることが好ましい。支持部11aの屈折率は、空気層よりも高く、例えば1.2以上1.7以下である。
第1表示領域10Aは、支持部11aに近い層から順に、遮光層10と、中間層11bと、第1格子層21と、中間格子層31と、第2格子層41とを備える。中間格子層31は、第1格子層21と第2格子層41とに挟まれている。なお、支持部11aにおいて遮光層10の位置する面が、支持部11aの表面であり、支持部11aに対して遮光層10の位置する側が、表示体における表面側である。反対に、遮光層10に対して支持部11aの位置する側が、表示体における裏面側である。
[遮光層10]
支持部11aの表面には、遮光層10が位置する。遮光層10を構成する材料は、可視波長帯を吸収する材料であってもよいし、金属であってもよい。透かし効果が生じやすいことなどの観点において、遮光層11aの厚さは、5nm以上50nm以下であり、透過率は10%以上20%以下であることが好ましい。
[中間層11b]
遮光層10の上には、中間層11bが位置する。中間層11bは、各第1誘電体層22との間に境界を有していなくてもよい。図3は、中間層11bの表面側の層が各第1誘電体層22と一体である構造を示す。中間層11bと各第1誘電体層22が一体である構成においては、中間層11bと各第1誘電体層22との合計の厚さは、50nm以上500nm以下であることが好ましい。
[第1格子層21]
中間層11bの上には、第1格子層21が位置する。第1格子層21は、複数の第1誘電体層22と、単一の第1金属層23とを備える。各第1誘電体層22は、表示体の表面10Sに対向する方向から見て、孤立領域A2に位置する。単一の第1金属層23は、表面10Sに対向する方向から見て、周辺領域A3に位置する。複数の第1誘電体層22は、表面10Sに沿って、周期的に島状配列に並ぶ。
各第1誘電体層22は、支持部11bの表面から突き出た構造体である。各第1誘電体層22は、中間層11bから突き出ており、各第1誘電体層22と中間層11bとは一体である。
第1金属層23は、表面10Sと対向する方向から見て、各第1誘電体層22を1つずつ囲う網目状を有する。第1格子層21において、単一の第1金属層23は、自由電子が行きわたる光学的な海成分であり、各第1誘電体層22は、海成分のなかに分布する島成分である。
表面10Sに対向する方向から見て、第1誘電体層22の位置する周期は、相互に隣り合う第1誘電体層22の最短幅WPと、第1誘電体層22の幅WTとの合計であり、上記構造周期PTである。構造周期PTは、可視領域の波長以下であるサブ波長周期である。
構造周期PTに対する第1誘電体層22の幅WTの比は、0.25以上0.75以下である。第1格子層21の加工の精度が得られること、第1格子層21においてプラズモン共鳴が生じやすいことなどの観点において、構造周期PTに対する第1誘電体層22の幅WTの比は、好ましくは、0.40以上0.60以下である。
第1格子層21の厚さは、10nm以上200nm以下であることが好ましい。第1格子層21の加工の精度が得られること、第1格子層21においてプラズモン共鳴が生じやすいこと、各観察による像の色彩が鮮明となることなどの観点において、第1格子層21の厚さは、10nm以上100nm以下であることが好ましい。
[中間格子層31]
第1格子層21の上には、中間格子層31が位置する。中間格子層31の厚さは、第1格子層21の厚さよりも厚い。中間格子層31の加工の精度が得られる観点において、中間格子層31の厚さは、150nm以下であることが好ましい。
中間格子層31は、複数の第1中間誘電体層32と、単一の第2中間誘電体層33とを備える。各第1中間誘電体層32は、表面10Sに対向する方向から見て、孤立領域A2に位置する。単一の第2中間誘電体層33は、表面10Sに対向する方向から見て、周辺領域A3に位置する。複数の第1中間誘電体層32は、表面10Sに沿って、周期的に島状配列に並ぶ。
各第1中間誘電体層32は、第1誘電体層22から突き出た構造体である。各第1中間誘電体層32は、例えば、第1誘電体層22と一体である。あるいは、各第1中間誘電体層32は、例えば、第1誘電体層22との間に境界を有し、第1誘電体層22とは別体である。表面10Sに対向する方向から見て、第1中間誘電体層32の位置する周期は、第1誘電体層22と同じく、最短幅WPと幅WTとの合計であり、上記構造周期PTである。構造周期PTに対する第1中間誘電体層32の幅WTの比は、0.25以上0.75以下である。また、構造周期PTに対する第1中間誘電体層32の幅WTの比は、好ましくは、0.40以上0.60以下である。
第2中間誘電体層33は、表面10Sに対向する方向から見て、各第1中間誘電体層32を1つずつ囲う網目状を有する。中間格子層31において、単一の第2中間誘電体層33は、構造的および光学的に海成分であり、各第1中間誘電体層32は、構造的および光学的に島成分である。第2中間誘電体層33は、空気層、あるいは、樹脂層であり、第1中間誘電体層32よりも低い誘電率を有する。
[第2格子層41]
中間格子層31の上には、第2格子層41が位置する。第2格子層41の厚さは、10nm以上200nm以下であることが好ましく、また、第2格子層41の厚さは、中間格子層31の厚さよりも薄い。第2格子層41の加工の精度が得られること、第2格子層41においてプラズモン共鳴が生じやすいこと、各観察による像の色彩が鮮明になることなどの観点において、第2格子層41の厚さは、10nm以上100nm以下であることが好ましい。
第2格子層41は、複数の第2金属層42と、単一の第2誘電体層43とを備える。各第2金属層42は、表面10Sに対向する方向から見て、孤立領域A2に位置する。単一の第2誘電体層43は、表面10Sに対向する方向から見て、周辺領域A3に位置する。複数の第2金属層42は、表面10Sに沿って、周期的に島状配列に並ぶ。
各第2金属層42は、第1中間誘電体層32の頂面に重なる構造体である。各第2金属層42は、第1中間誘電体層32との間に境界を有し、第1中間誘電体層32とは別体である。表面10Sと対向する方向から見て、第2金属層42の位置する周期は、第1誘電体層22と同じく、最短幅WPと幅WTとの合計であり、上記構造周期PTである。構造周期PTに対する第2金属層42の幅の比は、0.25以上0.75以下である。また、構造周期PTに対する第2金属層42の幅の比は、好ましくは、0.40以上0.60以下である。
第2誘電体層43は、表面10Sに対向する方向から見て、各第2金属層42を1つずつ囲う網目状を有する。第2格子層41において、単一の第2誘電体層43は、第2金属層42と比べて自由電子が少ない光学的な海成分であり、各第2金属層42は、海成分のなかに分布する島成分である。第2誘電体層43は、空気層、あるいは、樹脂層であり、第1中間誘電体層32よりも低い誘電率を有する。
第1格子層21における海成分である第1金属層23の体積比率は、第2格子層41における島成分である第2金属層42の体積比率よりも大きい。また、第2格子層41における島成分である第2金属層42の体積比率は、中間格子層31における金属材料の体積比率よりも大きい。
図4が示すように、周辺領域A3においては、支持部11aに近い層から順に、遮光層10と、中間層11bと、第1格子層21と、中間格子層31と、第2格子層41とが位置する。
次に、第2表示領域10Bの構成について以下に説明する。
図5が示すように、第2表示領域10Bは、支持部11aの上に、上述した中間層11bと、第1格子層21、中間格子層31、および、第2格子層41を備えていない。すなわち、第2表示領域10Bは、支持部11aと遮光層10の備える光透過性に従って、可視領域の光を透過する。
なお、第2表示領域10Bは、第1表示領域10Aとは異なる層を、支持部11aの上に備えてもよい。第2表示領域10Bは、例えば、遮光層10のみを備えてもよい。また、第2表示領域10Bは、例えば、遮光層10と第1金属層23とを構成する材料と同一の材料から構成された層を備えてもよい。第2表示領域10Bにおける層構成は、第2表示領域10Bが表示する像への要請に応じて、適宜選択される。
[各格子層の材料]
第1誘電体層22および第1中間誘電体層32は、誘電体であり、例えば、光硬化性樹脂などの樹脂や、石英などの無機材料から構成される。第1誘電体層22および第1中間誘電体層32の各々の屈折率は、空気層よりも高く、例えば、1.2以上1.7以下である。
第1金属層23、第2金属層42を構成する材料は、可視領域の波長における複素誘電率の実部が負の値の材料であることが好ましく、例えば、アルミニウム、銀、金、インジウム、タンタルなどであることが好ましい。第1金属層23と第2金属層42とは、例えば、同一の材料から構成される。
遮光層10は、可視波長帯を吸収する材料であることが好ましく、例えば、炭素系黒色顔料やチタン系黒色顔料などであることが好ましい。また、遮光層10は可視領域の波長における複素誘電率の実部が負の材料であることが好ましく、例えば、アルミニウム、銀、金、インジウム、タンタルなどであることが好ましい。
[表示体の光学的な構成及び作用]
次に、表示体が備える光学的な構成及び作用を説明する。
ここでは、表示体の表面10S、および、表示体の裏面10Tが、それぞれ空気層と接し、第2中間誘電体層33と第2誘電体層43との各々が、空気層である構成、あるいは、空気層に近い屈折率を有した樹脂層である構成を例として説明する。
図6が示すように、支持部11aの屈折率は、誘電体に支配された大きさであって、空気層の屈折率よりも大きい。
中間層11bの表面側の層が各第1誘電体層22と一体である場合においては、中間層11bの屈折率は第1誘電体層22と等しく、空気層の屈折率よりも高い。
第1誘電体層22の屈折率は、空気層の屈折率よりも高く、第1金属層23の屈折率は、空気層の屈折率よりも低い。第1格子層21の屈折率は、これら第1金属層23の屈折率と、第1誘電体層22の屈折率とによって、平均化された大きさに近似される。構造周期PTに対する第1誘電体層22の幅WTの比は、0.25以上0.75以下であるため、第1格子層21の屈折率は、結局のところ、海成分である第1金属層23に支配された大きさであり、空気層の屈折率よりも十分に低い。
第1中間誘電体層32の屈折率は、空気層の屈折率よりも高く、第2中間誘電体層33の屈折率は、空気層の屈折率と等しい、もしくは、空気層の屈折率よりも高い。中間格子層31の屈折率は、これら第2中間誘電体層33の屈折率と、第1中間誘電体層32の屈折率とによって、平均化された大きさに近似される。構造周期PTに対する第1中間誘電体層32の幅WTの比は、0.25以上0.75以下であるため、中間格子層31の屈折率は、結局のところ、海成分である第2中間誘電体層33に支配された大きさであり、空気層の屈折率よりも高く、かつ、空気層の屈折率に近い値である。
第2金属層42の屈折率は、空気層の屈折率よりも低く、第2誘電体層43の屈折率は、空気層の屈折率と等しい、もしくは、空気層の屈折率よりも高い。第2格子層41の屈折率は、これら第2誘電体層43の屈折率と、第2金属層42の屈折率とによって、平均化された大きさに近似される。構造周期PTに対する第2金属層42の幅WTの比は、0.25以上0.75以下であるため、第2格子層41の屈折率は、結局のところ、海成分である第2誘電体層43に支配された大きさであり、空気層の屈折率よりも低く、かつ、空気層に近い値である。
[表面反射観察、裏面透過観察]
ここで、表示体の外側から第2格子層41に入射する白色の光L1は、空気層から第2格子層41に入り、第2格子層41から中間格子層31に入る。第2格子層41に入射する光L1は、空気層に近い屈折率を有した第2格子層41に空気層から入るため、空気層と第2格子層41との界面においては、フレネル反射を生じ難い。また、中間格子層31に入射する光は、空気層に近い屈折率を有した第2格子層41から、空気層に近い屈折率を有した中間格子層31に入るため、ここでも、第2格子層41と中間格子層31との界面においては、フレネル反射を生じ難い。
一方で、第2金属層42の構造周期PTが、可視領域の波長以下のサブ波長周期であるため、第2格子層41ではプラズモン共鳴が生じる。プラズモン共鳴は、第2格子層41に入射した光の一部と電子の集団的な振動とが結合する現象である。第2格子層41に入射した光L1の一部は、第2格子層41でのプラズモン共鳴によって表面プラズモンに変換され、表面プラズモンは第2格子層41を透過する。第2格子層41を透過した表面プラズモンは、光に再変換されて出射される。プラズモン共鳴に起因して第2格子層41が出射する光EP2の波長領域は、第2金属層42の構造周期PTを含む格子構造および材料に依存した特定の波長領域である。結果として、第2格子層41は、第2格子層41に入射した光の波長領域の一部の光を、中間格子層31へ透過する。
また、第1誘電体層22の構造周期PTも、可視領域の波長以下のサブ波長周期であるため、第1格子層21でもプラズモン共鳴が生じる。すなわち、第1格子層21に入射する光の一部もまた、第1格子層21でのプラズモン共鳴によって表面プラズモンに変換され、表面プラズモンは第1格子層21を透過し、光に再変換されて出射される。プラズモン共鳴に起因して第1格子層21が出射する光EP1の波長領域は、第1誘電体層22の構造周期PTを含む格子構造および材料に依存した特定の波長領域である。結果として、第1格子層21は、第1格子層21に入射した光の波長領域の一部の光を、中間層11bへ透過する。
さらに、中間層11bに入射した光の一部は遮光層10により反射或いは透過される。プラズモン共鳴に起因した光として出射された光EP1は遮光層10と再びプラズモン共鳴を起こし、共鳴に起因した光のみが反射或いは透過される。
以上により、表示体の外側から第2格子層41へ光L1を入射させて、表示体の表面側から表面10Sを観察する表面反射観察によれば、上記各界面でのフレネル反射を生じ難いこと、上記各格子層でのプラズモン共鳴を生じること、これらが相まって、黒色、もしくは、黒色に近い色彩が、第1表示領域10Aで視認される。
他方、表示体の外側から第2格子層41へ光L1を入射させて、表示体の裏面側から裏面10Tを観察する裏面透過観察によれば、上記各格子層でのプラズモン共鳴を経て透過した有色の光LP1が遮光層10とのプラズモン共鳴により一部反射或いは透過され、第1表示領域10Aで視認される。
結果として、裏面透過観察では、遮光層10と上記各格子層でのプラズモン共鳴を経て透過した有色の光の一部が遮断され、透かし効果を得ることができる。なお、上記表面反射観察や裏面透過観察の結果は、表面10Sに向けた外光の光量が、裏面10Tに向けた外光の光量よりも高い場合においても、同様の傾向を示す。
[裏面反射観察、表面透過観察]
図7が示すように、表示体の外側から支持部11aに入射する白色の光L1は、空気層から支持部11aに入り、支持部11aから遮光層10に入る。空気層よりも高い屈折率を有した遮光層10に入射した光L1は、支持部11aと遮光層10の界面で反射される。以上より、裏面反射観察においては、遮光層10により反射された光を、第1表示領域10Aで視認させる。
他方、表示体の外側から支持部11へ光L1を入射させて、表示体の表面側から表面10Sを観察する表面透過観察では、遮光層10と各格子層でのプラズモン共鳴を経た有色の光LP2が、第1表示領域10Aで視認される。なお、上記表面透過観察や裏面反射観察の結果は、裏面10Tに向けた外光の光量が、表面10Sに向けた外光の光量よりも高い場合においても、同様の傾向を示す。
[表示体の製造方法]
次に、表示体を製造する方法の一例を説明する。
まず、支持部11aの表面に、遮光層10を形成する。形成する方法は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法である。
続いて、遮光層10の表面に、中間層11bと第1誘電体層22と第1中間誘電体層32とを形成する。第1誘電体層22と第1中間誘電体層32とは、中間層11bの表面から突き出た突部として一体に形成される。突部を形成する方法は、例えば、光、あるいは、荷電粒子線を用いたフォトリソグラフィー法、ナノインプリント法、および、プラズマエッチング法である。
例えば、図3に示したように中間層11bと第1誘電体層22と第1中間誘電体層32とから構成される凹凸構造を有する表示体を製造する場合、まず、基材11aとして、ポリエチレンテレフタラートシートを用い、基材11aの表面に、遮光層10を形成する。次いで、遮光層10の表面に、紫外線硬化性樹脂を塗工する。続いて、紫外線硬化性樹脂からなる塗工膜の表面に、凹版である合成石英モールドの表面を押し当て、これらに紫外線を照射する。さらに、硬化した紫外線硬化性樹脂から合成石英モールドを離型する。これによって、遮光層10の表面の樹脂に凹版の有する凹凸が転写され、第1誘電体層22と第1中間誘電体層32とからなる突部および中間層11bが形成される。なお、紫外線硬化性樹脂は、熱硬化性樹脂に変更することも可能であり、紫外線の照射は、加熱に変更することも可能である。また、紫外線硬化性樹脂は、熱可塑性樹脂に変更することも可能であり、紫外線の照射は、加熱および冷却に変更することも可能である。
次いで、突部を備える中間層11bおよび、第1中間誘電体層32の表面に、第1金属層23、および、第2金属層42を形成する。第1金属層23、および、第2金属層42を形成する方法は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法である。これによって、第1金属層23の頂面によって区画される第1格子層21が形成され、第2金属層42の頂面によって区画される第2格子層41が形成され、これら第1格子層21と第2格子層41とに挟まれた中間格子層31が形成される。
以上、第1実施形態によれば、以下に列挙する効果が得られる。
(1)表面反射観察と裏面反射観察とにおいて別々の色彩を有した像を第1表示領域10Aで視認させられるため、表示体の表裏を判別することが可能となる。また、表示体の貼り付けられた物品に対して、それの真贋の判定を容易なものとすることや、表示体の貼り付けられた物品の意匠性を高めることが可能ともなる。
(2)表面反射観察と裏面透過観察とにおいても別々の色彩を有した像を第1表示領域10Aで視認させられるため、表裏の判断結果に対する精度を高めることが可能となる。また、裏面反射観察と表面透過観察とにおいても別々の色彩を有した像を第1表示領域10Aで視認させられるため、表裏の判断結果に対する精度を高めることが可能となる。
(3)構造周期PTの大きさが、可視領域の波長以下であるサブ波長周期であり、可視領域の光の一次回折光の形成を抑える大きさである。そのため、裏面反射観察、表面透過観察、裏面透過観察による像に、虹色が含まれることを抑えて、各観察による像の色彩を、より鮮明にすることが可能ともなる。
(4)遮光層10により、裏面透過観察において透かし効果を付与することが可能ともなる。
(5)第1誘電体層22と第1中間誘電体層32とが一体の構造体であり、また、第2中間誘電体層33と第2誘電体層43とが一体であるため、表示体の構造を簡素化することが可能ともなる。さらに、第2中間誘電体層33と第2誘電体層43とが一体の空気層である構成であれば、表示体の構造をさらに簡素化することが可能ともなる。
(6)表面反射観察と、裏面反射観察と、表面もしくは裏面での透過観察との各々において、第1表示領域10Aの色彩を固有のものとすることができる。それゆえに、表示体が付された物品に対して、それの真贋の判定における精度を高めることが可能ともなる。
<第1実施形態の変形例>
上記第1実施形態は、以下のように変更して実施することもできる。
[中間格子層31]
・第1中間誘電体層32と第2中間誘電体層33とは、各別の構造体に具体化できる。この際、第2中間誘電体層33は、第1中間誘電体層32の屈折率よりも空気層の屈折率に近い屈折率を有した樹脂層であることが好ましい。
・第2中間誘電体層33と第2誘電体層43とは、各別の構造体に具体化できる。この際、第2中間誘電体層33は、第2誘電体層43の屈折率よりも空気層の屈折率に近い屈折率を有した樹脂層であることが好ましい。
[保護層]
・表示体は、第2金属層42の上に保護層をさらに備えてもよい。この際、保護層と第2金属層42との界面におけるフレネル反射の強度、および、それに伴う表示体での波長の選択性が、保護層の屈折率によって変わる。そこで、保護層を構成する材料は、表示体に選択させる波長領域に基づき、適宜選択される。
なお、図8が示すように、保護層45は、第2誘電体層43、および、第2中間誘電体層33と一体の構造体に具体化できる。この際、保護層45は、低屈折率の樹脂層であることが好ましい。低屈折率の樹脂層は、中間層11bの屈折率や第1誘電体層22の屈折率や第1中間誘電体層32の屈折率よりも空気層の屈折率に近い屈折率を有する。
[その他の形態]
・表示体の表面10Sに対向する方向から見た孤立領域A2の配置は、正方配列および六方配列に限らず、周期性を有する配列であればよい。すなわち、複数の第1誘電体層22は周期的に並んでいればよく、また、複数の第1中間誘電体層32も周期的に並んでいればよく、また、複数の第2金属層42も周期的に並んでいればよい。換言すれば、周期構造体の周期要素は、サブ波長周期を有して並んでいればよい。周期構造体の周期要素が二次元格子状に配列している場合、構造周期PTに対する幅WTの比は、1つの方向での構造周期PTに対する幅WTの比であり、当該比が所定の範囲内であるとは、周期要素が並ぶ上記2つの方向の各々について、構造周期PTに対する幅WTの比が所定の範囲内であることを示す。
また、表示体の表面10Sに対向する方向から見た孤立領域A2の形状、すなわち、周期要素の平面形状は、正方形に限らず、長方形や他の多角形であってもよいし、円形であってもよい。
構造周期PTに対する第1誘電体層22の幅WTの比、および、構造周期PTに対する第2金属層42の幅WTの比は、0.25以上0.75以下とは異なる値であってもよい。また、遮光層10と中間層11bと第1格子層21と中間格子層31と第2格子層41との厚さの関係は、上記実施形態と異なってもよい。
(第2実施形態)
図9から図13を参照して表示体、および、表示体の製造方法の第2実施形態を説明する。以下では、第1実施形態と同様の構成については同じ符号を付してその説明を省略する。
[表示体の構造]
図9が示すように、表示体の第1表示領域10Aは、遮光層10、支持部11a、中間層11b、第1格子層21、中間格子層31、および、第2格子層41を備えている。支持部11a、中間層11b、第1格子層21、中間格子層31、第2格子層41は、遮光層10の表面からこの順に並んでいる。
支持部11aは、第1実施形態と同様の構成を有する。図9は、遮光層10が支持部11aと中間層11bとが接する面と反対側の面に形成された形態を示している。なお、中間層11bと第1誘電体層22が一体である構成においては、中間層11bを構成する材料の屈折率と、第1誘電体層22を構成する材料の屈折率とは近いほど好ましい。中間層11bおよび第1誘電体層22の各々の屈折率は、空気層よりも高く、例えば、1.2以上1.7以下である。
[第1格子層21]
第1格子層21は、複数の第1誘電体層22と、単一の第1金属層23とを備える。各第1誘電体層22は、表示体の表面10Sに対向する方向から見て、孤立領域A2に位置する。単一の第1金属層23は、表面10Sに対向する方向から見て、周辺領域A3に位置する。複数の第1誘電体層22は、表面10Sに沿って、周期的に島状配列に並ぶ。
各第1誘電体層22は、中間層11bから突き出ており、各第1誘電体層22と中間層11bとは一体である。表面10Sに対向する方向から見て、第1誘電体層22の位置する周期である構造周期PTは、可視領域の波長以下であるサブ波長周期である。第1金属層23は、表面10Sに対向する方向から見て、各第1誘電体層22を1つずつ囲う網目状を有する構造体である。第1格子層21において、第1金属層23は、構造的および光学的に海成分であり、各第1誘電体層22は構造的および光学的に島成分である。
[中間格子層31]
中間格子層31は、複数の第1中間誘電体層32と、単一の第2中間誘電体層34とを備える。各第1中間誘電体層32は、表面10Sに対向する方向から見て、孤立領域A2に位置する。単一の第2中間誘電体層34は、表面10Sに対向する方向から見て、周辺領域A3に位置する。複数の第1中間誘電体層32は、表面10Sに沿って、周期的に島状配列に並ぶ。
各第1中間誘電体層32は、第1誘電体層22から突き出た構造体である。各第1中間誘電体層32は、第1誘電体層22と一体であってもよいし、第1誘電体層22とは別体であってもよい。表面10Sに対向する方向から見て、第1中間誘電体層32の位置する周期は、構造周期PTである。第2中間誘電体層34は、表面10Sに対向する方向から見て、各第1中間誘電体層32を1つずつ囲う網目状を有する構造体である。第2中間誘電体層34は、第1金属層23とは別体である。中間格子層31において、第2中間誘電体層34は、構造的および光学的に海成分であり、各第1中間誘電体層32は、構造的および光学的に島成分である。
[第2格子層41]
第2格子層41は、複数の第2金属層42と、単一の第2誘電体層43とを備える。各第2金属層42は、表面10Sに対向する方向から見て、孤立領域A2に位置する。単一の第2誘電体層43は、表面10Sに対向する方向から見て、周辺領域A3に位置する。複数の第2金属層42は、表面10Sに沿って、周期的に島状配列に並ぶ。
各第2金属層42は、第1中間誘電体層32の頂面に重なる構造体である。各第2金属層42は、第1中間誘電体層32との間に境界を有し、第1中間誘電体層32とは別体である。表面10Sと対向する方向から見て、第2金属層42の位置する周期は、構造周期PTである。第2格子層41において、第2誘電体層43は、構造的および光学的に海成分であり、各第2金属層42は、構造的および光学的に島成分である。
図10が示すように、周辺領域A3においては、遮光層10に近い層から順に、支持部11a、中間層11b、第1格子層21、中間格子層31、および、第2格子層41とが位置する。
図11が示すように、第2表示領域10Bは、遮光層10の上に、上述した中間層11bと、第1格子層21、中間格子層31、および、第2格子層41を備えていない。すなわち、第2表示領域10Bは、遮光層10と支持部11aの備える光透過性に従って、可視領域の光を透過する。
[各格子層の材料]
第1誘電体層22および第1中間誘電体層32は、誘電体であり、例えば、光硬化性樹脂などの樹脂や、石英などの無機材料から構成される。第1誘電体層22および第1中間誘電体層32の各々の屈折率は、空気層よりも高く、例えば、1.2以上1.7以下である。
遮光層10は、可視波長帯を吸収する材料であることが好ましく、例えば、炭素系黒色顔料やチタン系黒色顔料などであることが好ましい。また、遮光層10は可視領域の波長における複素誘電率の実部が負の材料であることが好ましく、例えば、アルミニウム、銀、金、インジウム、タンタルなどであることが好ましい。
第1金属層23および第2金属層42を構成する材料は、可視領域の波長における複素誘電率の実部が負の値の材料であることが好ましく、例えば、アルミニウム、銀、金、インジウム、タンタルなどであることが好ましい。第1金属層23と第2金属層42とは、例えば、同一の材料から構成される。
[表示体の製造方法]
次に、第2実施形態の表示体を製造する方法の一例を説明する。
第1実施形態と異なり、遮光層10は支持部11aと中間層11bとが接する面と反対側の面に形成される。形成する方法は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法である。
次いで、第1誘電体層22、第1中間誘電体層32、第1金属層23、および、第2金属層42は、第1実施形態と同様に形成される。第1誘電体層22と第1中間誘電体層32とは、中間層11bの表面から突き出た突部として一体に形成される。
[表示体の光学的な構成および作用]
図12を参照して、第2実施形態の表示体における表面反射観察、裏面透過観察の光学的な構成および作用を説明する。
[表面反射観察、裏面透過観察]
図12が示すように、表示体の外側から第2格子層41に入射する白色の光L1は、空気層から第2格子層41に入り、第2格子層41から中間格子層31に入る。第2格子層41に入射する光L1は、空気層に近い屈折率を有した第2格子層41に空気層から入るため、空気層と第2格子層41との界面においては、フレネル反射を生じ難い。また、中間格子層31に入射する光は、空気層に近い屈折率を有した第2格子層41から、空気層に近い屈折率を有した中間格子層31に入るため、ここでも、第2格子層41と中間格子層31との界面においては、フレネル反射を生じ難い。
一方で、第2金属層42の構造周期PTが、可視領域の波長以下のサブ波長周期であるため、第2格子層41ではプラズモン共鳴が生じる。プラズモン共鳴は、第2格子層41に入射した光の一部と電子の集団的な振動とが結合する現象である。第2格子層41に入射した光L1の一部は、第2格子層41でのプラズモン共鳴によって表面プラズモンに変換され、表面プラズモンは第2格子層41を透過する。第2格子層41を透過した表面プラズモンは、光に再変換されて出射される。プラズモン共鳴に起因して第2格子層41が出射する光EP2の波長領域は、第2金属層42の構造周期PTを含む格子構造および材料に依存した特定の波長領域である。結果として、第2格子層41は、第2格子層41に入射した光の波長領域の一部の光を、中間格子層31へ透過する。
また、第1誘電体層22の構造周期PTも、可視領域の波長以下のサブ波長周期であるため、第1格子層21でもプラズモン共鳴が生じる。すなわち、第1格子層21に入射する光の一部もまた、第1格子層21でのプラズモン共鳴によって表面プラズモンに変換され、表面プラズモンは第1格子層21を透過し、光に再変換されて出射される。プラズモン共鳴に起因して第1格子層21が出射する光EP1の波長領域は、第1誘電体層22の構造周期PTを含む格子構造および材料に依存した特定の波長領域である。結果として、第1格子層21は、第1格子層21に入射した光の波長領域の一部の光を、中間層11bへ透過する。
さらに、中間層11bに入射した光の一部は支持部11aを透過し、遮光層10に入射する。プラズモン共鳴に起因した光として出射された光EP1と遮光層10は再びプラズモン共鳴を起こし、共鳴に起因した光のみが反射或いは透過される。
以上により、表示体の外側から第2格子層41へ光L1を入射させて、表示体の表面側から表面10Sを観察する表面反射観察によれば、上記各界面でのフレネル反射を生じ難いこと、上記各格子層でのプラズモン共鳴を生じること、これらが相まって、黒色、もしくは、黒色に近い色彩が、第1表示領域10Aで視認される。
他方、表示体の外側から第2格子層41へ光L1を入射させて、表示体の裏面側から裏面10Tを観察する裏面透過観察によれば、上記各格子層でのプラズモン共鳴を経て透過した有色の光LP1が遮光層10とのプラズモン共鳴により一部反射或いは透過され、第1表示領域10Aで視認される。
結果として、裏面透過観察では、遮光層10により上記各格子層でのプラズモン共鳴を経て透過した有色の光の一部が遮断され、透かし効果を得ることができる。なお、上記表面反射観察や裏面透過観察の結果は、表面10Sに向けた外光の光量が、裏面10Tに向けた外光の光量よりも高い場合においても、同様の傾向を示す。
[裏面反射観察、表面透過観察]
図13が示すように、表示体の外側から遮光層10に入射する白色の光L1は、空気層から遮光層10に入る。空気層よりも高い屈折率を有した遮光層10に入射した光L1は、支持部11aと遮光層10の界面で反射される。以上より、裏面反射観察においては、遮光層10により反射された光を、第1表示領域10Aで視認させる。
他方、表示体の外側から支持部11へ光L1を入射させて、表示体の表面側から表面10Sを観察する表面透過観察では、遮光層10と各格子層でのプラズモン共鳴を経た有色の光LP2が、第1表示領域10Aで視認される。なお、上記表面透過観察や裏面反射観察の結果は、裏面10Tに向けた外光の光量が、表面10Sに向けた外光の光量よりも高い場合においても、同様の傾向を示す。
以上、第2実施形態によれば、第1実施形態の(1)〜(6)の効果に加えて、以下に列挙する効果が得られる。
(7)支持部11aが中間層11bと接しない支持部11aの一面に遮光層10を備えているため、金属層42または金属層23と遮光層10との間で生じるフレネル反射が抑えられる。その結果、表面反射観察において観察される色彩が鮮明になる。
<第2実施形態の変形例>
上記第2実施形態は、以下のように変更して実施することもできる。
[保護層]
・第2実施形態においても、第1実施形態と同様に、第2金属層42の上に保護層をさらに備えてもよい。この際、保護層と第2金属層42との界面におけるフレネル反射の強度、および、それに伴う表示体での波長の選択性が、保護層の屈折率によって変わる。そこで、保護層を構成する材料は、表示体に選択させる波長領域に基づき、適宜選択される。
なお、図14が示すように、保護層45は、第2誘電体層43、および、第2中間誘電体層33と一体の構造体に具体化できる。この際、保護層45は、低屈折率の樹脂層であることが好ましい。低屈折率の樹脂層は、中間層11bの屈折率や第1誘電体層22の屈折率や第1中間誘電体層32の屈折率よりも空気層の屈折率に近い屈折率を有する。
図15が示すように、孤立領域A2には、中間層11bの表面から窪む凹部11Hが位置してもよい。表示体の表面10Sと対向する方向から見て、複数の凹部11Hは、サブ波長周期を有した二次元格子状に並ぶ。こうした構成においては、中間層11bが周期構造体である。すなわち、周期構造体が有する周期要素は、中間層11bの表面を基準面として、基準面から窪む凹部11Hであってもよい。この場合も、金属層61は、周期構造体の表面形状に追従する形状を有し、誘電体層62は、金属層61の表面形状に追従する形状を有する。そして、各凹部11Hの開口部を囲う網目状に第1金属層23が位置し、各凹部11Hの底面に、第2金属層42が位置する。第1金属層23の上に網目状の誘電体層71が位置し、第2金属層42の上に、二次元格子状に並ぶ誘電体層72が位置する。この際、各第2金属層42と、中間層11bのなかで各第2金属層42を囲う網目状の部分とによって、金属と誘電体とからなる格子構造が形成される。また、第2金属層42上に位置する誘電体層72と、第1金属層23とによっても、金属と誘電体からなる格子構造が形成される。さらに、遮光層10は支持部11aと中間層11bの間、あるいは、支持部11aにおける基準面とは反対側の面に位置する。
表示体に光が照射されると、これらの格子構造を有する層にてプラズモン共鳴が生じる。プラズモン共鳴にて生じた光と遮光層10は再びプラズモン共鳴を起こし、上記実施形態と同様に、第1表示領域10Aにおいて、表面反射観察で視認される色彩が鮮明になる。また、裏面透過観察では透かし効果を得ることができ、表面反射観察と裏面透過観察とで異なる色彩が視認される。さらに、裏面反射観察では遮光層10にて反射された像が視認される。表面透過観察では、遮光層10と各格子構造でのプラズモン共鳴を経た有色の像が視認され、裏面反射観察と表面透過観察で異なる色彩が視認される。
なお、周期要素が凹部11Hである場合も、基準面と周期要素とを含む平面において、単位面積あたりにおいて周期要素が占める面積の割合は、0.1よりも大きく0.5よりも小さいことが好ましい。上記面積の割合が上記範囲内であれば、金属層61および誘電体層62が、周期構造体の表面の凹凸形状に追従した形状に形成されやすい。また、上記面積の割合が上記範囲内であれば、周期構造体の耐久性が高められるとともに、凹部11Hの加工の精度が得られやすい。なお、第1実施形態の表示体においても、周期要素は、基準面から窪む凹部11Hであってもよい。
上述した発色構造体およびその製造方法について、具体的な実施例を用いて説明する。
まず、光ナノインプリント法で用いる凹版であるモールドを用意した。具体的には、合成石英基板の表面に、クロム(Cr)からなる膜をスパッタリングによって10nmの厚さに成膜し、電子線リソグラフィによって電子線レジストパターンをCr膜上に形成した。使用したレジストはポジ型であり、膜厚は150nmとした。形成したパターンは、一辺が1cmである正方形形状の領域内に、一辺が160nmである正方形を、構造周期PTが320nmの六方配列に配置したパターンであり、電子線を描画した領域は上記正方形の内側領域である。
次に、塩素と酸素との混合ガスに高周波を印加して発生させたプラズマにより、レジストから露出した領域のCr膜をエッチングした。続いて、六弗化エタンガスに高周波を印加して発生させたプラズマにより、レジストおよびCr膜から露出した領域の合成石英基板をエッチングした。これによりエッチングした合成石英基板の深さは100nmであった。残存したレジストおよびCr膜を除去し、凹凸構造が形成されたモールドを得た。モールドの表面には、離型剤としてオプツールHD−1100(ダイキン工業製)を塗布した。
次に、構造発色体の基材となる、片面に易接着処理が施されたポリエチレンテレフタラートフィルムの片面に真空蒸着法を用いて、アルミニウム(Al)からなる膜を25nmの厚さに成膜することにより遮光層を得た。
次に、上述したモールドのパターンが形成された面である表面に紫外線硬化性樹脂を塗工した。上記の片面に遮光層を形成したポリエチレンテレフタラートフィルムを用い、遮光層を形成した面でモールドの表面を覆った。さらに、モールドにおけるパターンの形成された領域の全体に紫外線硬化性樹脂が広がるように、ローラーを用いて紫外線硬化性樹脂を延ばし、紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂を硬化した後、モールドからポリエチレンテレフタラートフィルムを剥離した。これにより、六方配列に並ぶ凸部のパターンが紫外線硬化性樹脂の表面に形成され、この紫外線硬化性樹脂からなる層とアルミニウム(Al)からなる遮光層とポリエチレンテレフタラートフィルムである基材との積層体である周期構造体を得た。硬化後の紫外線硬化性樹脂の屈折率は1.52であった。
次に、上記周期構造体の表面に真空蒸着法を用いてアルミニウム(Al)からなる膜を25nmの厚さに成膜することにより、金属層を形成した。これにより、実施例の表示体を得た。実施例の表示体は、第1実施形態の表示体に相当する。基材に対して誘電体層の位置する側が表示体の表面側であり、誘電体層に対して基材の位置する側が表示体の裏面側である。
実施例の表示体に対し白色の光を照射して観察したところ、凸部のパターンが形成されている領域においては、表面反射観察によって黒色に近い緑色が観察され、裏面反射観察によってアルミニウム(Al)からなる膜の金属反射色が観察され、表面透過観察および裏面透過観察によって黄色から黄緑色が観察された。また、凸部のパターンが形成されていない領域では、アルミニウムからなる金属層からの反射光として、金属光沢を有する色が観察された。
本発明は、偽造防止や意匠性向上のために用いる表示体に利用できる。
A2…孤立領域、A3…周辺領域、L1,EP1,EP2,LR,LP1,LP2…光、LT…正方形、PT…構造周期、WT…幅、WP…最短幅、10A…第1表示領域、10B…第2表示領域、10S…表面、10T…裏面、11a…支持部、11b…中間層、11T…凸部、11H…凹部、21…第1格子層、22…第1誘電体層、23…第1金属層、31…中間格子層、32…第1中間誘電体層、33…第2中間誘電体層、41…第2格子層、42…第2金属層、43…第2誘電体層、45…保護層、61…金属層、62…誘電体層

Claims (12)

  1. 基準面を有する支持部と、前記基準面においてサブ波長周期を有した二次元格子状に並ぶ複数の周期要素であって、前記基準面から突出する凸部、もしくは、基準面から窪む凹部のいずれかである前記周期要素を備える誘電体である周期構造体と、
    前記基準面のうち前記周期要素を囲む領域と、前記周期要素の表面とを含む面である前記周期構造体の表面とに位置し、前記周期構造体の表面形状に追従する形状を有した金属層と、を備え、
    前記基準面上に、
    10nm以上200nm以下の厚さを有した第1格子層と、
    前記第1格子層よりも上層に設けられ、10nm以上200nm以下の厚さを有した第2格子層と、
    前記第1格子層および前記第2格子層よりも厚い中間格子層であって、厚さ方向に前記第1格子層と前記第2格子層とに挟まれた前記中間格子層と、を含み、
    前記支持部の前記基準面と前記第1格子層の間、或いは、前記支持部における前記基準面とは反対側の面に遮光層を備え、
    前記第1格子層は、周期的に島状配列に並ぶ複数の第1誘電体層と、各第1誘電体層を囲う網目状を有した第1金属層と、を備え、
    前記中間格子層は、周期的に島状配列に並ぶ複数の第1中間誘電体層と、各第1中間誘電体層を囲う網目状を有し、かつ、前記第1中間誘電体層よりも低い誘電率を有した第2中間誘電体層と、を備え、
    前記第2格子層は、周期的に島状配列に並ぶ複数の第2金属層と、各第2金属層を囲う網目状を有した第2誘電体層と、を備え、
    前記周期要素は、前記第1誘電体層と前記第1中間誘電体層とで構成され、前記第1金属層と前記第2金属層とが前記金属層に含まれる、表示体。
  2. 前記第1格子層における前記第1金属層の体積比率が、前記第2格子層における前記第2金属層の体積比率よりも大きく、かつ、前記第2格子層における前記第2金属層の体積比率が、前記中間格子層における金属材料の体積比率よりも大きく、
    前記第1誘電体層の構造周期に対する前記第1誘電体層の幅の比、および、前記第2金属層の構造周期に対する前記第2金属層の幅の比が、0.25以上0.75以下であり、
    前記第1金属層、および、前記第2金属層は、可視領域の光に対する複素誘電率の実部が負の値を有する材料から成る、請求項1に記載の表示体。
  3. 前記遮光層が、可視光波長を吸収する材料から成る、請求項1または2に記載の表示体。
  4. 前記遮光層が、可視領域の光に対する複素誘電率の実部が負の値を有する金属材料から成ることを特徴とする、請求項1または2に記載の表示体。
  5. 前記第1誘電体層の構造周期に対する前記第1誘電体層の幅の比、および、前記第2金属層の構造周期に対する前記第2金属層の幅の比が、0.40以上0.60以下である、請求項1〜4のいずれかに一項に記載の表示体。
  6. 前記第1格子層の厚さは、100nm以下であり、
    前記第2格子層の厚さは、100nm以下であり、
    前記中間格子層の厚さは、150nm以下である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の表示体。
  7. 前記第1格子層と前記支持部が同一の材料から構成され、
    前記第1格子層と前記支持部の合計の厚さは、50nm以上500nm以下である、請求項1〜6のいずれか一項に記載の表示体。
  8. 遮光層が前記第1金属層及び前記第2金属層と同一の材料で構成され、
    前記第2誘電体層は、空気層であり、
    前記第1誘電体層の屈折率と前記第1金属層の屈折率との差は、前記第2誘電体層の屈折率と前記第2金属層の屈折率との差よりも大きい、請求項1〜7のいずれか一項に記載の表示体。
  9. 前記第1誘電体層と前記第1中間誘電体層とが一体の構造体であり、
    前記第2中間誘電体層と前記第2誘電体層とが一体の構造体である、請求項1〜8のいずれか一項に記載の表示体。
  10. 前記金属層における前記周期構造体と接する面とは反対側の面に位置し、前記金属層の表面形状に追従する形状を有した誘電体層を備える、請求項1〜9のいずれか一項に記載の表示体。
  11. 基準面を有する支持部の前記基準面上、或いは、前記支持部における前記基準面とは反対側の面に遮光層を形成する第1工程と、
    前記遮光層が形成された前記支持部の前記基準面側の面に、樹脂により、前記基準面に対向する方向から見て凸部である周期要素が、サブ波長周期を有した二次元格子状に位置する周期構造体を形成する第2工程と、
    前記周期構造体の表面形状に追従する形状を有した金属層を前記周期構造体の上に形成する第3工程と、を含む表示体の製造方法。
  12. 前記金属層を覆う誘電体層を形成する第4工程を含む、請求項11に記載の表示体の製造方法。
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