JP2020024242A - 光源モジュール - Google Patents

光源モジュール Download PDF

Info

Publication number
JP2020024242A
JP2020024242A JP2018147408A JP2018147408A JP2020024242A JP 2020024242 A JP2020024242 A JP 2020024242A JP 2018147408 A JP2018147408 A JP 2018147408A JP 2018147408 A JP2018147408 A JP 2018147408A JP 2020024242 A JP2020024242 A JP 2020024242A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens
laser
parallel light
light
lenses
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018147408A
Other languages
English (en)
Other versions
JP7070215B2 (ja
Inventor
直樹 若林
Naoki Wakabayashi
直樹 若林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP2018147408A priority Critical patent/JP7070215B2/ja
Priority to CN201910718139.2A priority patent/CN110806621B/zh
Priority to US16/531,820 priority patent/US11187912B2/en
Publication of JP2020024242A publication Critical patent/JP2020024242A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7070215B2 publication Critical patent/JP7070215B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/095Refractive optical elements
    • G02B27/0955Lenses
    • G02B27/0966Cylindrical lenses
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/42Coupling light guides with opto-electronic elements
    • G02B6/4201Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
    • G02B6/4204Packages, e.g. shape, construction, internal or external details the coupling comprising intermediate optical elements, e.g. lenses, holograms
    • G02B6/4206Optical features
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B19/00Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
    • G02B19/0033Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
    • G02B19/0095Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with ultraviolet radiation
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/26Optical coupling means
    • G02B6/32Optical coupling means having lens focusing means positioned between opposed fibre ends
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/005Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • H01S5/0071Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping for beam steering, e.g. using a mirror outside the cavity to change the beam direction
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/0225Out-coupling of light
    • H01S5/02251Out-coupling of light using optical fibres
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/0225Out-coupling of light
    • H01S5/02253Out-coupling of light using lenses
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4012Beam combining, e.g. by the use of fibres, gratings, polarisers, prisms
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/005Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
    • H01S5/4087Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar emitting more than one wavelength

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

【課題】可視光ダイレクトダイオードレーザの出力変動を小さくすることができる光源モジュールを提供する。【解決手段】互いに異なる複数の波長を有する複数のレーザ光を出力する複数のレーザ光源1a〜1cと、複数のレーザ光源に対向して配置され、複数のレーザ光源からのレーザ光を平行光に変換する複数の平行光レンズ21と、複数の平行光レンズで平行光にされた複数のレーザ光を縮小させる縮小光学系3と、縮小光学系で縮小された複数のレーザ光を集光してファイバ5に結合する集光レンズ4とを備え、複数の平行光レンズは、ファイバの出力変動を所定値以下に抑制するように、平行光レンズの焦点距離と縮小光学系の縮小倍率と集光レンズの焦点距離とに基づく横倍率αの値と、複数のレーザ光源の波長の変化量Δλの値とに応じて、複数の波長に対する平行光レンズでの複数の屈折率に基づくアッベ数vdが設定されている。【選択図】図4

Description

本発明は、複数の光源からの光を合波する場合に、光源の温度変動および波長変動を抑制した光学系を備えた光源モジュールに関する。
ダイレクトダイオードレーザは、複数の半導体レーザの複数のレーザ光を一つのファイバにレンズを用いて合波することで高出力化したレーザである(特許文献1)。従来のダイレクトダイオードレーザは、波長が赤外域の0.8μm以上の半導体レーザを用いるのが一般的である。近年、可視域、特に青色の半導体レーザの高出力化が進み、可視光ダイレクトダイオードレーザの開発が行われている。
ダイレクトダイオードレーザでは、図10に示すように、複数の半導体レーザ1a〜1cからのビームをコリメートレンズ2a〜2cで平行光に変換し、縮小光学系3を通過した後、集光レンズ4でファイバ5に集光・合波する。
半導体レーザは、電流が流れると、温度が上昇してレーザの中心波長は、図11に示すように、長波長側にシフトする。一般に、レンズは、図12に示すように、波長に対して屈折率が異なる。このため、半導体レーザの長波長シフトが起きると、特にコリメートレンズにおいて色収差が発生し、図13に示すように、集光レンズを通過した後のビームの集光位置が変化してしまう。この色収差により、ファイバ結合率が変化するため、ファイバからの出力が温度・波長変動とともに変化してしまう。
従来の赤外レーザでは、波長に対してレンズの屈折率変化が小さい。例えば、図12では、波長が0.8μm以上であるため,色収差によるファイバ結合率の変化は小さい。
特開2005−114977号公報
しかしながら、可視から紫外(0.3μm〜0.55μm)での半導体レーザでは、レンズの波長に対する屈折率変化が大きい、即ちレンズの波長分散が大きいため、従来使用するレンズでは、色収差の効果が無視できない。
図14に半導体レーザの波長シフトに対して、ファイバ出力の変動を計算した例を示す。図14から、波長が長くなると、出力変動が大きくなることがわかる。また、vdはコリメートレンズのアッベ数で、一般にvdの値が50以上のレンズは、低分散レンズであり、アッべ数vdの値が50以下のレンズは、高分散レンズとなる。図14ではアッべ数vdが小さくなる、即ちレンズの波長分散が大きくなると、出力変動が増えることがわかる。なお、アッべ数vdは下記の式で表される。
vd=(Nd−1)/(NF−NC)
Ndは波長0.5875618μmでの屈折率、NFは波長0.4861327μmでの屈折率、NCは波長0.6562725μmでの屈折率である。各波長は、複数の半導体レーザの波長である。
本発明の課題は、可視光ダイレクトダイオードレーザの出力変動を小さくすることができる光源モジュールを提供する。
本発明に係る光源モジュールの請求項1は、互いに異なる複数の波長を有する複数のレーザ光を出力する複数のレーザ光源と、前記複数のレーザ光源に対向して配置され、前記複数のレーザ光源からのレーザ光を平行光に変換する複数の平行光レンズと、前記複数の平行光レンズで平行光にされた複数のレーザ光を縮小させる縮小光学系と、前記縮小光学系で縮小された複数のレーザ光を集光してファイバに結合する集光レンズとを備え、前記複数の平行光レンズは、前記ファイバの出力変動を所定値以下に抑制するように、前記平行光レンズの焦点距離と前記縮小光学系の縮小倍率と前記集光レンズの焦点距離とに基づく横倍率αの値と、前記複数のレーザ光源の波長の変化量Δλ〔μm〕の値とに応じて、前記複数の波長に対する前記平行光レンズでの複数の屈折率に基づくアッベ数vdを変えたレンズからなることを特徴とする。なお、縮小光学系は、凸レンズと凹レンズとの組み合わせ以外にも、アナモルフィックプリズム等を用いてもよい。
請求項2では、前記複数のレーザ光源の各々は、波長が0.3μm〜0.55μmの半導体レーザからなることを特徴とする。
請求項3では、前記複数の平行光レンズは、コリメートレンズからなることを特徴とする。
請求項4は、互いに異なる複数の波長を有する複数のレーザ光を出力する複数のレーザ光源と、前記複数のレーザ光源に対向して配置され、前記複数のレーザ光源からのレーザ光を平行光に変換する複数の平行光レンズと、前記複数の平行光レンズで変換された複数のレーザ光を集光してファイバに結合する集光レンズとを備え、前記複数の平行光レンズは、複数のコリメートレンズからなり、前記ファイバの出力変動を所定値以下に抑制するように、前記コリメートレンズの焦点距離と前記集光レンズの焦点距離とに基づく横倍率αの値と、前記複数のレーザ光源の波長の変化量Δλ〔μm〕の値とに応じて、前記複数の波長に対する前記コリメートレンズでの複数の屈折率に基づくアッベ数vdを変えたレンズからなることを特徴とする。
請求項5では、前記複数の平行光レンズは、前記複数のレーザ光源から出射されたファスト方向のビームを平行光にするファスト軸コリメートレンズとスロー方向のビームを平行光にするスロー軸コリメートレンズからなることを特徴とする。
請求項6では、互いに異なる複数の波長を有する複数のレーザ光を出力する複数のレーザ光源と、前記複数のレーザ光源に対向して配置され、前記複数のレーザ光源からのレーザ光を平行光に変換する複数の平行光レンズと、前記複数の平行光レンズで変換された複数のレーザ光を集光してファイバに結合する集光レンズとを備え、前記複数の平行光レンズは、前記ファイバの出力変動を所定値以下に抑制するように、前記平行光レンズの焦点距離と前記集光レンズの焦点距離とに基づく横倍率αの値と、前記複数のレーザ光源の波長の変化量Δλ〔μm〕の値とに応じて、前記複数の波長に対する前記平行光レンズでの複数の屈折率に基づくアッベ数vdを変えたレンズで且つ、前記複数のレーザ光源から出射されたファスト方向のビームを平行光にするファスト軸コリメートレンズとスロー方向のビームを平行光にするスロー軸コリメートレンズからなることを特徴とする。
請求項7では、前記複数の平行光レンズは、Δλ>1.5×10−3μmのとき、vd>138.55×α/d−5.6354、1.0×10−3μm<Δλ≦1.5×10−3μmのとき、vd>96.44×α/d−3.3878、0.75×10−3μm<Δλ≦1.0×10−3μmのとき、vd>76.22×α/d−4.007、0<Δλ≦0.5×10−3μmのとき、vd>66.19×α/d−11.823とすることを特徴とする。
請求項8は、請求項1乃至請求項7のいずれか1項記載の光源モジュールを光源モジュールユニットとして複数備え、前記複数の光源モジュールユニットに対向して配置され、前記複数の光源モジュールユニットからの複数のレーザ光を平行光に変換する複数の第2の平行光レンズと、変換された複数のレーザ光を集光して第2のファイバに結合する第2の集光レンズとを備えることを特徴とする。
請求項9では、前記複数の第2の平行光レンズは、前記第2のファイバの出力変動を所定値以下に抑制するように、前記第2の平行光レンズの焦点距離と前記第2の集光レンズの焦点距離とに基づく横倍率αの値と、前記複数のレーザ光源の波長の変化量Δλの値とに応じて、前記複数の波長に対する前記第2の平行光レンズでの複数の屈折率に基づく第2のアッベ数vdが設定されていることを特徴とする。
本発明によれば、複数の平行光レンズは、ファイバの出力変動を所定値以下に抑制するように、平行光レンズの焦点距離と縮小光学系の縮小倍率と集光レンズの焦点距離とに基づく横倍率αの値と、複数のレーザ光源の波長の変化量Δλの値とに応じて、複数の波長に対する平行光レンズでの複数の屈折率に基づくアッベ数vdが設定されているので、可視光ダイレクトダイオードレーザの出力変動を小さくすることができる。
半導体レーザからのビームの拡がりの様子を示す図で、(a)はファスト方向の拡がりを示し、(b)はスロー方向の拡がりを示す。 本発明の実施例1の光源モジュールの構成図で、FACレンズとSACレンズとを用いた場合のビームのファイバ結合を示し、(a)はファスト方向を示す図、(b)はスロー方向を示す図である。 本発明の実施例1の第1の変形例の光源モジュールの構成図で、単一のコリメートレンズを用いた場合のビームのファイバ結合を示し、(a)はファスト方向を示す図、(b)はスロー方向を示す図である。 本発明の実施例1の第2の変形例の光源モジュールの構成図で、ファスト方向に対して配置された複数の半導体レーザからのビームのファイバ結合を示す図である。 ファイバコア径dが100μmでエミッタサイズwfが0.9μmの場合にコリメートレンズのアッベ数とファスト方向の横倍率αに対して、ファイバ出力変動が5%となる場合のグラフである。 ファイバコア径dが100μmでエミッタサイズwfが0.9μmの場合にコリメートレンズのアッベ数とファスト方向の横倍率αに対して、ファイバ出力変動が5%以下となる領域を示す図である。 ファイバコア径dが100μmでエミッタサイズwfが0.9μmの場合にコリメートレンズのアッベ数とファスト方向の横倍率αに対して、ファイバ出力変動が5%となる場合のグラフである。 コリメートレンズのアッベ数と横倍率αをファイバコアで規格化した値に対して、ファイバ出力変動が5%となる場合のグラフである。 本発明の実施例2の光源モジュールの構成図である。 従来のダイレクトダイオードレーザの構成を示す図である。 半導体レーザの温度に対する中心波長のシフトを示す図である。 硝子の波長に対する屈折率分散の一例を示す図である。 半導体レーザの短波長から長波長へのシフトによる集光位置のずれを示す図である。 半導体レーザの波長シフトに伴うファイバ出力の変動の計算例を示す図である。
(実施例1)
図1は、半導体レーザからのビームの拡がりの様子を示す図で、(a)はファスト方向の拡がりを示し、(b)はスロー方向の拡がりを示す。ファスト方向は、スロー方向に対して、広がり角が大きいことがわかる。
図2は、本発明の実施例1の光源モジュールの構成図で、FAC(Fast Axis Collimators)レンズとSAC(Slow Axis Collimators)レンズとを用いた場合のビームのファイバ結合を示す。光源モジュールは、半導体レーザ1、FACレンズ21、SACレンズ22、凸レンズ3a、凹レンズ3b、集光レンズ4、ファイバ5を備える。凸レンズ3aと凹レンズ3bは、縮小光学系3を構成する。
図2(a)はファスト方向に対して、半導体レーザ1からのビームをファイバ5に結合する光学系を示す。FACレンズ21は、半導体レーザ1からのビームのファスト方向を平行光にする。縮小光学系3は、FACレンズ21からのビームを縮小する。集光レンズ4は、縮小光学系3からのビームを集光してファイバ5に結合する。
図2(b)では、スロー方向に対して、半導体レーザ1からのビームをファイバ5に結合する光学系を示す。SACレンズ22は、半導体レーザ1からのビームをスロー方向に対して平行光にし、集光レンズ4はビームを集光してファイバ5に結合する。図2ではビームをファスト軸方向、スロー軸方向、別々のレンズで平行光にしたが、図3に示すように、単一のコリメートレンズ25で半導体レーザ1からのビームを平行光にし、ファイバ5に結合することもできる。
ダイレクトダイオードレーザは、一般にファスト方向、スロー方向に複数の半導体レーザからのビームをファイバに結合することで高出力化する。例えば、図4はファスト方向に3個の半導体レーザ1a〜1cと3個のFACレンズ21又は3個のコリメートレンズ25を配置し、ファイバ5に結合した場合を示す。
半導体レーザ1a〜1cは、本発明の複数のレーザ光源に対応し、複数のレーザ光を出射する。半導体レーザ1a〜1cの各々は、波長が0.3μm〜0.55μmの半導体レーザからなる。3個のFACレンズ21又は3個のコリメートレンズ25は、複数の半導体レーザ1a〜1cに対向して配置され、複数の半導体レーザ1a〜1cからの複数のレーザ光を平行光にする。集光レンズ4は、凹レンズ3bで縮小された複数のレーザ光を集光してファイバ5に結合する。
図3(a)では、半導体レーザ1a〜1cの波長が長波長にシフトした場合の集光位置のずれを示した。短波長のビームに対し、半導体レーザ1a〜1cの波長が長くなると、Δl分だけ、集光位置がずれる。一般にΔlは、横倍率αの2乗に比例し、

Figure 2020024242
となる。図3(a)の光学系では、コリメートレンズ25又はFACレンズ21の焦点距離をFf、縮小光学系3の縮小倍率をF1/F2、 集光レンズ4の焦点距離をF3とすると、

Figure 2020024242
となる。
ここで、A(≧1)は、ビームの集光位置での収差によるビームの広がりを表す係数で、A=1の場合は理想的な無収差の光学系を表す。(1)式からレンズの横倍率αが大きいほど、色収差による集光位置の変化が大きくなることがわかる。
半導体レーザ1a〜1cの波長の変化よりコリメートレンズ25の屈折率が変化した場合、集光レンズ4の焦点距離Ffの変化量δFfは一般に

Figure 2020024242
となる。(3)式から、アッベ数vdが大きいとFfの変化量が小さくなる。Ffの変化量が小さいと、(1)(2)式からΔlの変化量が小さくなることがわかる。従って、色収差によるΔlを小さくするためには、アッベ数vdの大きなコリメートレンズ25を用いる必要がある。
Δlが変化するとファイバへのビームの結合効率が変化し、ファイバ出力が変動する。このため、ファイバ出力変動を小さくするためには、コリメートレンズ25のアッベ数vdを大きくする必要がある。
ファイバコア径d=100μm、ファストエミッタサイズwf=0.9μmとし、各横倍率αに対して、ファイバ出力が小さくなるアッベ数vdを計算により求めた。図5は0.448μmの半導体レーザの波長を+1.00nm長波長シフトした場合に、ファイバ出力の変動が5%となるアッベ数vdと横倍率αの関係を示すグラフである。
例えば、横倍率α =64.8、アッベ数vd=62.1としたときに、ファイバ出力が100Wであるとする。このとき、半導体レーザの波長が0.448μmから0.449μmにシフトすると、ファイバ出力が100Wから95Wに低下する(5%変動する)ことを示す。ファイバ出力変動を5%以下にするためには、図6の網部で示す領域のアッベ数vdをもつコリメートレンズ25を用いればよい。従って、
vd>0.9644×α −3.3878
を満たすアッベ数vdをもつコリメートレンズ25を用いる必要がある。なおコリメートレンズ25は、FACレンズ21又は単レンズのどちらでもよい。
図7は図5のΔλ=+1.00nmに加えて、+0.5nm、+0.75nm、+1.5nmの場合に、ファイバ出力変動が5%となるアッベ数vdとαの関係を計算したグラフである。
Δλが大きくなるにつれて、vd/αの傾きが大きくなり、ファイバ出力変動を小さくするために、アッベ数vdの大きいレンズを使用する必要がある。
レーザ加工用に用いる青(0.448μm)のダイレクトダイオードレーザでは、ファイバ5の出力変動がおよそ5%以下であることが求められる。従って、出力変動を5%以下に抑制するためには、半導体レーザの波長変動Δλと横倍率αに対して、図6のグラフを用いてアッベ数vdを決定する必要がある。以下に、グラフから求めたアッベ数vdの使用可能範囲を示す。
(1) Δλ>1.5×10−3μmのとき、コリメートレンズ25のアッベ数をvd>1.3855×α−5.6354とする。
(2)1.0×10−3μm<Δλ≦1.5×10−3μmのとき、コリメートレンズ25のアッベ数をvd>0.9644×α−3.3878とする。
(3)0.75×10−3μm<Δλ≦1.0×10−3μmのとき、コリメートレンズ25のアッベ数をvd>0.7622×α−4.007とする。
(4)0<Δλ≦0.5×10−3μmのとき、コリメートレンズ25のアッベ数をvd>0.6619×α−11.823とする。
図7は径d=100μm、ファストエミッタサイズwf=0.9μmとした場合に計算したグラフであるが、一般にファイバコア径は、使用する半導体レーザのエミッタサイズや個数により決定される。
そこで、ファイバコア径dの大きさで、図7の値を規格化すると、図8に示すようになる。ここでα×ws<d、α×wf<dとし、グラフから求めたアッベ数vdの使用可能範囲(ファイバ出力変動が5%以下)は以下のようになる。
(1)Δλ>1.5×10−3μmのとき、コリメートレンズ25のアッベ数をvd>138.55×α/d−5.6354とする。
(2)1.0×10−3μm<Δλ≦1.5×10−3μmのとき、コリメートレンズ25のアッベ数をvd>96.44×α/d−3.3878とする。
(3)0.75×10−3μm<Δλ≦1.0×10−3μmのとき、コリメートレンズ25のアッベ数をvd>76.22×α/d−4.007とする。
(4)0<Δλ≦0.5×10−3μmのとき、コリメートレンズ25のアッベ数をvd>66.19×α/d−11.823とする。
このように実施例1の光源モジュールによれば、ファイバ5の出力変動を所定値(5%)以下に抑制するように、コリメートレンズ25又はFACレンズ21又はSACレンズ22は、そのレンズ21,22,25の焦点距離と縮小光学系3の縮小倍率と集光レンズ4の焦点距離とに基づく横倍率αの値と、複数の半導体レーザ1a〜1cの波長の変化量Δλの値とに応じて、複数の波長に対するレンズ21,22,25での複数の屈折率に基づくアッベ数vdが設定されているので、可視光ダイレクトダイオードレーザの出力変動を小さくすることができる。
また、Δλ>1.5×10−3μmのとき、コリメートレンズ25のアッベ数をvd>138.55×α/d−5.6354とし、1.0×10−3μm<Δλ≦1.5×10−3μmのとき、コリメートレンズ25のアッベ数をvd>96.44×α/d−3.3878とし、0.75×10−3μm<Δλ≦1.0×10−3μmのとき、コリメートレンズ25のアッベ数をvd>76.22×α/d−4.007とし、0<Δλ≦0.5×10−3μmのとき、コリメートレンズ25のアッベ数をvd>66.19×α/d−11.823に設定することで、ファイバ出力変動を5%以下に抑制することができる。
なお、実施例1の図2〜図4において、縮小光学系3を設けない実施例でも本発明は適用できる。
例えば、図3又は図4に示す構成に対して、縮小光学系3を設けず且つコリメートレンズ25を用いた場合には、コリメートレンズ25は、ファイバの出力変動を所定値以下に抑制するように、コリメートレンズ25の焦点距離と集光レンズ4の焦点距離とに基づく横倍率αの値と、半導体レーザ1の波長の変化量Δλの値とに応じて、複数の波長に対するコリメートレンズ25での複数の屈折率に基づく第2のアッベ数vdを変えたレンズを用いる。
このように、縮小光学系3を設けない場合でも、コリメートレンズ25のアッベ数vdを上述したように設定することで、ファイバ出力変動を5%以下に抑制することができる。
また、図2又は図4に示す構成に対して、縮小光学系3を設けず且つFACレンズ23とSACレンズ24を用いた場合には、FACレンズ23とSACレンズ24は、ファイバの出力変動を所定値以下に抑制するように、FACレンズ23とSACレンズ24の焦点距離と集光レンズ4の焦点距離とに基づく横倍率αの値と、半導体レーザ1の波長の変化量Δλの値とに応じて、複数の波長に対するFACレンズ23とSACレンズ24での複数の屈折率に基づく第2のアッベ数vdを変えたレンズを用いる。
このように、縮小光学系3を設けない場合でも、FACレンズ23とSACレンズ24のアッベ数vdを上述したように設定することで、ファイバ出力変動を5%以下に抑制することができる。
(実施例2)
図9は、本発明の実施例2の光源モジュールの構成図である。実施例2の光源モジュールは、図2又は図3に示す実施例1の光源モジュールを光源モジュールユニットとし、3個の光源モジュールユニットA,B,Cを備えている。
なお、光源モジュールユニットの数は3個に限定されることなく、2個又は4個以上であってもよい。
さらに、実施例2の光源モジュールは、光源モジュールユニットA,B,Cに対向して配置され、コリメートレンズ26a〜26cと、集光レンズ40とを備える。なお、ミラー27a〜27dにより、ビーム同士の間隔を狭くしてあるが、場合により、縮小光学系を用いてもよい。
コリメートレンズ26a〜26cは、本発明の第2の平行光レンズに対応し、光源モジュールユニットA,B,Cからのレーザ光を平行光に変換する。集光レンズ40は、本発明の第2の集光レンズに対応し、変換された複数のレーザ光を集光して第2のファイバ50に結合する。
また、コリメートレンズ26a〜26cは、コリメートレンズ26a〜26cの焦点距離と集光レンズ40の焦点距離とに基づく横倍率αの値と、半導体レーザの波長の変化量Δλの値とに応じて、複数の波長に対するコリメートレンズ26a〜26cでの複数の屈折率に基づく第2のアッベ数vdを変えたレンズからなる。
このように実施例2の光源モジュールによれば、光源モジュールユニットA,B,Cからのレーザ光を集光してファイバ50に結合するので、さらに、レーザ出力の高出力化を実現することができる。
また、光源モジュールユニットA,B,Cの各々及びコリメートレンズ26a〜26cと集光レンズ40とからなる光源モジュールにおいて、FACレンズ21a〜21c、コリメートレンズ26a〜26cアッベ数vdを実施例1で既に述べた値に設定することで、ファイバ出力変動を5%以下に抑制することができる。
本発明は、光結合装置に適用可能である。
1a〜1c 半導体レーザ
2a〜2c コリメートレンズ
3 縮小光学系
3a,31 凸レンズ
3b,32 凹レンズ
4,40 集光レンズ
5,5a〜5c,50 ファイバ
21,21a〜21c FACレンズ
22 SACレンズ
26a〜26c コリメートレンズ

Claims (9)

  1. 互いに異なる複数の波長を有する複数のレーザ光を出力する複数のレーザ光源と、
    前記複数のレーザ光源に対向して配置され、前記複数のレーザ光源からのレーザ光を平行光に変換する複数の平行光レンズと、
    前記複数の平行光レンズで平行光にされた複数のレーザ光を縮小させる凸レンズと凹レンズとを有する縮小光学系と、
    前記縮小光学系で縮小された複数のレーザ光を集光してファイバに結合する集光レンズとを備え、
    前記複数の平行光レンズは、前記ファイバの出力変動を所定値以下に抑制するように、前記平行光レンズの焦点距離と前記縮小光学系の縮小倍率と前記集光レンズの焦点距離とに基づく横倍率αの値と、前記複数のレーザ光源の波長の変化量Δλの値とに応じて、前記複数の波長に対する前記平行光レンズでの複数の屈折率に基づくアッベ数vdが設定されていることを特徴とする光源モジュール。
  2. 前記複数のレーザ光源の各々は、波長が0.3μm〜0.55μmの半導体レーザからなることを特徴とする請求項1記載の光源モジュール。
  3. 前記複数の平行光レンズは、コリメートレンズからなることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の光源モジュール。
  4. 互いに異なる複数の波長を有する複数のレーザ光を出力する複数のレーザ光源と、
    前記複数のレーザ光源に対向して配置され、前記複数のレーザ光源からのレーザ光を平行光に変換する複数の平行光レンズと、
    前記複数の平行光レンズで変換された複数のレーザ光を集光してファイバに結合する集光レンズとを備え、
    前記複数の平行光レンズは、複数のコリメートレンズからなり、前記ファイバの出力変動を所定値以下に抑制するように、前記コリメートレンズの焦点距離と前記集光レンズの焦点距離とに基づく横倍率αの値と、前記複数のレーザ光源の波長の変化量Δλ〔μm〕の値とに応じて、前記複数の波長に対する前記コリメートレンズでの複数の屈折率に基づくアッベ数vdを変えたレンズからなることを特徴とする光源モジュール。
  5. 前記複数の平行光レンズは、前記複数のレーザ光源から出射されたファスト方向のビームを平行光にするファスト軸コリメートレンズとスロー方向のビームを平行光にするスロー軸コリメートレンズからなることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の光源モジュール。
  6. 互いに異なる複数の波長を有する複数のレーザ光を出力する複数のレーザ光源と、
    前記複数のレーザ光源に対向して配置され、前記複数のレーザ光源からのレーザ光を平行光に変換する複数の平行光レンズと、
    前記複数の平行光レンズで変換された複数のレーザ光を集光してファイバに結合する集光レンズとを備え、
    前記複数の平行光レンズは、前記ファイバの出力変動を所定値以下に抑制するように、前記平行光レンズの焦点距離と前記集光レンズの焦点距離とに基づく横倍率αの値と、前記複数のレーザ光源の波長の変化量Δλ〔μm〕の値とに応じて、前記複数の波長に対する前記平行光レンズでの複数の屈折率に基づくアッベ数vdを変えたレンズで且つ前記複数のレーザ光源から出射されたファスト方向のビームを平行光にするファスト軸コリメートレンズとスロー方向のビームを平行光にするスロー軸コリメートレンズからなることを特徴とする光源モジュール。
  7. 前記複数の平行光レンズは、
    Δλ>1.5×10−3μmのとき、vd>138.55×α/d−5.6354、
    1.0×10−3μm<Δλ≦1.5×10−3μmのとき、vd>96.44×α/d−3.3878、
    0.75×10−3μm<Δλ≦1.0×10−3μmのとき、vd>76.22×α/d−4.007、
    0<Δλ≦0.5×10−3μmのとき、vd>66.19×α/d−11.823とすることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項記載の光源モジュール。
  8. 請求項1乃至請求項7のいずれか1項記載の光源モジュールを光源モジュールユニットとして複数備え、
    前記複数の光源モジュールユニットに対向して配置され、前記複数の光源モジュールユニットからの複数のレーザ光を平行光に変換する複数の第2の平行光レンズと、
    変換された複数のレーザ光を集光して第2のファイバに結合する第2の集光レンズとを備えることを特徴とする光源モジュール。
  9. 前記複数の第2の平行光レンズは、前記第2のファイバの出力変動を所定値以下に抑制するように、前記第2の平行光レンズの焦点距離と前記第2の集光レンズの焦点距離とに基づく横倍率αの値と、前記複数のレーザ光源の波長の変化量Δλの値とに応じて、前記複数の波長に対する前記第2の平行光レンズでの複数の屈折率に基づく第2のアッベ数vdが設定されていることを特徴とする請求項8記載の光源モジュール。
JP2018147408A 2018-08-06 2018-08-06 光源モジュール Active JP7070215B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018147408A JP7070215B2 (ja) 2018-08-06 2018-08-06 光源モジュール
CN201910718139.2A CN110806621B (zh) 2018-08-06 2019-08-05 光源组件
US16/531,820 US11187912B2 (en) 2018-08-06 2019-08-05 Light source module

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018147408A JP7070215B2 (ja) 2018-08-06 2018-08-06 光源モジュール

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020024242A true JP2020024242A (ja) 2020-02-13
JP7070215B2 JP7070215B2 (ja) 2022-05-18

Family

ID=69227576

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018147408A Active JP7070215B2 (ja) 2018-08-06 2018-08-06 光源モジュール

Country Status (3)

Country Link
US (1) US11187912B2 (ja)
JP (1) JP7070215B2 (ja)
CN (1) CN110806621B (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021152567A (ja) * 2020-03-24 2021-09-30 株式会社島津製作所 光源装置、プロジェクタおよび機械加工装置
WO2021200636A1 (ja) * 2020-03-31 2021-10-07 古河電気工業株式会社 光コネクタ及び光コネクタ接続構造

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111258011A (zh) * 2020-03-26 2020-06-09 四川京湖光电科技有限公司 激光光纤耦合光路结构
CN111239938A (zh) * 2020-03-26 2020-06-05 四川京湖光电科技有限公司 激光光纤耦合系统
WO2022013130A1 (en) * 2020-07-16 2022-01-20 Signify Holding B.V. A light emitting device

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01287520A (ja) * 1988-05-13 1989-11-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd コリメート光学系
JP2000171741A (ja) * 1998-12-08 2000-06-23 Fuji Photo Optical Co Ltd 光走査装置
JP2005122899A (ja) * 1999-10-30 2005-05-12 Samsung Electronics Co Ltd 光ピックアップ装置
JP2006066875A (ja) * 2004-07-26 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd レーザモジュール
JP2016078051A (ja) * 2014-10-14 2016-05-16 株式会社アマダホールディングス ダイレクトダイオードレーザ加工装置及びこれを用いた板金の加工方法
WO2016117108A1 (ja) * 2015-01-23 2016-07-28 株式会社島津製作所 多波長レーザ光合波モジュール
CN207557536U (zh) * 2017-11-11 2018-06-29 深圳市中科创激光技术有限公司 一种红光光源模组

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5225928A (en) * 1991-10-07 1993-07-06 Spectra-Physics Laserplane, Inc. Focus compensating lens for use in extreme temperatures
KR0141805B1 (ko) * 1994-12-10 1998-08-17 이헌조 프로젝션 렌즈
DE69735515T2 (de) * 1996-04-03 2007-03-08 Konica Corp. Optische Anordnung zum Beschreiben und/oder Lesen eines optischen Aufzeichnungsmediums
JP3199650B2 (ja) * 1996-11-21 2001-08-20 松下電器産業株式会社 光ピックアップ
JP4188795B2 (ja) 2003-10-07 2008-11-26 リコー光学株式会社 光パワー合成用光学系および光源モジュール
JP4363251B2 (ja) * 2004-05-14 2009-11-11 ソニー株式会社 光ピックアップおよび光ディスク装置
JP5740654B2 (ja) * 2010-01-22 2015-06-24 トゥー−シックス レイザー エンタープライズ ゲーエムベーハー 遠視野ファイバ結合放射の均質化
JP2012042926A (ja) * 2010-07-22 2012-03-01 Mitsubishi Rayon Co Ltd 太陽光の集光レンズ

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01287520A (ja) * 1988-05-13 1989-11-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd コリメート光学系
JP2000171741A (ja) * 1998-12-08 2000-06-23 Fuji Photo Optical Co Ltd 光走査装置
JP2005122899A (ja) * 1999-10-30 2005-05-12 Samsung Electronics Co Ltd 光ピックアップ装置
JP2006066875A (ja) * 2004-07-26 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd レーザモジュール
JP2016078051A (ja) * 2014-10-14 2016-05-16 株式会社アマダホールディングス ダイレクトダイオードレーザ加工装置及びこれを用いた板金の加工方法
WO2016117108A1 (ja) * 2015-01-23 2016-07-28 株式会社島津製作所 多波長レーザ光合波モジュール
CN207557536U (zh) * 2017-11-11 2018-06-29 深圳市中科创激光技术有限公司 一种红光光源模组

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021152567A (ja) * 2020-03-24 2021-09-30 株式会社島津製作所 光源装置、プロジェクタおよび機械加工装置
US11435567B2 (en) * 2020-03-24 2022-09-06 Shimadzu Corporation Light source apparatus, projector, and machining apparatus
WO2021200636A1 (ja) * 2020-03-31 2021-10-07 古河電気工業株式会社 光コネクタ及び光コネクタ接続構造

Also Published As

Publication number Publication date
CN110806621A (zh) 2020-02-18
JP7070215B2 (ja) 2022-05-18
CN110806621B (zh) 2022-04-19
US11187912B2 (en) 2021-11-30
US20200044411A1 (en) 2020-02-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7070215B2 (ja) 光源モジュール
JP3921346B2 (ja) 結合レンズ及び半導体レーザモジュール
US9030750B2 (en) Objective lens
US9541721B2 (en) Laser device
JPWO2016117108A1 (ja) 多波長レーザ光合波モジュール
US20210247573A1 (en) Optical coupling device
JP6586647B2 (ja) ビーム強度変換光学系
JP6625151B2 (ja) レーザモジュール
JP2019004061A (ja) 発光装置
CN114609707A (zh) 设置有各自具有非球面形状的相反侧的微透镜
WO2020059664A1 (ja) 合波光学系
JP2793711B2 (ja) 半導体レーザ用集光装置
JPWO2019111705A1 (ja) ビーム変換光学系および光源装置
US11262573B2 (en) Endoscope light-source device
KR20090029565A (ko) 비구면 콜리메이트 렌즈를 포함하는 레이저 모듈
US11187915B2 (en) Parallel light generation device
SU1737399A1 (ru) Оптическа система дл преобразовани излучени полупроводникового лазера
CN109975927B (zh) 无热化宽波段激光聚焦系统及光纤激光耦合器
JP4893982B2 (ja) Ledランプ
RU2215313C1 (ru) Проекционный объектив для фокусировки лазерного излучения
JP2010197536A (ja) 顕微鏡対物レンズ
JPH095510A (ja) 光学素子
SU1597822A1 (ru) Высокоапертурный фокусирующий объектив
JPS58200206A (ja) 対物レンズ
RU2213988C2 (ru) Объектив с вынесенным входным зрачком

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20201210

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20211026

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20211102

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20211227

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220405

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220418

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 7070215

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151