JP2000171741A - 光走査装置 - Google Patents
光走査装置Info
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
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- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/127—Adaptive control of the scanning light beam, e.g. using the feedback from one or more detectors
- G02B26/128—Focus control
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 少なくとも一方の面が所定の回折光学面で形
成された１枚のコリメートレンズを備えることにより、
半導体レーザ光源のモードホッピングによる色収差（ピ
ントずれ）を防ぎ、少ない構成枚数のレンズでありなが
らデジタル複写機や光プリンタ等に適用可能な高解像度
の出力が可能な光走査装置を得る。 【構成】 半導体レーザよりなる光源１と、少なくとも
一方の面が回折光学面で形成された１枚のコリメートレ
ンズ３と、光偏向器５と、光偏向器５により偏向された
光束を被走査面７上に集光し光走査を行なう結像光学系
６とを備え、以下の条件式（１）を満足する光走査装
置。 （１） ｜Δ１×Ｆ２／Ｆ１ ２｜ ＜ 0．01 ここで、Ｆ１：コリメートレンズ３の焦点距離
Ｆ２：結像光学系６の焦点距離 Δ１：モードホッピングによりコリメートレンズ３にお
いて発生する色収差
成された１枚のコリメートレンズを備えることにより、
半導体レーザ光源のモードホッピングによる色収差（ピ
ントずれ）を防ぎ、少ない構成枚数のレンズでありなが
らデジタル複写機や光プリンタ等に適用可能な高解像度
の出力が可能な光走査装置を得る。 【構成】 半導体レーザよりなる光源１と、少なくとも
一方の面が回折光学面で形成された１枚のコリメートレ
ンズ３と、光偏向器５と、光偏向器５により偏向された
光束を被走査面７上に集光し光走査を行なう結像光学系
６とを備え、以下の条件式（１）を満足する光走査装
置。 （１） ｜Δ１×Ｆ２／Ｆ１ ２｜ ＜ 0．01 ここで、Ｆ１：コリメートレンズ３の焦点距離
Ｆ２：結像光学系６の焦点距離 Δ１：モードホッピングによりコリメートレンズ３にお
いて発生する色収差
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、画像の記録や表示
を行なうデジタル複写機あるいは光プリンタ等の光走査
装置に関するものであり、特に半導体レーザビームを光
源とし、簡易な構成のコリメートレンズと結像光学系と
を備えた光走査装置に関するものである。
を行なうデジタル複写機あるいは光プリンタ等の光走査
装置に関するものであり、特に半導体レーザビームを光
源とし、簡易な構成のコリメートレンズと結像光学系と
を備えた光走査装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】デジタル複写機や光プリンタ等に関連し
て広く知られている光走査装置には、光源からの光束を
コリメートレンズで略平行光に変換し、この略平行光束
をアナモフィックレンズにより主走査対応方向に長い線
像として結像させ、この線像の結像位置近傍に偏向反射
面を持つ光偏向器で等角速度で偏向させ、偏向された光
束を結像光学系により被走査面上に光スポットとして集
光して被走査面の光走査を行なうものがある。
て広く知られている光走査装置には、光源からの光束を
コリメートレンズで略平行光に変換し、この略平行光束
をアナモフィックレンズにより主走査対応方向に長い線
像として結像させ、この線像の結像位置近傍に偏向反射
面を持つ光偏向器で等角速度で偏向させ、偏向された光
束を結像光学系により被走査面上に光スポットとして集
光して被走査面の光走査を行なうものがある。
【０００３】このような光走査装置においては、近年、
精度上の要求とともに低価格化、小型化の要求が強くな
っている。
精度上の要求とともに低価格化、小型化の要求が強くな
っている。
【０００４】そのため、レンズ構成としてはコリメート
レンズに単玉レンズを用い、結像光学系に２枚程度の少
ない構成枚数のレンズが採用されることが多い。
レンズに単玉レンズを用い、結像光学系に２枚程度の少
ない構成枚数のレンズが採用されることが多い。
【０００５】また、コンパクトでありながら高精細な印
字に適した光走査装置を得ようとするものとして、例え
ば、特開平10−68903号公報記載の光走査装置は、回折
光学面（ＤＯＥ）を備えた光学系（以下回折光学素子と
称する）を用いている。回折光学面は、分散が従来の反
射屈折光学系に比べて大きくその符合も異なるという特
性を有するので、レンズ枚数が少なく高精度な光学系を
得るために最近多方面に用いられている。特開平10−68
903号公報記載の光走査装置は、結像光学系、アナモフ
ィックレンズ、またはコリメートレンズに回折光学素子
を用い、温度変動に伴なう主走査方向の倍率変化および
ピント変化を、その温度変動によって生じる回折光学素
子のパワー変化と、同じくその温度変動によって生じる
半導体レーザの波長変動により補正するものである。
字に適した光走査装置を得ようとするものとして、例え
ば、特開平10−68903号公報記載の光走査装置は、回折
光学面（ＤＯＥ）を備えた光学系（以下回折光学素子と
称する）を用いている。回折光学面は、分散が従来の反
射屈折光学系に比べて大きくその符合も異なるという特
性を有するので、レンズ枚数が少なく高精度な光学系を
得るために最近多方面に用いられている。特開平10−68
903号公報記載の光走査装置は、結像光学系、アナモフ
ィックレンズ、またはコリメートレンズに回折光学素子
を用い、温度変動に伴なう主走査方向の倍率変化および
ピント変化を、その温度変動によって生じる回折光学素
子のパワー変化と、同じくその温度変動によって生じる
半導体レーザの波長変動により補正するものである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
開平10−68903号公報記載の光走査装置の光源としても
用いられている半導体レーザ光源にはモードホッピング
という現象があり、半導体レーザ光源を用いる場合はこ
の問題を解決せずに高い解像度の出力を得ることは困難
である。
開平10−68903号公報記載の光走査装置の光源としても
用いられている半導体レーザ光源にはモードホッピング
という現象があり、半導体レーザ光源を用いる場合はこ
の問題を解決せずに高い解像度の出力を得ることは困難
である。
【０００７】モードホッピングとは出力光の波長が基準
波長からシフトすることで、デジタル複写機や光プリン
タのように光信号を書き込むために光源の出力を大きく
する必要がある場合には発生しやすい。モードホッピン
グがあるとレンズを透過する際の屈折率が変化するの
で、波長シフトによっていわばピントずれともいうべき
色収差が生じる。このピントずれは、半導体レーザとコ
リメートレンズの間で生じる色収差Δが小さい場合であ
っても、結像面である被走査面上では拡大されるため、
問題となる。
波長からシフトすることで、デジタル複写機や光プリン
タのように光信号を書き込むために光源の出力を大きく
する必要がある場合には発生しやすい。モードホッピン
グがあるとレンズを透過する際の屈折率が変化するの
で、波長シフトによっていわばピントずれともいうべき
色収差が生じる。このピントずれは、半導体レーザとコ
リメートレンズの間で生じる色収差Δが小さい場合であ
っても、結像面である被走査面上では拡大されるため、
問題となる。
【０００８】すなわち、コリメートレンズの焦点距離を
Ｆ１、コリメートレンズの材料の基準波長±20ｎｍにお
けるアッベ数をν１としたときの半導体レーザとコリメ
ートレンズの間で生じる色収差Δ＝Ｆ１／ν１が、被走
査面上では、色収差をΔ’とし結像光学系の焦点距離を
Ｆ２とするとΔ’＝Δ×（Ｆ２／Ｆ１）２と拡大されて
しまう。
Ｆ１、コリメートレンズの材料の基準波長±20ｎｍにお
けるアッベ数をν１としたときの半導体レーザとコリメ
ートレンズの間で生じる色収差Δ＝Ｆ１／ν１が、被走
査面上では、色収差をΔ’とし結像光学系の焦点距離を
Ｆ２とするとΔ’＝Δ×（Ｆ２／Ｆ１）２と拡大されて
しまう。
【０００９】例えば、一般に用いられる基準波長780ｎ
ｍの半導体レーザであれば、モードホッピングにより±
20ｎｍ程度の範囲で光源波長がばらつくことになる。こ
の場合、半導体レーザとコリメートレンズ間の色収差Δ
は、例えば、コリメートレンズの焦点距離Ｆ１を10ｍ
ｍ、結像光学系の焦点距離Ｆ２を210ｍｍとし、コリメ
ートレンズの材料を通常のガラス（ＢＫ−７）とする
と、波長λ＝780ｎｍ±20ｎｍのときアッベ数ν＝612な
のでΔ＝0.016ｍｍとなり、被走査面上での色収差Δ’
は、Δ’＝7.2ｍｍとなる。
ｍの半導体レーザであれば、モードホッピングにより±
20ｎｍ程度の範囲で光源波長がばらつくことになる。こ
の場合、半導体レーザとコリメートレンズ間の色収差Δ
は、例えば、コリメートレンズの焦点距離Ｆ１を10ｍ
ｍ、結像光学系の焦点距離Ｆ２を210ｍｍとし、コリメ
ートレンズの材料を通常のガラス（ＢＫ−７）とする
と、波長λ＝780ｎｍ±20ｎｍのときアッベ数ν＝612な
のでΔ＝0.016ｍｍとなり、被走査面上での色収差Δ’
は、Δ’＝7.2ｍｍとなる。
【００１０】このように、コリメートレンズにおいて発
生する色収差Δは小さくても被走査面上での色収差Δ’
は大きくなってしまうので、レンズ設計は被走査面側の
デフォーカス余裕度をΔ’よりも大きくする必要があ
り、高解像の出力を得ることは設計上困難となる。
生する色収差Δは小さくても被走査面上での色収差Δ’
は大きくなってしまうので、レンズ設計は被走査面側の
デフォーカス余裕度をΔ’よりも大きくする必要があ
り、高解像の出力を得ることは設計上困難となる。
【００１１】従来の、１枚のレンズからなるコリメート
レンズと少ない構成枚数のレンズからなる結像光学系を
採用するような、少ない構成枚数のレンズでは、この波
長シフトによるピントずれを防ぐことはできず、高い解
像度の出力を得ることが困難であった。そのため、少な
いレンズ構成枚数でありながらモードホッピングによる
ピントずれを防ぎ、解像度の高い光走査装置が要望され
ている。
レンズと少ない構成枚数のレンズからなる結像光学系を
採用するような、少ない構成枚数のレンズでは、この波
長シフトによるピントずれを防ぐことはできず、高い解
像度の出力を得ることが困難であった。そのため、少な
いレンズ構成枚数でありながらモードホッピングによる
ピントずれを防ぎ、解像度の高い光走査装置が要望され
ている。
【００１２】本発明はこのような事情に鑑みなされたも
ので、回折光学素子の特異な分散特性を利用し、所定の
回折光学素子を備えることにより、半導体レーザのモー
ドホッピングによるピントずれを防ぐとともに少ない構
成枚数のレンズでありながら高い解像度の出力を得るこ
とができるような光走査装置を提供することを目的とす
るものである。
ので、回折光学素子の特異な分散特性を利用し、所定の
回折光学素子を備えることにより、半導体レーザのモー
ドホッピングによるピントずれを防ぐとともに少ない構
成枚数のレンズでありながら高い解像度の出力を得るこ
とができるような光走査装置を提供することを目的とす
るものである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明に係る光走査装置
は、半導体レーザよりなる光源と、少なくとも一方の面
が回折光学面で形成され該光源からの光束を略平行光束
に変換する１枚のコリメートレンズと、該コリメートレ
ンズから射出された略平行光束を偏向する光偏向器と、
該光偏向器により偏向された光束を被走査面上に集光し
該被走査面の光走査を行なう結像光学系とを備え、以下
の条件式（１）を満足することを特徴とするものであ
る。 （１） ｜Δ１×Ｆ２／Ｆ１ ２｜ ＜ 0．01 ここで、 Δ１＝Ｆ１ ２×｛（ν１×ｆ１）−１＋（νＤ×ｆＤ）
−１｝ ただし、 Ｆ１ ：コリメートレンズの焦点距離 Ｆ２ ：結像光学系の焦点距離 ｆ１ ：コリメートレンズの屈折作用による焦点距離 ｆＤ ：コリメートレンズの回折部の焦点距離 ν１ ：コリメートレンズの材料の基準波長±20ｎｍに
おけるアッベ数 νＤ ：コリメートレンズの回折部の基準波長±20ｎｍ
におけるアッベ数
は、半導体レーザよりなる光源と、少なくとも一方の面
が回折光学面で形成され該光源からの光束を略平行光束
に変換する１枚のコリメートレンズと、該コリメートレ
ンズから射出された略平行光束を偏向する光偏向器と、
該光偏向器により偏向された光束を被走査面上に集光し
該被走査面の光走査を行なう結像光学系とを備え、以下
の条件式（１）を満足することを特徴とするものであ
る。 （１） ｜Δ１×Ｆ２／Ｆ１ ２｜ ＜ 0．01 ここで、 Δ１＝Ｆ１ ２×｛（ν１×ｆ１）−１＋（νＤ×ｆＤ）
−１｝ ただし、 Ｆ１ ：コリメートレンズの焦点距離 Ｆ２ ：結像光学系の焦点距離 ｆ１ ：コリメートレンズの屈折作用による焦点距離 ｆＤ ：コリメートレンズの回折部の焦点距離 ν１ ：コリメートレンズの材料の基準波長±20ｎｍに
おけるアッベ数 νＤ ：コリメートレンズの回折部の基準波長±20ｎｍ
におけるアッベ数
【００１４】また、本発明に係る光走査装置は、半導体
レーザよりなる光源と、少なくとも一方の面が回折光学
面で形成され該光源からの光束を略平行光束に変換する
１枚のコリメートレンズと、該コリメートレンズから射
出された略平行光束を偏向する光偏向器と、該光偏向器
により偏向された光束を被走査面上に集光し該被走査面
の光走査を行なう結像光学系とを備え、以下の条件式
（２）を満足することを特徴とするものである。 （２） ｜Δ１×（Ｆ２／Ｆ１）２＋Δ２｜ ＜ Ｆ
２／100 ここで、 Δ１＝Ｆ１ ２×｛（ν１×ｆ１）−１＋（νＤ×ｆＤ）
−１｝ Δ２＝Ｆ２／ν２ ただし、 Ｆ１ ：コリメートレンズの焦点距離 Ｆ２ ：結像光学系の焦点距離 ｆ１ ：コリメートレンズの屈折作用による焦点距離 ｆＤ ：コリメートレンズの回折部の焦点距離 ν１ ：コリメートレンズの材料の基準波長±20ｎｍに
おけるアッベ数 νＤ ：コリメートレンズの回折部の基準波長±20ｎｍ
におけるアッベ数 ν２ ：結像光学系の基準波長±20ｎｍにおける等価ア
ッベ数
レーザよりなる光源と、少なくとも一方の面が回折光学
面で形成され該光源からの光束を略平行光束に変換する
１枚のコリメートレンズと、該コリメートレンズから射
出された略平行光束を偏向する光偏向器と、該光偏向器
により偏向された光束を被走査面上に集光し該被走査面
の光走査を行なう結像光学系とを備え、以下の条件式
（２）を満足することを特徴とするものである。 （２） ｜Δ１×（Ｆ２／Ｆ１）２＋Δ２｜ ＜ Ｆ
２／100 ここで、 Δ１＝Ｆ１ ２×｛（ν１×ｆ１）−１＋（νＤ×ｆＤ）
−１｝ Δ２＝Ｆ２／ν２ ただし、 Ｆ１ ：コリメートレンズの焦点距離 Ｆ２ ：結像光学系の焦点距離 ｆ１ ：コリメートレンズの屈折作用による焦点距離 ｆＤ ：コリメートレンズの回折部の焦点距離 ν１ ：コリメートレンズの材料の基準波長±20ｎｍに
おけるアッベ数 νＤ ：コリメートレンズの回折部の基準波長±20ｎｍ
におけるアッベ数 ν２ ：結像光学系の基準波長±20ｎｍにおける等価ア
ッベ数
【００１５】ここで、「屈折作用による焦点距離」と
は、回折光学面において、このレンズ面に回折光学面を
付加しない場合に生じる面屈折力による焦点距離を意味
し、「回折部の焦点距離」および「回折部の・・・・・アッ
ベ数」とは、このレンズ面に回折光学面を付加すること
により生じる面屈折力による焦点距離およびアッベ数を
意味する。
は、回折光学面において、このレンズ面に回折光学面を
付加しない場合に生じる面屈折力による焦点距離を意味
し、「回折部の焦点距離」および「回折部の・・・・・アッ
ベ数」とは、このレンズ面に回折光学面を付加すること
により生じる面屈折力による焦点距離およびアッベ数を
意味する。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態１および
２について図面を用いて説明する。
２について図面を用いて説明する。
【００１７】ここで、図１は本発明の実施形態１および
２の光走査装置の基本構成を示すものであり、図２はそ
の光源からコリメートレンズまでの基本構成を示すもの
である。
２の光走査装置の基本構成を示すものであり、図２はそ
の光源からコリメートレンズまでの基本構成を示すもの
である。
【００１８】本実施形態１および２に係る光走査装置
は、半導体レーザよりなる光源１と、少なくとも一方の
面が回折光学面で形成され該光源からの光束を略平行光
束に変換する１枚のコリメートレンズ３と、該コリメー
トレンズ３から射出された略平行光束を偏向する光偏向
器５と、該光偏向器５により偏向された光束を被走査面
７上に集光し該被走査面７の光走査を行なう結像光学系
６とを備えている。
は、半導体レーザよりなる光源１と、少なくとも一方の
面が回折光学面で形成され該光源からの光束を略平行光
束に変換する１枚のコリメートレンズ３と、該コリメー
トレンズ３から射出された略平行光束を偏向する光偏向
器５と、該光偏向器５により偏向された光束を被走査面
７上に集光し該被走査面７の光走査を行なう結像光学系
６とを備えている。
【００１９】図１および図２に示すように、この光走査
装置によれば、光源１から発せられカバーガラス２を透
過したレーザビームは、コリメートレンズ３により略平
行光束に変換され、アナモフィックレンズ４により主走
査対応方向に線状に結像される。光偏向器５であるポリ
ゴンミラーはこの結像位置近傍に光偏向反射面５ａを有
し、レーザビームを反射偏向する。ｆθレンズを含む２
枚のレンズからなる結像光学系６は、光偏向器５により
反射偏向されたレーザビームを被走査面７上に光スポッ
トとして集光し、略等角速度で被走査面７上に走査させ
る。また、この光走査装置には、光偏向器５により偏向
されて被走査面７へ向かうレーザビームを同期光として
検出し、光走査の開始タイミングをとるための同期光検
出装置９が設けられている。この同期光検出装置９へ向
かうレーザビームは、反射ミラー８により反射される。
なお、これ以外にも、図示されない反射ミラー等が光路
中に適宜挿入されている。
装置によれば、光源１から発せられカバーガラス２を透
過したレーザビームは、コリメートレンズ３により略平
行光束に変換され、アナモフィックレンズ４により主走
査対応方向に線状に結像される。光偏向器５であるポリ
ゴンミラーはこの結像位置近傍に光偏向反射面５ａを有
し、レーザビームを反射偏向する。ｆθレンズを含む２
枚のレンズからなる結像光学系６は、光偏向器５により
反射偏向されたレーザビームを被走査面７上に光スポッ
トとして集光し、略等角速度で被走査面７上に走査させ
る。また、この光走査装置には、光偏向器５により偏向
されて被走査面７へ向かうレーザビームを同期光として
検出し、光走査の開始タイミングをとるための同期光検
出装置９が設けられている。この同期光検出装置９へ向
かうレーザビームは、反射ミラー８により反射される。
なお、これ以外にも、図示されない反射ミラー等が光路
中に適宜挿入されている。
【００２０】図１において、光源１から発せられたレー
ザビームは、被走査面７上に結像されるとともに、ポリ
ゴンミラーが矢印Ａ方向に回転することにより、被走査
面７上において矢印Ｂ方向に主走査される。さらに、被
走査面７を副走査方向に移動して画像を形成する。
ザビームは、被走査面７上に結像されるとともに、ポリ
ゴンミラーが矢印Ａ方向に回転することにより、被走査
面７上において矢印Ｂ方向に主走査される。さらに、被
走査面７を副走査方向に移動して画像を形成する。
【００２１】実施形態１に係る光走査装置において、コ
リメートレンズ３は被走査面７側の面に回折光学面が形
成された１枚のレンズからなる。この回折光学面は下記
に示す回折光学面深さ式により表され、以下の条件式
（１）を満足する。
リメートレンズ３は被走査面７側の面に回折光学面が形
成された１枚のレンズからなる。この回折光学面は下記
に示す回折光学面深さ式により表され、以下の条件式
（１）を満足する。
【００２２】
【数１】
【００２３】 （１） ｜Δ１×Ｆ２／Ｆ１ ２｜ ＜ 0．01 ここで、 Δ１＝Ｆ１ ２×｛（ν１×ｆ１）−１＋（νＤ×ｆＤ）
−１｝ ただし、 Ｆ１ ：コリメートレンズ３の焦点距離 Ｆ２ ：結像光学系６の焦点距離 ｆ１ ：コリメートレンズ３の屈折作用による焦点距離 ｆＤ ：コリメートレンズ３の回折部の焦点距離 ν１ ：コリメートレンズ３の材料の基準波長±20ｎｍ
におけるアッベ数 νＤ ：コリメートレンズ３の回折部の基準波長±20ｎ
ｍにおけるアッベ数
−１｝ ただし、 Ｆ１ ：コリメートレンズ３の焦点距離 Ｆ２ ：結像光学系６の焦点距離 ｆ１ ：コリメートレンズ３の屈折作用による焦点距離 ｆＤ ：コリメートレンズ３の回折部の焦点距離 ν１ ：コリメートレンズ３の材料の基準波長±20ｎｍ
におけるアッベ数 νＤ ：コリメートレンズ３の回折部の基準波長±20ｎ
ｍにおけるアッベ数
【００２４】この条件式（１）は、後述するとおり、被
走査面７上においてモードホッピングにより生じるピン
トずれが、結像光学系６の焦点距離の１％未満になるよ
うに規定している。この条件式（１）を満足するような
回折光学面を備えることにより、被走査面７上において
モードホッピングにより生じるピントずれを小さくする
ことができる。
走査面７上においてモードホッピングにより生じるピン
トずれが、結像光学系６の焦点距離の１％未満になるよ
うに規定している。この条件式（１）を満足するような
回折光学面を備えることにより、被走査面７上において
モードホッピングにより生じるピントずれを小さくする
ことができる。
【００２５】ここで、回折光学面を備えることによる作
用効果について説明する。
用効果について説明する。
【００２６】前述したとおり、回折光学面はその分散性
において従来の反射屈折光学系と異なる特性を備えてい
る。すなわち、通常のガラスの分散（１／ν）は、ν＝
（Ｎ ２−１）／（Ｎ１−Ｎ３）であるのに対し、回折光
学面の分散（１／ν）はν＝λ２／（λ１−λ３）で表
される。ここで、波長λ１、λ２、λ３はλ１＜λ２＜
λ３の関係にあり、Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３は各々の波長に対
応した屈折率である。
において従来の反射屈折光学系と異なる特性を備えてい
る。すなわち、通常のガラスの分散（１／ν）は、ν＝
（Ｎ ２−１）／（Ｎ１−Ｎ３）であるのに対し、回折光
学面の分散（１／ν）はν＝λ２／（λ１−λ３）で表
される。ここで、波長λ１、λ２、λ３はλ１＜λ２＜
λ３の関係にあり、Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３は各々の波長に対
応した屈折率である。
【００２７】例えば、具体的な数値をあげて通常のガラ
スと回折光学面との分散の違いについて述べる。一般に
デジタル複写機あるいは光プリンタの光源としてよく使
用されるλ＝780ｎｍの半導体レーザを光源とした場
合、λ１＝760ｎｍ、λ２＝780ｎｍ、λ３＝800ｎｍと
して通常のガラス（ＢＫ−７）のアッベ数νは612であ
るのに対し、回折光学面のアッベ数νは同様の波長にお
いて-19．5となり、１桁異なり、符合も異なる。ここ
で、波長λを780ｎｍ±20ｎｍとしたのは、半導体レー
ザのモードホッピングによる波長シフトの範囲が±20ｎ
ｍ程度の幅であることによる。
スと回折光学面との分散の違いについて述べる。一般に
デジタル複写機あるいは光プリンタの光源としてよく使
用されるλ＝780ｎｍの半導体レーザを光源とした場
合、λ１＝760ｎｍ、λ２＝780ｎｍ、λ３＝800ｎｍと
して通常のガラス（ＢＫ−７）のアッベ数νは612であ
るのに対し、回折光学面のアッベ数νは同様の波長にお
いて-19．5となり、１桁異なり、符合も異なる。ここ
で、波長λを780ｎｍ±20ｎｍとしたのは、半導体レー
ザのモードホッピングによる波長シフトの範囲が±20ｎ
ｍ程度の幅であることによる。
【００２８】この回折光学面の逆分散性および異常分散
性という性質を利用することにより、回折光学面を備え
た本実施形態に係る光走査装置は、コリメートレンズ３
が１枚であっても、色収差を効果的に補正することがで
きる。
性という性質を利用することにより、回折光学面を備え
た本実施形態に係る光走査装置は、コリメートレンズ３
が１枚であっても、色収差を効果的に補正することがで
きる。
【００２９】次に、コリメートレンズ３に形成する回折
光学面の条件式について説明する。
光学面の条件式について説明する。
【００３０】条件式（１）は、前述した回折光学面によ
る色収差補正効果を半導体レーザのモードホッピングに
よるピントずれ補正にも利用するものである。すなわ
ち、コリメートレンズ３の少なくとも一方の面に条件式
（１）を満足するような焦点距離を有する回折光学面を
形成することにより、被走査面７上においてモードホッ
ピングにより生じるピントずれを小さくすることができ
る。
る色収差補正効果を半導体レーザのモードホッピングに
よるピントずれ補正にも利用するものである。すなわ
ち、コリメートレンズ３の少なくとも一方の面に条件式
（１）を満足するような焦点距離を有する回折光学面を
形成することにより、被走査面７上においてモードホッ
ピングにより生じるピントずれを小さくすることができ
る。
【００３１】ここで、コリメートレンズ３において発生
する色収差Δ１は、以下の式（３）で表される。 （３） Δ１＝Ｆ１ ２×｛（ν１×ｆ１）−１＋（ν
Ｄ×ｆＤ）−１｝ ただし、 Ｆ１：コリメートレンズ３の焦点距離 ｆ１：コリメートレンズ３の屈折作用による焦点距離 ｆＤ：コリメートレンズ３の回折部の焦点距離 ν１：コリメートレンズ３の材料の基準波長±20ｎｍに
おけるアッベ数 νＤ：コリメートレンズ３の回折部の基準波長±20ｎｍ
におけるアッベ数
する色収差Δ１は、以下の式（３）で表される。 （３） Δ１＝Ｆ１ ２×｛（ν１×ｆ１）−１＋（ν
Ｄ×ｆＤ）−１｝ ただし、 Ｆ１：コリメートレンズ３の焦点距離 ｆ１：コリメートレンズ３の屈折作用による焦点距離 ｆＤ：コリメートレンズ３の回折部の焦点距離 ν１：コリメートレンズ３の材料の基準波長±20ｎｍに
おけるアッベ数 νＤ：コリメートレンズ３の回折部の基準波長±20ｎｍ
におけるアッベ数
【００３２】なお、コリメートレンズ３に回折光学面を
形成した場合、このレンズはコリメートレンズ３に回折
光学面を形成しなくともレンズが有するレンズ本来の屈
折力と、回折光学面が有する屈折力とを、合成した屈折
力を有する。上記「コリメートレンズの屈折作用による
焦点距離」とは前者の屈折力による焦点距離を意味し、
上記「コリメートレンズの回折部の焦点距離」とは後者
の屈折力による焦点距離を意味する。
形成した場合、このレンズはコリメートレンズ３に回折
光学面を形成しなくともレンズが有するレンズ本来の屈
折力と、回折光学面が有する屈折力とを、合成した屈折
力を有する。上記「コリメートレンズの屈折作用による
焦点距離」とは前者の屈折力による焦点距離を意味し、
上記「コリメートレンズの回折部の焦点距離」とは後者
の屈折力による焦点距離を意味する。
【００３３】なお、上記「コリメートレンズ３の材料の
基準波長±20ｎｍにおけるアッベ数」ν１は、以下の式
（４）により表される。 （４） ν１＝（Ｎ１Ｂ−１）／（Ｎ１Ａ−Ｎ１Ｃ） ただし、 Ｎ１Ａ：コリメートレンズ３の材料の基準波長−20ｎｍ
における屈折率 Ｎ１Ｂ：コリメートレンズ３の材料の基準波長における
屈折率 Ｎ１Ｃ：コリメートレンズ３の材料の基準波長＋20ｎｍ
における屈折率
基準波長±20ｎｍにおけるアッベ数」ν１は、以下の式
（４）により表される。 （４） ν１＝（Ｎ１Ｂ−１）／（Ｎ１Ａ−Ｎ１Ｃ） ただし、 Ｎ１Ａ：コリメートレンズ３の材料の基準波長−20ｎｍ
における屈折率 Ｎ１Ｂ：コリメートレンズ３の材料の基準波長における
屈折率 Ｎ１Ｃ：コリメートレンズ３の材料の基準波長＋20ｎｍ
における屈折率
【００３４】ここで、基準波長±20ｎｍの範囲としてい
るのは、半導体レーザのモードホッピングによるによる
波長シフトの範囲に対応しているもので、この範囲で色
補償が達成されれば、モードホッピングに対応する光走
査装置としては充分な効果を得ることができる。
るのは、半導体レーザのモードホッピングによるによる
波長シフトの範囲に対応しているもので、この範囲で色
補償が達成されれば、モードホッピングに対応する光走
査装置としては充分な効果を得ることができる。
【００３５】また、上記「コリメートレンズ３の回折部
の基準波長±20ｎｍにおけるアッベ数」νＤは、以下の
式（５）により表される。 （５） νＤ＝λＢ／（λＡ−λＣ） ただし、 λＡ：基準波長−20ｎｍ λＢ：基準波長 λＣ：基準波長＋20ｎｍ ここで、被走査面７上においてモードホッピングにより
生じるピントずれΔ’は、以下の式（６）で表される。 （６） Δ’＝Δ１×（Ｆ２／Ｆ１）２ ただし、 Ｆ１ ：コリメートレンズ３の焦点距離 Ｆ２ ：結像光学系６の焦点距離
の基準波長±20ｎｍにおけるアッベ数」νＤは、以下の
式（５）により表される。 （５） νＤ＝λＢ／（λＡ−λＣ） ただし、 λＡ：基準波長−20ｎｍ λＢ：基準波長 λＣ：基準波長＋20ｎｍ ここで、被走査面７上においてモードホッピングにより
生じるピントずれΔ’は、以下の式（６）で表される。 （６） Δ’＝Δ１×（Ｆ２／Ｆ１）２ ただし、 Ｆ１ ：コリメートレンズ３の焦点距離 Ｆ２ ：結像光学系６の焦点距離
【００３６】すなわち、被走査面７上においてモードホ
ッピングにより生じるピントずれΔ’は、コリメートレ
ンズ３において発生する色収差Δ１が（Ｆ２／Ｆ１）２
の倍率で拡大されたものとなる。
ッピングにより生じるピントずれΔ’は、コリメートレ
ンズ３において発生する色収差Δ１が（Ｆ２／Ｆ１）２
の倍率で拡大されたものとなる。
【００３７】以下の式（７）は、このΔ’が所定の値
（0.01×Ｆ２）より小さくなるように規定したものであ
る。 （７） Δ１×（Ｆ２／Ｆ１）２ ＜ 0.01×Ｆ２ 上記式（７）の両辺をＦ２で除したものが条件式（１）
となる。
（0.01×Ｆ２）より小さくなるように規定したものであ
る。 （７） Δ１×（Ｆ２／Ｆ１）２ ＜ 0.01×Ｆ２ 上記式（７）の両辺をＦ２で除したものが条件式（１）
となる。
【００３８】このように、条件式（１）は、被走査面７
上においてモードホッピングにより生じるピントずれ
が、結像光学系６の焦点距離の１％未満になるように規
定している。コリメートレンズ３に、その回折部の焦点
距離ｆＤがこの条件式（１）を満足するような回折光学
面を備えることにより、半導体レーザ光源のモードホッ
ピングによる波長シフトが発生した場合でも被走査面７
上での色収差を低減し、高解像の出力を維持することが
できる。
上においてモードホッピングにより生じるピントずれ
が、結像光学系６の焦点距離の１％未満になるように規
定している。コリメートレンズ３に、その回折部の焦点
距離ｆＤがこの条件式（１）を満足するような回折光学
面を備えることにより、半導体レーザ光源のモードホッ
ピングによる波長シフトが発生した場合でも被走査面７
上での色収差を低減し、高解像の出力を維持することが
できる。
【００３９】以下、実施形態２に係る光走査装置につい
て説明する。
て説明する。
【００４０】実施形態２に係る光走査装置においても、
実施形態１と同様にコリメートレンズ３は被走査面７側
の面に回折光学面が形成された１枚のレンズからなる。
この回折光学面は実施形態１と同様の回折光学面深さ式
により表され、以下の条件式（２）を満足する。 （２） ｜Δ１×（Ｆ２／Ｆ１）２＋Δ２｜ ＜ Ｆ
２／100 ここで、 Δ１＝Ｆ１ ２×｛（ν１×ｆ１）−１＋（νＤ×ｆＤ）
−１｝ Δ２＝Ｆ２／ν２ ただし、 Ｆ１ ：コリメートレンズ３の焦点距離 Ｆ２ ：結像光学系６の焦点距離 ｆ１ ：コリメートレンズ３の屈折作用による焦点距離 ｆＤ ：コリメートレンズ３の回折部の焦点距離 ν１ ：コリメートレンズ３の材料の基準波長±20ｎｍ
におけるアッベ数 νＤ ：コリメートレンズ３の回折部の基準波長±20ｎ
ｍにおけるアッベ数 ν２ ：結像光学系６の基準波長±20ｎｍにおける等価
アッベ数
実施形態１と同様にコリメートレンズ３は被走査面７側
の面に回折光学面が形成された１枚のレンズからなる。
この回折光学面は実施形態１と同様の回折光学面深さ式
により表され、以下の条件式（２）を満足する。 （２） ｜Δ１×（Ｆ２／Ｆ１）２＋Δ２｜ ＜ Ｆ
２／100 ここで、 Δ１＝Ｆ１ ２×｛（ν１×ｆ１）−１＋（νＤ×ｆＤ）
−１｝ Δ２＝Ｆ２／ν２ ただし、 Ｆ１ ：コリメートレンズ３の焦点距離 Ｆ２ ：結像光学系６の焦点距離 ｆ１ ：コリメートレンズ３の屈折作用による焦点距離 ｆＤ ：コリメートレンズ３の回折部の焦点距離 ν１ ：コリメートレンズ３の材料の基準波長±20ｎｍ
におけるアッベ数 νＤ ：コリメートレンズ３の回折部の基準波長±20ｎ
ｍにおけるアッベ数 ν２ ：結像光学系６の基準波長±20ｎｍにおける等価
アッベ数
【００４１】回折光学面が有する色収差補正効果は前述
した実施形態１と同様であるが、実施形態１においては
説明されていない条件式（２）について以下に説明す
る。
した実施形態１と同様であるが、実施形態１においては
説明されていない条件式（２）について以下に説明す
る。
【００４２】条件式（２）の左辺は、前述した式（６）
で表されるΔ’と結像光学系６においてモードホッピン
グにより生じる色収差Δ２との和とされている。すなわ
ち、条件式（２）は、コリメートレンズ３でモードホッ
ピングにより生じたピントずれが被走査面７上において
拡大された色収差Δ’と、結像光学系６においてモード
ホッピングにより生じる色収差Δ２とを加算したもの
が、右辺の所定の値（0.01×Ｆ２）より小さくなるよう
に規定したものである。
で表されるΔ’と結像光学系６においてモードホッピン
グにより生じる色収差Δ２との和とされている。すなわ
ち、条件式（２）は、コリメートレンズ３でモードホッ
ピングにより生じたピントずれが被走査面７上において
拡大された色収差Δ’と、結像光学系６においてモード
ホッピングにより生じる色収差Δ２とを加算したもの
が、右辺の所定の値（0.01×Ｆ２）より小さくなるよう
に規定したものである。
【００４３】ここで、結像光学系で発生する色収差Δ２
は以下の式（８）により表される。 （８） Δ２＝Ｆ２／ν２ ただし、 Ｆ２：結像光学系６の焦点距離 ν２：結像光学系６の基準波長±20ｎｍにおける等価ア
ッベ数。
は以下の式（８）により表される。 （８） Δ２＝Ｆ２／ν２ ただし、 Ｆ２：結像光学系６の焦点距離 ν２：結像光学系６の基準波長±20ｎｍにおける等価ア
ッベ数。
【００４４】なお、上記「結像光学系の基準波長±20ｎ
ｍにおける等価アッベ数」ν２とは、複数枚のレンズの
アッベ数を１枚のレンズのアッベ数として換算したもの
であり、下記に示す式（９）により表される。 （９） １／ν２＝｛Σ（ν２ｉ×ｆ２ｉ）−１｝×
Ｆ２ ただし、 ν２ｉ：結像光学系６の第ｉ番目のレンズのアッベ数 ｆ２ｉ：結像光学系６の第ｉ番目のレンズの焦点距離
ｍにおける等価アッベ数」ν２とは、複数枚のレンズの
アッベ数を１枚のレンズのアッベ数として換算したもの
であり、下記に示す式（９）により表される。 （９） １／ν２＝｛Σ（ν２ｉ×ｆ２ｉ）−１｝×
Ｆ２ ただし、 ν２ｉ：結像光学系６の第ｉ番目のレンズのアッベ数 ｆ２ｉ：結像光学系６の第ｉ番目のレンズの焦点距離
【００４５】なお、上記「結像光学系６の第ｉ番目のレ
ンズのアッベ数」ν２ｉとは、以下の式（１０）により
表される。 （１０） ν２ｉ＝（Ｎ２Ｂ−１）／（Ｎ２Ａ−Ｎ
２Ｃ） ただし、 Ｎ２Ａ：結像光学系６の第ｉ番目のレンズの材料の基準
波長−20ｎｍにおける屈折率 Ｎ２Ｂ：結像光学系６の第ｉ番目のレンズの材料の基準
波長における屈折率 Ｎ２Ｃ：結像光学系６の第ｉ番目のレンズの材料の基準
波長＋20ｎｍにおける屈折率
ンズのアッベ数」ν２ｉとは、以下の式（１０）により
表される。 （１０） ν２ｉ＝（Ｎ２Ｂ−１）／（Ｎ２Ａ−Ｎ
２Ｃ） ただし、 Ｎ２Ａ：結像光学系６の第ｉ番目のレンズの材料の基準
波長−20ｎｍにおける屈折率 Ｎ２Ｂ：結像光学系６の第ｉ番目のレンズの材料の基準
波長における屈折率 Ｎ２Ｃ：結像光学系６の第ｉ番目のレンズの材料の基準
波長＋20ｎｍにおける屈折率
【００４６】このように、条件式（２）は、コリメート
レンズ３および結像光学系６を透過する際にモードホッ
ピングにより生じるピントずれが、結像光学系６の焦点
距離の１％未満になるように規定している。コリメート
レンズ３に、その回折部の焦点距離ｆＤがこの条件式
（２）を満足するような回折光学面を備えることによ
り、半導体レーザ光源のモードホッピングによる波長シ
フトが発生した場合でもコリメートレンズ３および結像
光学系６を透過する際に生じる色収差を低減し、高解像
の出力を維持することができる。
レンズ３および結像光学系６を透過する際にモードホッ
ピングにより生じるピントずれが、結像光学系６の焦点
距離の１％未満になるように規定している。コリメート
レンズ３に、その回折部の焦点距離ｆＤがこの条件式
（２）を満足するような回折光学面を備えることによ
り、半導体レーザ光源のモードホッピングによる波長シ
フトが発生した場合でもコリメートレンズ３および結像
光学系６を透過する際に生じる色収差を低減し、高解像
の出力を維持することができる。
【００４７】以下、本発明の実施例について具体的に説
明する。
明する。
【００４８】＜実施例１＞本実施例１の光走査装置は、
上記実施形態１に係るものである。
上記実施形態１に係るものである。
【００４９】表１に、本実施例１の光源１からコリメー
トレンズ３までの各レンズ面の曲率半径Ｒ（ｍｍ）、各
レンズの軸上面間隔（各レンズの中心厚および各レンズ
間の空気間隔）Ｄ（ｍｍ）、および各レンズの波長760
ｎｍ、780ｎｍ、800ｎｍにおける屈折率Ｎを示す。ま
た、表１の下段には本実施例１における上記回折光学面
深さ式に示される回折光学面の各定数の値を示す。
トレンズ３までの各レンズ面の曲率半径Ｒ（ｍｍ）、各
レンズの軸上面間隔（各レンズの中心厚および各レンズ
間の空気間隔）Ｄ（ｍｍ）、および各レンズの波長760
ｎｍ、780ｎｍ、800ｎｍにおける屈折率Ｎを示す。ま
た、表１の下段には本実施例１における上記回折光学面
深さ式に示される回折光学面の各定数の値を示す。
【００５０】なお、表１において、各記号に対応させた
数字は物体側から順次増加するようになっており、数字
の左側の＊印は回折光学面であることを示す。
数字は物体側から順次増加するようになっており、数字
の左側の＊印は回折光学面であることを示す。
【００５１】
【表１】
【００５２】本実施例１においてカバーガラス２とコリ
メートレンズ３との距離ＤＣ３は0.0ｍｍとされている
が、実施形態の説明に用いた図２に示すように任意の間
隔を空けることもできる。
メートレンズ３との距離ＤＣ３は0.0ｍｍとされている
が、実施形態の説明に用いた図２に示すように任意の間
隔を空けることもできる。
【００５３】本実施例１において条件式（１）に対応す
る値を表２に示す。表２に示すとおり、本実施形態１は
条件式（１）を満足している。
る値を表２に示す。表２に示すとおり、本実施形態１は
条件式（１）を満足している。
【００５４】
【表２】 ＜実施例２＞本実施例２の光走査装置は、上記実施形態
２に係るものである。
２に係るものである。
【００５５】表３に、本実施例２の光源１からコリメー
トレンズ３までの各レンズ面の曲率半径Ｒ（ｍｍ）、各
レンズの軸上面間隔（各レンズの中心厚および各レンズ
間の空気間隔）Ｄ（ｍｍ）、および各レンズの波長760
ｎｍ、780ｎｍ、800ｎｍにおける屈折率Ｎを示す。ま
た、表３の下段には本実施例２における上記回折光学面
深さ式に示される回折光学面の各定数の値を示す。
トレンズ３までの各レンズ面の曲率半径Ｒ（ｍｍ）、各
レンズの軸上面間隔（各レンズの中心厚および各レンズ
間の空気間隔）Ｄ（ｍｍ）、および各レンズの波長760
ｎｍ、780ｎｍ、800ｎｍにおける屈折率Ｎを示す。ま
た、表３の下段には本実施例２における上記回折光学面
深さ式に示される回折光学面の各定数の値を示す。
【００５６】なお、表３および以下の表４において、各
記号に対応させた数字は物体側から順次増加するように
なっており、数字の左側の＊印は回折光学面であること
を示す。
記号に対応させた数字は物体側から順次増加するように
なっており、数字の左側の＊印は回折光学面であること
を示す。
【００５７】
【表３】
【００５８】表４に、本実施例２の光偏向器５の光反射
面５ａから被走査面７までの各レンズ面の曲率半径Ｒ
（ｍｍ）、各レンズの軸上面間隔（各レンズの中心厚お
よび各レンズ間の空気間隔）Ｄ（ｍｍ）、および各レン
ズの波長760ｎｍ、780ｎｍ、800ｎｍにおける屈折率Ｎ
を示す。
面５ａから被走査面７までの各レンズ面の曲率半径Ｒ
（ｍｍ）、各レンズの軸上面間隔（各レンズの中心厚お
よび各レンズ間の空気間隔）Ｄ（ｍｍ）、および各レン
ズの波長760ｎｍ、780ｎｍ、800ｎｍにおける屈折率Ｎ
を示す。
【００５９】
【表４】
【００６０】本実施例２においてもカバーガラス２とコ
リメートレンズ３との距離ＤＣ３は0.0ｍｍとされてい
るが、実施例１と同様に任意の間隔を空けることもでき
る。
リメートレンズ３との距離ＤＣ３は0.0ｍｍとされてい
るが、実施例１と同様に任意の間隔を空けることもでき
る。
【００６１】本実施例２において条件式（２）に対応す
る値を表５に示す。表５に示すとおり、本実施形態２は
条件式（２）を満足している。
る値を表５に示す。表５に示すとおり、本実施形態２は
条件式（２）を満足している。
【００６２】
【表５】
【００６３】なお、本発明の光走査装置としては、上記
実施例のものに限られるものではなく種々の態様の変更
が可能であり、例えば各レンズの曲率半径Ｒおよびレン
ズ間隔（もしくはレンズ厚）Ｄを適宜変更することが可
能である。
実施例のものに限られるものではなく種々の態様の変更
が可能であり、例えば各レンズの曲率半径Ｒおよびレン
ズ間隔（もしくはレンズ厚）Ｄを適宜変更することが可
能である。
【００６４】また、回折光学面をコリメートレンズの光
源側の面のみに形成したり、両面に形成してもよい。
源側の面のみに形成したり、両面に形成してもよい。
【００６５】また、結像光学系の枚数や形状等の構成は
上記実施例のものに限られるものではなく、変更が可能
である。
上記実施例のものに限られるものではなく、変更が可能
である。
【００６６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る光走
査装置によれば、コリメートレンズに回折光学面を付加
することにより、１枚のコリメートレンズや少ない枚数
の結像光学系を備えた光走査装置であっても、色収差を
低減した光学系を得ることができ、半導体レーザのモー
ドホッピングによる波長シフトの際も被走査面上にて高
解像の出力を維持することが可能な光走査装置を得るこ
とができる。
査装置によれば、コリメートレンズに回折光学面を付加
することにより、１枚のコリメートレンズや少ない枚数
の結像光学系を備えた光走査装置であっても、色収差を
低減した光学系を得ることができ、半導体レーザのモー
ドホッピングによる波長シフトの際も被走査面上にて高
解像の出力を維持することが可能な光走査装置を得るこ
とができる。
【図１】本実施形態に係る光走査装置の構成を示す図
【図２】本実施形態に係る光走査装置の光源からコリメ
ートレンズまでの構成を示す図
ートレンズまでの構成を示す図
１ 光源 ２ カバーガラス ３ コリメートレンズ ４ アナモフィックレンズ ５ 光偏向器（ポリゴンミラー） ５ａ 光偏向反射面 ６ 結像光学系 ７ 被走査面
Claims (2)
- 【請求項１】 半導体レーザよりなる光源と、少なくと
も一方の面が回折光学面で形成され該光源からの光束を
略平行光束に変換する１枚のコリメートレンズと、該コ
リメートレンズから射出された略平行光束を偏向する光
偏向器と、該光偏向器により偏向された光束を被走査面
上に集光し該被走査面の光走査を行なう結像光学系とを
備え、以下の条件式（１）を満足することを特徴とする
光走査装置。 （１） ｜Δ１×Ｆ２／Ｆ１ ２｜ ＜ 0．01 ここで、 Δ１＝Ｆ１ ２×｛（ν１×ｆ１）−１＋（νＤ×ｆＤ）
−１｝ ただし、 Ｆ１ ：コリメートレンズの焦点距離 Ｆ２ ：結像光学系の焦点距離 ｆ１ ：コリメートレンズの屈折作用による焦点距離 ｆＤ ：コリメートレンズの回折部の焦点距離 ν１ ：コリメートレンズの材料の基準波長±20ｎｍに
おけるアッベ数 νＤ ：コリメートレンズの回折部の基準波長±20ｎｍ
におけるアッベ数 - 【請求項２】 半導体レーザよりなる光源と、少なくと
も一方の面が回折光学面で形成され該光源からの光束を
略平行光束に変換する１枚のコリメートレンズと、該コ
リメートレンズから射出された略平行光束を偏向する光
偏向器と、該光偏向器により偏向された光束を被走査面
上に集光し該被走査面の光走査を行なう結像光学系とを
備え、以下の条件式（２）を満足することを特徴とする
光走査装置。 （２） ｜Δ１×（Ｆ２／Ｆ１）２＋Δ２｜ ＜ Ｆ
２／100 ここで、 Δ１＝Ｆ１ ２×｛（ν１×ｆ１）−１＋（νＤ×ｆＤ）
−１｝ Δ２＝Ｆ２／ν２ ただし、 Ｆ１ ：コリメートレンズの焦点距離 Ｆ２ ：結像光学系の焦点距離 ｆ１ ：コリメートレンズの屈折作用による焦点距離 ｆＤ ：コリメートレンズの回折部の焦点距離 ν１ ：コリメートレンズの材料の基準波長±20ｎｍに
おけるアッベ数 νＤ ：コリメートレンズの回折部の基準波長±20ｎｍ
におけるアッベ数 ν２ ：結像光学系の基準波長±20ｎｍにおける等価ア
ッベ数
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34838198A JP4425363B2 (ja) | 1998-12-08 | 1998-12-08 | 光走査装置 |
| US09/453,314 US6101020A (en) | 1998-12-08 | 1999-12-03 | Optical scanner |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34838198A JP4425363B2 (ja) | 1998-12-08 | 1998-12-08 | 光走査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000171741A true JP2000171741A (ja) | 2000-06-23 |
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Family
ID=18396650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34838198A Expired - Fee Related JP4425363B2 (ja) | 1998-12-08 | 1998-12-08 | 光走査装置 |
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|---|---|
| US (1) | US6101020A (ja) |
| JP (1) | JP4425363B2 (ja) |
Cited By (8)
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