JP2020008410A - 電場ベクトル計測の校正方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[電場ベクトル計測装置の構成]
[電場ベクトル計測の校正方法]
[変形例]
Claims (6)
- テラヘルツ波の電場ベクトルについて互いに直交するEx成分及びEy成分を計測する電場ベクトル計測の校正方法であって、
前記テラヘルツ波の電場ベクトルを複数の設定偏光方位について取得する第1のステップと、
前記第1のステップで取得した複数の電場ベクトルの実測偏光方位をそれぞれ導出する第2のステップと、
複数の誤差要因に関する補正係数を含む式を用い、前記複数の電場ベクトルの実測偏光方位を前記複数の設定偏光方位に対してフィッティングする第3のステップと、
前記フィッティングの結果に基づいて前記複数の誤差要因に関する補正係数を取得する第4のステップと、を備える電場ベクトル計測の校正方法。 - 前記第3のステップにおいて、前記フィッティングを下記式に基づいて実行し、
前記第4のステップにおいて、Ex成分及びEy成分の感度比、基準軸からの角度差、及び非直交性に関する補正係数を取得する請求項1記載の電場ベクトル計測の校正方法。
- 前記補正係数に基づいて前記第2のステップで取得した前記複数の電場ベクトルを補正する第5のステップを備える請求項1又は2記載の電場ベクトル計測の校正方法。
- 前記第5のステップにおいて、前記補正を下記式に基づいて実行する請求項3記載の電場ベクトル計測の校正方法。
- 前記第1のステップにおいて、直線偏光の前記テラヘルツ波に対してλ/2波長板を回転させることにより、前記テラヘルツ波の電場ベクトルを複数の設定偏光方位について取得する請求項1〜4のいずれか一項記載の電場ベクトル計測の校正方法。
- 前記第1のステップにおいて、円偏光の前記テラヘルツ波に対してワイヤグリッド偏光子を回転させることにより、前記テラヘルツ波の電場ベクトルを複数の設定偏光方位について取得する請求項1〜4のいずれか一項記載の電場ベクトル計測の校正方法。
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