JP2020004815A - Manufacturing method of chip-type electronic component - Google Patents

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Abstract

To provide a manufacturing method of a chip-type electronic component that can reduce a defect when a protective layer is formed on a side surface of a laminate in which an internal electrode is exposed.SOLUTION: A manufacturing method of a chip-type electronic component according to the present invention includes a step of producing a laminate in which an internal electrode is exposed on a pair of side surfaces facing each other in the width direction orthogonal to the lamination direction, including a plurality of laminated internal electrodes, a step of arranging the laminate on an adhesive sheet, a step of removing the adhesive attached to the side surface of the laminate where the internal electrode is exposed by using a treatment liquid including a component that dissolves the adhesive included in the adhesive sheet, and a step of forming a protective layer on the side surface of the laminate after the adhesive has been removed.SELECTED DRAWING: Figure 9

Description

本発明は、チップ型電子部品の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a chip-type electronic component.

積層セラミック電子部品等のチップ型電子部品の一例として、積層セラミックコンデンサが挙げられる。積層セラミックコンデンサを製造するためには、例えば、内部電極が形成されたセラミックグリーンシートを積層し、得られた未焼成の部品本体を焼成した後、焼結した部品本体の相対向する端面に外部電極を形成する。これによって、両側の端面に引き出された内部電極が外部電極と電気的に接続された積層セラミックコンデンサが得られる。 An example of a chip-type electronic component such as a multilayer ceramic electronic component is a multilayer ceramic capacitor. In order to manufacture a multilayer ceramic capacitor, for example, after laminating ceramic green sheets on which internal electrodes are formed and firing the obtained unsintered component main body, externally facing end faces of the sintered component main body are opposed to each other. Form electrodes. As a result, a multilayer ceramic capacitor is obtained in which the internal electrodes extended to both end surfaces are electrically connected to the external electrodes.

近年、電子部品の小型化及び高機能化に伴い、積層セラミックコンデンサには、小型化及び高容量化が求められている。積層セラミックコンデンサの小型化及び高容量化を実現するためには、セラミックグリーンシート上を占有する内部電極の有効面積、つまり、互いに対向する内部電極の面積を大きくすることが有効である。 In recent years, as electronic components have become smaller and more sophisticated, multilayer ceramic capacitors have been required to be smaller and have higher capacitance. In order to reduce the size and increase the capacity of the multilayer ceramic capacitor, it is effective to increase the effective area of the internal electrodes occupying the ceramic green sheets, that is, the area of the internal electrodes facing each other.

例えば、特許文献1には、積層された複数のセラミックグリーンシートと、上記セラミックグリーンシート間の複数の界面に沿ってそれぞれ配置された内部電極パターンとを含む、マザーブロックを作製する工程と、上記マザーブロックを互いに直交する第1方向の切断線及び第2方向の切断線に沿って切断することによって、未焼成の状態にある複数のセラミック層と複数の内部電極とをもって構成された積層構造を有し、かつ上記第1方向の切断線に沿う切断によって現れた切断側面に上記内部電極が露出した状態にある、複数のグリーンチップを得る切断工程と、上記切断側面にセラミックペーストを塗布して、未焼成のセラミック保護層を形成することによって、未焼成の部品本体を得る塗布工程と、上記未焼成の部品本体を焼成する工程とを備える積層セラミック電子部品の製造方法が開示されている。 For example, Patent Document 1 discloses a step of manufacturing a mother block including a plurality of stacked ceramic green sheets and internal electrode patterns respectively arranged along a plurality of interfaces between the ceramic green sheets; By cutting the mother block along a cutting line in a first direction and a cutting line in a second direction which are orthogonal to each other, a laminated structure including a plurality of unfired ceramic layers and a plurality of internal electrodes is formed. A cutting step of obtaining a plurality of green chips in which the internal electrodes are exposed on a cutting side surface that has appeared by cutting along the cutting line in the first direction, and applying a ceramic paste to the cutting side surface. Forming an unfired ceramic protective layer to obtain an unfired component body, and firing the unfired component body. Method of manufacturing a multilayer ceramic electronic component and a process is disclosed.

特許文献1に記載の積層セラミック電子部品の製造方法では、行及び列方向に配列された複数のグリーンチップの互いの間隔を広げた状態で、複数のグリーンチップを転動させることによって、複数のグリーンチップの各々の切断側面を揃って開放面とする転動工程をさらに行い、上記塗布工程では、上記転動工程の結果、開放面とされた複数のグリーンチップの切断側面にセラミックペーストを同時に塗布することが好ましいとされている。 In the method for manufacturing a multilayer ceramic electronic component described in Patent Literature 1, a plurality of green chips arranged in a row and a column direction are rolled with a plurality of green chips being rolled in a state in which a distance between the green chips is widened. Further performing a rolling step of aligning each cut side surface of the green chip to an open surface, and, in the coating step, applying the ceramic paste simultaneously to the cut side surfaces of the plurality of green chips that are formed as open surfaces as a result of the rolling step. It is preferred to apply.

特許第5678905号公報Japanese Patent No. 5678905

特許文献1に記載の方法では、グリーンチップが粘着シート上に貼り付けられた状態で転動工程が行われる。したがって、グリーンチップが粘着シート上で回転する際に、粘着シートに含まれる粘着剤がグリーンチップに付着することがある。その場合、粘着剤が付着したグリーンチップの切断側面にセラミック保護層が形成されると、セラミック保護層の表面から構造欠陥検査を行った際に外観不良と判断されるおそれがある。 In the method described in Patent Literature 1, the rolling step is performed in a state where the green chip is stuck on the adhesive sheet. Therefore, when the green chip rotates on the adhesive sheet, the adhesive contained in the adhesive sheet may adhere to the green chip. In this case, if a ceramic protective layer is formed on the cut side surface of the green chip to which the adhesive has adhered, there is a possibility that the appearance may be determined to be poor when a structural defect inspection is performed from the surface of the ceramic protective layer.

また、粘着シートに含まれる粘着剤は、部品本体の焼成時に焼失して空洞となる。空洞となった部分には、焼成時に粒子が入り込んでしまうことがあるため、内部電極同士が層をまたがって接触し、ショート不良となるおそれがある。 In addition, the adhesive contained in the adhesive sheet is burned out when the component main body is fired and becomes a cavity. Since particles may enter into the hollow portion during firing, the internal electrodes may contact each other across the layers and short-circuit failure may occur.

なお、上記の問題は、積層セラミックコンデンサを製造する場合に限らず、積層セラミックコンデンサ以外の積層セラミック電子部品をはじめとするチップ型電子部品を製造する場合に共通する問題である。 The above problem is not limited to the case of manufacturing a multilayer ceramic capacitor, but is a problem common to the case of manufacturing a chip-type electronic component such as a multilayer ceramic electronic component other than the multilayer ceramic capacitor.

本発明は上記の問題を解決するためになされたものであり、内部電極が露出した積層体の側面に保護層を形成する際の不良を低減することができるチップ型電子部品の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above problems, and provides a method of manufacturing a chip-type electronic component capable of reducing defects when forming a protective layer on a side surface of a laminate in which internal electrodes are exposed. The purpose is to do.

本発明のチップ型電子部品の製造方法は、積層された複数の内部電極を含み、積層方向に直交する幅方向に相対する一対の側面に上記内部電極が露出した積層体を作製する工程と、上記積層体を粘着シート上に配置する工程と、上記粘着シートに含まれる粘着剤を溶解する成分を含む処理液を用いて、上記内部電極が露出した上記積層体の側面に付着した上記粘着剤を除去する工程と、上記粘着剤が除去された後の上記積層体の側面に保護層を形成する工程と、を備える。 The method for manufacturing a chip-type electronic component of the present invention includes a step of producing a laminate including a plurality of laminated internal electrodes, wherein the internal electrodes are exposed on a pair of side surfaces opposed in a width direction perpendicular to the lamination direction, Disposing the laminate on a pressure-sensitive adhesive sheet, and using a treatment liquid containing a component that dissolves the pressure-sensitive adhesive contained in the pressure-sensitive adhesive sheet, the pressure-sensitive adhesive adhered to the side surface of the laminate where the internal electrodes are exposed And a step of forming a protective layer on a side surface of the laminate after the pressure-sensitive adhesive has been removed.

本発明によれば、内部電極が露出した積層体の側面に保護層を形成する際の不良を低減することができるチップ型電子部品の製造方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a method of manufacturing a chip-type electronic component that can reduce defects when forming a protective layer on a side surface of a laminate in which internal electrodes are exposed.

図1は、本発明のチップ型電子部品の製造方法によって得られる積層セラミックコンデンサの一例を模式的に示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view schematically showing an example of a multilayer ceramic capacitor obtained by the method of manufacturing a chip-type electronic component according to the present invention. 図2は、図1に示す積層セラミックコンデンサを構成する部品本体の一例を模式的に示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view schematically showing an example of a component body constituting the multilayer ceramic capacitor shown in FIG. 図3は、図2に示す部品本体を作製するために準備されるグリーンチップの一例を模式的に示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view schematically showing an example of a green chip prepared for manufacturing the component body shown in FIG. 図4は、図3に示すグリーンチップを作製するために準備される内部電極パターンが形成されたセラミックグリーンシートの一例を模式的に示す平面図である。FIG. 4 is a plan view schematically showing an example of a ceramic green sheet on which an internal electrode pattern prepared for manufacturing the green chip shown in FIG. 3 is formed. 図5(a)は、図4に示すセラミックグリーンシートを積層する工程を説明するための斜視図である。図5(b)及び図5(c)は、図4に示すセラミックグリーンシートを積層する工程を説明するための平面図である。FIG. 5A is a perspective view for explaining a step of laminating the ceramic green sheets shown in FIG. FIGS. 5B and 5C are plan views for explaining a process of laminating the ceramic green sheets shown in FIG. 図6は、マザーブロックを切断することによって得られた複数のグリーンチップの一例を模式的に示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view schematically illustrating an example of a plurality of green chips obtained by cutting the mother block. 図7は、行及び列方向に配列された複数のグリーンチップの互いの間隔を広げた状態を示す斜視図である。FIG. 7 is a perspective view showing a state in which a plurality of green chips arranged in the row and column directions are extended from each other. 図8(a)、図8(b)及び図8(c)は、転動工程の一例を説明するためにグリーンチップの端面方向から示した図である。FIGS. 8A, 8B, and 8C are views from the end face direction of the green chip for explaining an example of the rolling process. 図9は、切断側面に対してポリッシングによる研磨処理を行う方法の一例を模式的に示す概略図である。FIG. 9 is a schematic diagram schematically illustrating an example of a method of performing a polishing process by polishing on a cut side surface. 図10は、切断側面に対して超音波洗浄を行う方法の一例を模式的に示す概略図である。FIG. 10 is a schematic diagram schematically illustrating an example of a method of performing ultrasonic cleaning on a cut side surface. 図11(a)、図11(b)、図11(c)、図11(d)及び図11(e)は、未焼成のセラミック保護層が形成された複数のグリーンチップを再び転動させる転動工程の一例を説明するためにグリーンチップの端面方向から示した図である。FIGS. 11 (a), 11 (b), 11 (c), 11 (d), and 11 (e) show that a plurality of green chips on which unfired ceramic protective layers are formed are rolled again. It is the figure shown from the end face direction of a green chip for explaining an example of a rolling process. 図12は、積層セラミックコンデンサを構成する部品本体の一例を模式的に示すWT断面図である。FIG. 12 is a WT cross-sectional view schematically illustrating an example of a component body constituting the multilayer ceramic capacitor.

以下、本発明のチップ型電子部品の製造方法について説明する。
しかしながら、本発明は、以下の構成に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲において適宜変更して適用することができる。なお、以下において記載する個々の望ましい構成を2つ以上組み合わせたものもまた本発明である。
Hereinafter, a method for manufacturing a chip-type electronic component of the present invention will be described.
However, the present invention is not limited to the following configuration, and can be appropriately modified and applied without changing the gist of the present invention. Note that the present invention also includes a combination of two or more of the individual desirable configurations described below.

チップ型電子部品の製造工程においては、積層体を粘着シート上に配置する際、粘着シートに含まれる粘着剤が積層体に付着してしまう。本発明のチップ型電子部品の製造方法では、内部電極が露出した積層体の側面に保護層を形成する前に、粘着剤を溶解する成分を含む処理液を用いて、該側面に付着した粘着剤を除去することを特徴としている。その結果、粘着剤に起因する外観不良やショート不良といった不良を低減することができる。 In the manufacturing process of the chip-type electronic component, when the laminate is placed on the pressure-sensitive adhesive sheet, the pressure-sensitive adhesive contained in the pressure-sensitive adhesive sheet adheres to the laminate. In the method for manufacturing a chip-type electronic component according to the present invention, before forming a protective layer on the side surface of the laminated body where the internal electrodes are exposed, using a treatment liquid containing a component that dissolves the adhesive, It is characterized by removing the agent. As a result, defects such as defective appearance and short-circuit caused by the adhesive can be reduced.

本発明のチップ型電子部品の製造方法で用いられる処理液において、粘着剤を溶解する成分は、積層体に含まれる樹脂成分と実質的に反応しないことが好ましい。この場合、積層体に与えるダメージが少なく、積層体中の樹脂成分を残しつつ、積層体に付着した粘着剤を溶解させることができる。 In the treatment liquid used in the method for producing a chip-type electronic component of the present invention, it is preferable that the component that dissolves the adhesive does not substantially react with the resin component contained in the laminate. In this case, it is possible to dissolve the adhesive adhered to the laminate while causing little damage to the laminate and leaving the resin component in the laminate.

処理液の選定においては、ハンセン溶解度パラメータに着目する。具体的には、粘着剤を溶解する成分と粘着シートに含まれる粘着剤とのハンセン溶解度パラメータ距離は小さく、粘着剤を溶解する成分と積層体に含まれる樹脂成分とのハンセン溶解度パラメータ距離は大きくなるようにする。したがって、粘着剤を溶解する成分と粘着シートに含まれる粘着剤とのハンセン溶解度パラメータ距離は、粘着剤を溶解する成分と積層体に含まれる樹脂成分とのハンセン溶解度パラメータ距離よりも小さいことが好ましい。 In selecting a processing solution, attention is paid to the Hansen solubility parameter. Specifically, the Hansen solubility parameter distance between the component that dissolves the adhesive and the adhesive included in the adhesive sheet is small, and the Hansen solubility parameter distance between the component that dissolves the adhesive and the resin component included in the laminate is large. To be. Therefore, the Hansen solubility parameter distance between the component that dissolves the adhesive and the adhesive included in the adhesive sheet is preferably smaller than the Hansen solubility parameter distance between the component that dissolves the adhesive and the resin component included in the laminate. .

ハンセン(Hansen)溶解度パラメータは、ある物質が他のある物質にどのくらい溶けるのかを示す溶解性の指標であり、ヒルデブランド(Hildebrand)によって導入された溶解度パラメータを分散項δ、極性項δ、水素結合項δの3成分に分割したものである。分散項δは無極性相互作用による効果、極性項δは双極子間力による効果、水素結合項δは水素結合力の効果を示すものである。ハンセン溶解度パラメータは、下記式により2成分の溶解度パラメータの距離Rを計算し、溶解度を比較することができる。
R={4×(δd1−δd2+(δp1−δp2+(δh1−δh21/2
δd1:成分1の分散項、δd2:成分2の分散項、δp1:成分1の極性項、δp2:成分2の極性項、δh1:成分1の水素結合項、δh2:成分2の水素結合項
The Hansen solubility parameter is a measure of the solubility of a substance in a certain other substance. The solubility parameter introduced by Hildebrand is a dispersion term δ d , a polarity term δ p , it is obtained by dividing the three components of the hydrogen bond [delta] h. The dispersion term δ d indicates the effect of the nonpolar interaction, the polar term δ p indicates the effect of the dipole force, and the hydrogen bond term δ h indicates the effect of the hydrogen bond force. The Hansen solubility parameter can be calculated by calculating the distance R of the two-component solubility parameter according to the following formula, and comparing the solubility.
R = {4 × (δ d1 −δ d2 ) 2 + (δ p1 −δ p2 ) 2 + (δ h1 −δ h2 ) 2 } 1/2
δ d1 : dispersion term of component 1, δ d2 : dispersion term of component 2, δ p1 : polarity term of component 1, δ p2 : polarity term of component 2, δ h1 : hydrogen bonding term of component 1, δ h2 : component Hydrogen bond term of 2

なお、ハンセン溶解度パラメータの定義及び計算方法は、下記の文献に記載されている。
Charles M. Hansen,Hansen Solubility Parameters:A User’s Handbook,CRC Press(2007)
The definition and calculation method of the Hansen solubility parameter are described in the following documents.
Charles M. Hansen, Hansen Solubility Parameters: A User's Handbook, CRC Press (2007)

ハンセン溶解度パラメータの文献値が未知の溶媒については、コンピュータソフトウェア(Hansen Solubility Parameters in Practice(HSPiP))を用いることによって、その化学構造から簡便にハンセン溶解度パラメータを推算することができる。 For a solvent for which the literature value of the Hansen solubility parameter is unknown, the Hansen solubility parameter can be easily estimated from its chemical structure by using computer software (Hansen Solubility Parameters in Practice (HSPiP)).

また、特定のポリマーのハンセン溶解度パラメータについては、通常、該ポリマーを、ハンセン溶解度パラメータが確定している数多くの異なる有機溶媒に溶解させて溶解度を測る溶解度試験を行うことによって決定される。具体的には、あるポリマーの溶解度試験に用いたすべての有機溶媒のハンセン溶解度パラメータの座標を3次元空間に示した際、該ポリマーを溶解した有機溶媒の座標がすべて球の内側に内包され、該ポリマーが溶解しない有機溶媒の座標が球の外側になるような球(溶解度球)を探し出し、溶解度球の中心座標を該ポリマーのハンセン溶解度パラメータとする。 In addition, the Hansen solubility parameter of a specific polymer is usually determined by dissolving the polymer in a number of different organic solvents for which the Hansen solubility parameter is determined, and conducting a solubility test for measuring the solubility. Specifically, when the coordinates of the Hansen solubility parameters of all the organic solvents used for the solubility test of a certain polymer are shown in a three-dimensional space, all the coordinates of the organic solvent that dissolved the polymer are included inside the sphere, A sphere (solubility sphere) is searched for such that the coordinates of the organic solvent in which the polymer does not dissolve are outside the sphere, and the center coordinates of the solubility sphere are used as the Hansen solubility parameters of the polymer.

本発明のチップ型電子部品の製造方法において、粘着剤を溶解する成分は、処理液中に均一に分散されることが好ましい。また、粘着剤を溶解する成分は、処理液中の溶媒との親和性が高いことが好ましい。 In the method of manufacturing a chip-type electronic component according to the present invention, it is preferable that the component that dissolves the pressure-sensitive adhesive is uniformly dispersed in the treatment liquid. Further, it is preferable that the component that dissolves the pressure-sensitive adhesive has a high affinity for the solvent in the treatment liquid.

なお、粘着剤等の溶解性は、処理液を用いた処理の温度、圧力、粘着剤を溶解する成分の含有量といった因子によっても変化する。したがって、同じ成分を含む処理液を用いた場合であっても、積層体をどのように処理するかによって溶解性が変わることがある。例えば、処理液中に積層体を浸漬しただけでは溶解しにくく、一方、処理液を含む物体を積層体に押し当てて擦るといったように圧力をかければ溶解しやすくなる。 The solubility of the pressure-sensitive adhesive and the like also changes depending on factors such as the temperature and pressure of the treatment using the treatment liquid and the content of the component that dissolves the pressure-sensitive adhesive. Therefore, even when a processing solution containing the same components is used, the solubility may change depending on how the laminate is processed. For example, it is difficult to dissolve the laminate simply by immersing the laminate in the treatment liquid. On the other hand, it becomes easier to dissolve when pressure is applied such as pressing an object containing the treatment liquid against the laminate.

本発明のチップ型電子部品の製造方法において、粘着シートに含まれる粘着剤としては、例えば、アクリレート系粘着剤等が挙げられる。アクリレート系粘着剤は、アルキル(メタ)アクリレートをモノマー単位として含有する重合体を含む粘着剤である。(メタ)アクリレートは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。上記重合体は、ホモポリマーであってもよく、2種以上のアルキル(メタ)アクリレートを共重合させて得られるコポリマーであってもよい。また、上記重合体は、アルキル(メタ)アクリレートと共重合可能な他のモノマー単位をさらに含有してもよい。アルキル(メタ)アクリレートを構成するアルキル基の炭素数は1〜20であることが好ましく、1〜10であることがより好ましい。このような(メタ)アクリレートとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート等が挙げられる。アクリレート系粘着剤としては、例えば、ポリブチルアクリレート系粘着剤等が挙げられる。 In the method for manufacturing a chip-type electronic component of the present invention, examples of the adhesive contained in the adhesive sheet include an acrylate-based adhesive. The acrylate-based pressure-sensitive adhesive is a pressure-sensitive adhesive containing a polymer containing an alkyl (meth) acrylate as a monomer unit. (Meth) acrylate means acrylate or methacrylate. The polymer may be a homopolymer or a copolymer obtained by copolymerizing two or more kinds of alkyl (meth) acrylates. Further, the polymer may further contain another monomer unit copolymerizable with the alkyl (meth) acrylate. The alkyl group constituting the alkyl (meth) acrylate preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms. Examples of such (meth) acrylate include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, and the like. Examples of the acrylate-based pressure-sensitive adhesive include a polybutyl acrylate-based pressure-sensitive adhesive.

本発明のチップ型電子部品の製造方法において、粘着シートに含まれる粘着剤がアクリレート系粘着剤である場合、上記処理液は、一般式RCOOR又はRCOR(R及びRはそれぞれ独立にアルキル基)で表される化合物を含む溶液であることが好ましい。アクリレート系粘着剤は、COOR(Rはアルキル(メタ)アクリレートを構成するアルキル基)という構造を有している。そのため、粘着剤の構造と類似したRCOORで表されるエステル系化合物、又は、RCORで表されるケトン系化合物を含む溶液と処理液として用いることにより、アクリレート系粘着剤を容易に溶解することができる。 In the method for producing a chip-type electronic component according to the present invention, when the pressure-sensitive adhesive contained in the pressure-sensitive adhesive sheet is an acrylate-based pressure-sensitive adhesive, the treatment liquid is represented by the general formula R 1 COOR 2 or R 1 COR 2 (R 1 and R 2 Are each independently a solution containing a compound represented by an alkyl group). The acrylate-based pressure-sensitive adhesive has a structure called COOR (R is an alkyl group constituting alkyl (meth) acrylate). Therefore, by using an ester-based compound represented by R 1 COOR 2 or a ketone-based compound represented by R 1 COR 2 similar to the structure of the pressure-sensitive adhesive as a treatment liquid, an acrylate-based pressure-sensitive adhesive is used. It can be easily dissolved.

一般式RCOORにおいて、Rは炭素数1〜2のアルキル基であることが好ましく、Rは炭素数1〜4のアルキル基であることが好ましい。また、一般式RCORにおいて、Rは炭素数1〜2のアルキル基であることが好ましく、Rは炭素数1〜4のアルキル基であることが好ましい。R及びRは、同じアルキル基であってもよいし、異なるアルキル基であってもよい。 In the general formula R 1 COOR 2 , R 1 is preferably an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and R 2 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. In the general formula R 1 COR 2 , R 1 is preferably an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and R 2 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. R 1 and R 2 may be the same alkyl group or different alkyl groups.

中でも、処理液に含まれる上記化合物は、酢酸n−ブチル、酢酸n−プロピル、酢酸エチル、酢酸メチル及びメチルエチルケトンからなる群より選択されるいずれか1種であることが好ましい。 In particular, the compound contained in the treatment liquid is preferably any one selected from the group consisting of n-butyl acetate, n-propyl acetate, ethyl acetate, methyl acetate, and methyl ethyl ketone.

処理液に含まれる上記化合物の含有量は特に限定されないが、処理液は、上記化合物を20重量%以上、75重量%以下含むことが好ましい。 The content of the compound in the treatment liquid is not particularly limited, but the treatment liquid preferably contains the compound in an amount of 20% by weight or more and 75% by weight or less.

なお、アクリレート系粘着剤以外の粘着剤を用いる場合であっても、上記と同様の考え方を適用することができる。 Note that, even when an adhesive other than the acrylate-based adhesive is used, the same concept as described above can be applied.

以下、本発明のチップ型電子部品の製造方法の一実施形態として、積層セラミックコンデンサの製造方法を例にとって説明する。なお、本発明の製造方法は、積層セラミックコンデンサ以外の積層セラミック電子部品をはじめとするチップ型電子部品にも適用することができる。 Hereinafter, a method of manufacturing a multilayer ceramic capacitor will be described as an embodiment of a method of manufacturing a chip-type electronic component according to the present invention. The manufacturing method of the present invention can be applied to chip-type electronic components such as multilayer ceramic electronic components other than the multilayer ceramic capacitor.

まず、本発明のチップ型電子部品の製造方法によって得られる積層セラミックコンデンサについて説明する。
図1は、本発明のチップ型電子部品の製造方法によって得られる積層セラミックコンデンサの一例を模式的に示す斜視図である。図2は、図1に示す積層セラミックコンデンサを構成する部品本体の一例を模式的に示す斜視図である。
First, a multilayer ceramic capacitor obtained by the method for manufacturing a chip-type electronic component of the present invention will be described.
FIG. 1 is a perspective view schematically showing an example of a multilayer ceramic capacitor obtained by the method of manufacturing a chip-type electronic component according to the present invention. FIG. 2 is a perspective view schematically showing an example of a component body constituting the multilayer ceramic capacitor shown in FIG.

本明細書においては、積層セラミックコンデンサ及び部品本体の積層方向、幅方向、長さ方向を、図1に示す積層セラミックコンデンサ11及び図2に示す部品本体12においてそれぞれ矢印T、W、Lで定める方向とする。ここで、積層方向と幅方向と長さ方向とは互いに直交する。積層方向は、複数のセラミック層25と複数対の内部電極26及び27とが積み上げられていく方向である。 In the present specification, the laminating direction, width direction, and length direction of the multilayer ceramic capacitor and the component body are defined by arrows T, W, and L in the multilayer ceramic capacitor 11 shown in FIG. 1 and the component body 12 shown in FIG. 2, respectively. Direction. Here, the laminating direction, the width direction, and the length direction are orthogonal to each other. The laminating direction is a direction in which a plurality of ceramic layers 25 and a plurality of pairs of internal electrodes 26 and 27 are stacked.

図1に示す積層セラミックコンデンサ11は、部品本体12を備えている。図2に示すように、部品本体12は、直方体状又は略直方体状をなしており、積層方向Tに相対する1対の主面13及び14と、積層方向Tに直交する幅方向Wに相対する1対の側面15及び16と、積層方向T及び幅方向Wに直交する長さ方向Lに相対する1対の端面17及び18とを有している。 The multilayer ceramic capacitor 11 shown in FIG. As shown in FIG. 2, the component body 12 has a rectangular parallelepiped shape or a substantially rectangular parallelepiped shape, and has a pair of main surfaces 13 and 14 facing the laminating direction T and a width direction W orthogonal to the laminating direction T. And a pair of end surfaces 17 and 18 facing in a length direction L perpendicular to the laminating direction T and the width direction W.

本明細書においては、1対の端面17及び端面18に交差し、かつ、積層方向Tに沿う積層セラミックコンデンサ11又は部品本体12の断面をLT断面という。また、側面15又は側面16に交差し、かつ、積層方向Tに沿う積層セラミックコンデンサ11又は部品本体12の断面をWT断面という。また、側面15、側面16、端面17又は端面18に交差し、かつ、積層方向Tに直交する積層セラミックコンデンサ11又は部品本体12の断面をLW断面という。 In this specification, a cross section of the multilayer ceramic capacitor 11 or the component body 12 that intersects the pair of end faces 17 and 18 and that is along the lamination direction T is referred to as an LT cross section. Further, a cross section of the multilayer ceramic capacitor 11 or the component body 12 that intersects the side surface 15 or the side surface 16 and extends along the lamination direction T is referred to as a WT cross section. Further, a cross section of the multilayer ceramic capacitor 11 or the component body 12 that intersects the side surface 15, the side surface 16, the end surface 17 or the end surface 18 and is orthogonal to the lamination direction T is referred to as an LW cross section.

図3は、図2に示す部品本体を作製するために準備されるグリーンチップの一例を模式的に示す斜視図である。
後述するように、図2に示す部品本体12は、図3に示すグリーンチップ19の互いに対向する1対の側面(以下、切断側面という)20及び21上に、未焼成のセラミック保護層22及び23をそれぞれ形成したものを焼成することにより得られる。以後の説明において、焼成後の部品本体12におけるグリーンチップ19に由来する部分を積層体24と呼ぶことにする。また、本明細書において、積層体は、未焼成の状態であるグリーンチップも含む概念である。
FIG. 3 is a perspective view schematically showing an example of a green chip prepared for manufacturing the component body shown in FIG.
As will be described later, the component body 12 shown in FIG. 2 includes an unfired ceramic protective layer 22 and a pair of mutually facing side surfaces (hereinafter, referred to as cut side surfaces) 20 and 21 of the green chip 19 shown in FIG. It is obtained by baking the product in which each of 23 is formed. In the following description, a portion derived from the green chip 19 in the fired component body 12 will be referred to as a laminate 24. In addition, in the present specification, the concept of the laminate includes a green chip that is in an unfired state.

図2及び図3に示すように、部品本体12における積層体24は、主面13及び14の方向に延びかつ主面13及び14に直交する方向に積層された複数のセラミック層25と、セラミック層25間の界面に沿って形成された複数対の内部電極26及び27とをもって構成された積層構造を有している。部品本体12は、その側面15及び16をそれぞれ与えるように積層体24の切断側面20及び21上に配置される1対のセラミック保護層22及び23を有している。セラミック保護層22及び23の厚みは、互いに同じであることが好ましい。 As shown in FIGS. 2 and 3, the laminate 24 in the component body 12 includes a plurality of ceramic layers 25 extending in the directions of the main surfaces 13 and 14 and stacked in a direction orthogonal to the main surfaces 13 and 14. It has a laminated structure constituted by a plurality of pairs of internal electrodes 26 and 27 formed along the interface between the layers 25. The component body 12 has a pair of ceramic protective layers 22 and 23 disposed on the cut side surfaces 20 and 21 of the laminate 24 to provide the side surfaces 15 and 16 respectively. The thicknesses of the ceramic protective layers 22 and 23 are preferably the same.

なお、図1及び図2においては、説明の便宜のために、積層体24とセラミック保護層22及び23の各々との境界が明瞭に図示されているが、このような境界は明瞭に現れなくてもよい。 In FIGS. 1 and 2, for convenience of description, boundaries between the stacked body 24 and each of the ceramic protective layers 22 and 23 are clearly illustrated, but such boundaries are not clearly illustrated. You may.

図2及び図3に示すように、内部電極26と内部電極27とは、セラミック層25を介して互いに対向する。内部電極26と内部電極27とが対向することによって、電気的特性が発現する。すなわち、図1に示す積層セラミックコンデンサ11においては、静電容量が形成される。 As shown in FIGS. 2 and 3, the internal electrode 26 and the internal electrode 27 face each other with the ceramic layer 25 interposed therebetween. When the internal electrode 26 and the internal electrode 27 face each other, electrical characteristics are developed. That is, in the multilayer ceramic capacitor 11 shown in FIG. 1, capacitance is formed.

内部電極26は、部品本体12の端面17に露出する露出端を持ち、内部電極27は、部品本体12の端面18に露出する露出端を持っている。一方、上述したセラミック保護層22及び23が配置されているため、内部電極26及び27は、部品本体12の側面15及び16には露出しない。 The internal electrode 26 has an exposed end exposed on the end face 17 of the component body 12, and the internal electrode 27 has an exposed end exposed on the end face 18 of the component body 12. On the other hand, the internal electrodes 26 and 27 are not exposed on the side surfaces 15 and 16 of the component body 12 because the ceramic protective layers 22 and 23 described above are arranged.

図1に示すように、積層セラミックコンデンサ11は、さらに、内部電極26及び27の各々の露出端にそれぞれ電気的に接続されるように、部品本体12の少なくとも1対の端面17及び18上にそれぞれ形成された、外部電極28及び29を備えている。 As shown in FIG. 1, the multilayer ceramic capacitor 11 is further provided on at least one pair of end faces 17 and 18 of the component body 12 so as to be electrically connected to the exposed ends of the internal electrodes 26 and 27, respectively. External electrodes 28 and 29 are formed respectively.

外部電極28及び29は、部品本体12の少なくとも1対の端面17及び18上にそれぞれ形成されており、図1では、主面13及び14並びに側面15及び16の各一部にまで回り込んだ部分を有している。 The external electrodes 28 and 29 are formed on at least one pair of end surfaces 17 and 18 of the component main body 12, respectively. In FIG. 1, the external electrodes 28 and 29 extend to a part of each of the main surfaces 13 and 14 and the side surfaces 15 and 16. Has a part.

内部電極を構成する導電材料としては、例えば、Ni、Cu、Ag、Pd、Ag−Pd合金、Au等の金属材料を用いることができる。 As the conductive material forming the internal electrode, for example, a metal material such as Ni, Cu, Ag, Pd, an Ag-Pd alloy, or Au can be used.

セラミック層及びセラミック保護層を構成するセラミック材料としては、例えば、BaTiO、CaTiO、SrTiO、CaZrO等を主成分とする誘電体セラミックを用いることができる。 As a ceramic material constituting the ceramic layer and the ceramic protective layer, for example, a dielectric ceramic containing BaTiO 3 , CaTiO 3 , SrTiO 3 , CaZrO 3, or the like as a main component can be used.

セラミック保護層を構成するセラミック材料は、セラミック層を構成するセラミック材料と少なくとも主成分が同じであることが好ましい。この場合、同じ組成のセラミック材料がセラミック層とセラミック保護層との双方に用いられることが特に好ましい。 It is preferable that the ceramic material forming the ceramic protective layer has at least the same main component as the ceramic material forming the ceramic layer. In this case, it is particularly preferable that ceramic materials having the same composition are used for both the ceramic layer and the ceramic protective layer.

上述のとおり、本発明の製造方法は、積層セラミックコンデンサ以外の積層セラミック電子部品にも適用することができる。例えば、積層セラミック電子部品が圧電部品の場合には、PZT系セラミック等の圧電体セラミック、サーミスタの場合には、スピネル系セラミック等の半導体セラミックが用いられる。 As described above, the manufacturing method of the present invention can be applied to multilayer ceramic electronic components other than the multilayer ceramic capacitor. For example, when the multilayer ceramic electronic component is a piezoelectric component, a piezoelectric ceramic such as a PZT ceramic is used, and when a thermistor is used, a semiconductor ceramic such as a spinel ceramic is used.

外部電極は、下地層と下地層上に形成されるめっき層とで構成されることが好ましい。下地層を構成する導電材料としては、例えば、Cu、Ni、Ag、Pd、Ag−Pd合金、Au等を用いることができる。下地層は、導電性ペーストを未焼成の部品本体上に塗布して部品本体と同時焼成するコファイア法を適用することによって形成されてもよく、導電性ペーストを焼成後の部品本体上に塗布して焼き付けるポストファイア法を適用することによって形成されてもよい。あるいは、下地層は、直接めっきにより形成されてもよく、熱硬化性樹脂を含む導電性樹脂を硬化させることにより形成されてもよい。 The external electrode is preferably composed of a base layer and a plating layer formed on the base layer. As the conductive material forming the underlayer, for example, Cu, Ni, Ag, Pd, an Ag-Pd alloy, Au, or the like can be used. The base layer may be formed by applying a conductive paste to the unfired component body and applying a cofiring method of simultaneously firing the component body, and applying the conductive paste to the fired component body. It may be formed by applying a post-fire method of baking. Alternatively, the underlayer may be formed by direct plating, or may be formed by curing a conductive resin including a thermosetting resin.

下地層上に形成されるめっき層は、Niめっき、及び、その上のSnめっきの2層構造であることが好ましい。 The plating layer formed on the underlayer preferably has a two-layer structure of Ni plating and Sn plating thereon.

次に、本発明のチップ型電子部品の製造方法の一実施形態として、図1に示す積層セラミックコンデンサ11の製造方法について説明する。 Next, a method of manufacturing the multilayer ceramic capacitor 11 shown in FIG. 1 will be described as one embodiment of a method of manufacturing a chip-type electronic component according to the present invention.

以下に示す各実施形態は例示であり、異なる実施形態で示した構成の部分的な置換又は組み合わせが可能であることは言うまでもない。第2実施形態以降では、第1実施形態と共通の事項についての記述は省略し、異なる点についてのみ説明する。特に、同様の構成による同様の作用効果については、実施形態毎には逐次言及しない。 Each embodiment described below is an exemplification, and it is needless to say that partial replacement or combination of the configurations shown in different embodiments is possible. In the second and subsequent embodiments, description of items common to the first embodiment will be omitted, and only different points will be described. In particular, the same operation and effect of the same configuration will not be sequentially described for each embodiment.

[第1実施形態]
第1実施形態では、内部電極が露出した積層体の側面に対して、研削処理又は切削処理が行われる。
[First Embodiment]
In the first embodiment, a grinding process or a cutting process is performed on the side surface of the stacked body where the internal electrodes are exposed.

まず、セラミック層となるべきセラミックグリーンシートが準備される。セラミックグリーンシートには、上述した誘電体セラミック等を含むセラミック原料の他、バインダ樹脂及び溶剤等が含まれる。例えば、セラミック粉末、バインダ樹脂及び溶剤を含むセラミックスラリーが準備され、このセラミックスラリーが、キャリアフィルム上で、ダイコータ、グラビアコータ、マイクログラビアコータ等を用いてシート状に成形されることにより、セラミックグリーンシートが得られる。上記セラミックスラリーには、可塑剤、分散剤、帯電防止剤等の種々の添加剤が含まれていてもよい。 First, a ceramic green sheet to be a ceramic layer is prepared. The ceramic green sheet contains a binder resin, a solvent, and the like, in addition to the ceramic raw material including the above-described dielectric ceramic and the like. For example, a ceramic slurry containing a ceramic powder, a binder resin, and a solvent is prepared, and the ceramic slurry is formed into a sheet shape on a carrier film using a die coater, a gravure coater, a micro gravure coater, or the like, thereby forming a ceramic green. A sheet is obtained. The ceramic slurry may contain various additives such as a plasticizer, a dispersant, and an antistatic agent.

セラミックグリーンシートに含まれるバインダ樹脂としては、例えば、セルロース系、アクリル系、ポリビニルアルコール(PVA)系、ポリビニルブチラール(PVB)系の樹脂等を用いることができる。また、セラミックグリーンシートに含まれる可塑剤としては、例えば、フタル酸ジオクチル(DOP)等のフタル酸エステル系等を用いることができる。 As the binder resin contained in the ceramic green sheet, for example, a cellulose-based, acrylic-based, polyvinyl alcohol (PVA) -based, polyvinyl butyral (PVB) -based resin, or the like can be used. Further, as a plasticizer contained in the ceramic green sheet, for example, a phthalate ester such as dioctyl phthalate (DOP) or the like can be used.

セラミックグリーンシートの厚みは、通常3μm以下であり、1μm以下であることが好ましく、0.6μm以下であることがより好ましい。 The thickness of the ceramic green sheet is usually 3 μm or less, preferably 1 μm or less, and more preferably 0.6 μm or less.

次に、セラミックグリーンシート上に、所定のパターンをもって導電性ペーストが印刷される。導電性ペーストには、上述した金属材料の他、バインダ樹脂及び溶剤等が含まれる。導電性ペーストは、例えば、スクリーン印刷法、インクジェット法、グラビア印刷法等を用いてセラミックグリーンシート上に塗布される。 Next, a conductive paste is printed on the ceramic green sheet in a predetermined pattern. The conductive paste contains a binder resin, a solvent, and the like, in addition to the above-described metal materials. The conductive paste is applied on the ceramic green sheet using, for example, a screen printing method, an inkjet method, a gravure printing method, or the like.

図4は、図3に示すグリーンチップを作製するために準備される内部電極パターンが形成されたセラミックグリーンシートの一例を模式的に示す平面図である。
図4に示すように、セラミック層25となるべきセラミックグリーンシート31上に、所定のパターンをもって導電性ペーストが印刷されることによって、内部電極26及び27の各々となるべき内部電極パターン32が形成される。具体的には、セラミックグリーンシート31上に、帯状の内部電極パターン32が複数列形成される。
FIG. 4 is a plan view schematically showing an example of a ceramic green sheet on which an internal electrode pattern prepared for manufacturing the green chip shown in FIG. 3 is formed.
As shown in FIG. 4, an internal electrode pattern 32 to be each of the internal electrodes 26 and 27 is formed by printing a conductive paste in a predetermined pattern on a ceramic green sheet 31 to be the ceramic layer 25. Is done. Specifically, a plurality of strip-shaped internal electrode patterns 32 are formed on the ceramic green sheet 31.

内部電極パターンの厚みは特に限定されないが、1.5μm以下であることが好ましい。 The thickness of the internal electrode pattern is not particularly limited, but is preferably 1.5 μm or less.

その後、内部電極パターンが形成されたセラミックグリーンシートをずらしながら所定枚数積層し、その上下に内部電極パターンが形成されていないセラミックグリーンシートを所定枚数積層する積層工程が行われる。 Thereafter, a laminating step is performed in which a predetermined number of ceramic green sheets on which the internal electrode patterns are formed are stacked while being shifted, and a predetermined number of ceramic green sheets on which no internal electrode patterns are formed are stacked above and below the ceramic green sheets.

図5(a)は、図4に示すセラミックグリーンシートを積層する工程を説明するための斜視図である。
図5(a)に示すように、内部電極パターン32が形成されたセラミックグリーンシート31を、内部電極パターン32の幅方向に沿って所定間隔、すなわち内部電極パターン32の幅方向寸法の半分ずつずらしながら所定枚数積層する。さらに、その上下に内部電極パターンが印刷されていないセラミックグリーンシートを所定枚数積層する。
FIG. 5A is a perspective view for explaining a step of laminating the ceramic green sheets shown in FIG.
As shown in FIG. 5A, the ceramic green sheets 31 on which the internal electrode patterns 32 are formed are shifted by a predetermined distance along the width direction of the internal electrode patterns 32, that is, by half the width of the internal electrode patterns 32. While stacking a predetermined number of sheets. Further, a predetermined number of ceramic green sheets on which no internal electrode pattern is printed are laminated on the upper and lower sides.

図5(b)及び図5(c)は、図4に示すセラミックグリーンシートを積層する工程を説明するための平面図である。図5(b)及び図5(c)は、それぞれ1層目及び2層目のセラミックグリーンシートが拡大して示されている。
図5(b)及び図5(c)には、帯状の内部電極パターン32が延びる方向と直交する第1方向(図5(b)及び図5(c)における上下方向)の切断線33、及び、これに対して直交する第2方向(図5(b)及び図5(c)における左右方向)の切断線34の各一部が示されている。帯状の内部電極パターン32は、2つ分の内部電極26及び27が各々の引出し部同士で連結されたものが、第2方向に沿って連なった形状を有している。図5(b)及び図5(c)では、切断線33及び34が共通して示されている。
FIGS. 5B and 5C are plan views for explaining a process of laminating the ceramic green sheets shown in FIG. FIGS. 5B and 5C show enlarged ceramic green sheets of the first and second layers, respectively.
FIGS. 5B and 5C show cutting lines 33 in a first direction (vertical direction in FIGS. 5B and 5C) orthogonal to the direction in which the strip-shaped internal electrode patterns 32 extend. In addition, each part of a cutting line 34 in a second direction (the left-right direction in FIGS. 5B and 5C) orthogonal to this is shown. The band-shaped internal electrode pattern 32 has a shape in which two internal electrodes 26 and 27 are connected to each other at the respective lead portions, and are connected in the second direction. 5 (b) and 5 (c), the cutting lines 33 and 34 are shown in common.

積層工程の結果、積層された複数のセラミックグリーンシートと、セラミックグリーンシート間の複数の界面に沿ってそれぞれ配置された内部電極パターンとを含む、マザーブロックが得られる。得られたマザーブロックは、静水圧プレス等の手段により積層方向にプレスされる。 As a result of the laminating step, a mother block including a plurality of laminated ceramic green sheets and internal electrode patterns arranged along a plurality of interfaces between the ceramic green sheets is obtained. The obtained mother block is pressed in the laminating direction by means such as a hydrostatic press.

プレスされたマザーブロックを互いに直交する第1方向の切断線及び第2方向の切断線に沿って切断することによって、複数のグリーンチップ(積層体)が得られる。この切断には、例えば、ダイシング、押切り、レーザカット等の方法が適用される。 By cutting the pressed mother block along a cutting line in the first direction and a cutting line in the second direction that are orthogonal to each other, a plurality of green chips (laminates) can be obtained. For this cutting, for example, a method such as dicing, pressing and laser cutting is applied.

図6は、マザーブロックを切断することによって得られた複数のグリーンチップの一例を模式的に示す斜視図である。
図6に示すように、マザーブロック35は、互いに直交する第1方向の切断線33及び第2方向の切断線34に沿って切断され、行及び列方向に配列された複数のグリーンチップ19が得られる。図6では、マザーブロック35の内部に位置する最上の内部電極パターン32が破線で示されている。なお、図6では、1個のマザーブロック35から6個のグリーンチップ19が取り出されているが、実際には、より多数のグリーンチップ19が取り出される。また、図6に示すマザーブロック35はあくまでも一例であり、実際には、セラミックグリーンシート31及び内部電極パターン32を積層する枚数、及び、帯状の内部電極パターン32を形成する列の個数はより多くなる。
FIG. 6 is a perspective view schematically illustrating an example of a plurality of green chips obtained by cutting the mother block.
As shown in FIG. 6, the mother block 35 is cut along a cutting line 33 in a first direction and a cutting line 34 in a second direction orthogonal to each other, and a plurality of green chips 19 arranged in the row and column directions are formed. can get. In FIG. 6, the uppermost internal electrode pattern 32 located inside the mother block 35 is indicated by a broken line. In FIG. 6, six green chips 19 are taken out from one mother block 35. However, actually, a larger number of green chips 19 are taken out. Further, the mother block 35 shown in FIG. 6 is merely an example, and in actuality, the number of stacked ceramic green sheets 31 and the internal electrode patterns 32 and the number of rows forming the band-shaped internal electrode patterns 32 are larger. Become.

図3に示したように、各グリーンチップ19は、未焼成の状態にある複数のセラミック層25と複数の内部電極26及び27とをもって構成された積層構造を有している。グリーンチップ19の切断側面20及び21は、第1方向の切断線33に沿う切断によって現れた面であり、切断端面36及び37は、第2方向の切断線34に沿う切断によって現れた面である。切断側面20及び21には、内部電極26及び27のすべてが露出している。また、一方の切断端面36には、内部電極26のみが露出し、他方の切断端面37には、内部電極27のみが露出している。 As shown in FIG. 3, each green chip 19 has a laminated structure including a plurality of ceramic layers 25 in an unfired state and a plurality of internal electrodes 26 and 27. The cutting side surfaces 20 and 21 of the green chip 19 are surfaces that have appeared by cutting along the cutting line 33 in the first direction, and the cutting end surfaces 36 and 37 are surfaces that have appeared by cutting along the cutting line 34 in the second direction. is there. All of the internal electrodes 26 and 27 are exposed on the cut side surfaces 20 and 21. Further, only the internal electrode 26 is exposed on one cut end surface 36, and only the internal electrode 27 is exposed on the other cut end surface 37.

図6に示すように、行及び列方向に配列された状態の複数のグリーンチップ19は、拡張性のある粘着シート38上に貼り付けられる。粘着シート38は、図示しないエキスパンド装置によって拡張される。 As shown in FIG. 6, the plurality of green chips 19 arranged in the row and column directions are pasted on an expandable adhesive sheet 38. The adhesive sheet 38 is expanded by an expanding device (not shown).

図7は、行及び列方向に配列された複数のグリーンチップの互いの間隔を広げた状態を示す斜視図である。
図6に示す粘着シート38を拡張することによって、図7に示すように、行及び列方向に配列された複数のグリーンチップ19は、互いの間隔を広げた状態とされる。
FIG. 7 is a perspective view showing a state in which a plurality of green chips arranged in the row and column directions are extended from each other.
By expanding the pressure-sensitive adhesive sheet 38 shown in FIG. 6, as shown in FIG. 7, the plurality of green chips 19 arranged in the row and column directions are in a state where the intervals between them are widened.

このとき、後述の転動工程において、複数のグリーンチップ19同士がぶつからず、円滑に転動させることを可能とする程度に、粘着シート38が拡張される。 At this time, in a rolling step described later, the pressure-sensitive adhesive sheet 38 is expanded to such an extent that the plurality of green chips 19 do not collide with each other and can be rolled smoothly.

粘着シート38は、一旦拡張されると、完全に元の形態には戻らない可塑性を有していることが好ましい。この場合、拡張された後の粘着シート38のハンドリングが容易である。例えば、マザーブロック35の切断によって複数のグリーンチップ19を得た後、グリーンチップ19に含まれるバインダ樹脂によって、隣り合うグリーンチップ19の切断側面20及び21同士あるいは切断端面36及び37同士が再接着する可能性があるが、一旦拡張された粘着シート38が完全に元の形態には戻らない場合、切断側面20及び21同士あるいは切断端面36及び37同士が接触することがないため、これらが再接着するような事態を避けることができる。 The pressure-sensitive adhesive sheet 38 preferably has plasticity that does not return to its original shape once expanded. In this case, the handling of the expanded adhesive sheet 38 is easy. For example, after a plurality of green chips 19 are obtained by cutting the mother block 35, the cut side surfaces 20 and 21 or the cut end surfaces 36 and 37 of the adjacent green chips 19 are re-adhered by the binder resin contained in the green chip 19. However, if the expanded pressure-sensitive adhesive sheet 38 does not completely return to its original shape, the cut side surfaces 20 and 21 or the cut end surfaces 36 and 37 do not come into contact with each other. Adhesion can be avoided.

粘着シート38は、例えば、基材と、基材上に設けられた粘着層とから構成される。基材を構成する材料としては、例えば、塩化ビニル樹脂等が挙げられる。また、粘着層に含まれる粘着剤としては、例えば、アクリレート系粘着剤等が挙げられる。 The adhesive sheet 38 includes, for example, a base material and an adhesive layer provided on the base material. As a material constituting the base material, for example, vinyl chloride resin and the like can be mentioned. The pressure-sensitive adhesive contained in the pressure-sensitive adhesive layer includes, for example, an acrylate-based pressure-sensitive adhesive.

その後、複数のグリーンチップを転動させることによって、複数のグリーンチップの各々の切断側面を揃って開放面とする転動工程が行われる。 Thereafter, a rolling step of rolling the plurality of green chips to make the cut side surfaces of the plurality of green chips uniform and open surfaces is performed.

図8(a)、図8(b)及び図8(c)は、転動工程の一例を説明するためにグリーンチップの端面方向から示した図である。 FIGS. 8A, 8B, and 8C are views from the end face direction of the green chip for explaining an example of the rolling process.

図8(a)に示すように、粘着シート38上に貼り付けられた複数のグリーンチップ19が、粘着シート38とともに支持台40上に置かれ、他方、転動作用板41がグリーンチップ19に対して上から作用し得る状態に置かれる。支持台40及び転動作用板41は、好ましくは、シリコーンゴムから構成される。 As shown in FIG. 8A, a plurality of green chips 19 stuck on the adhesive sheet 38 are placed on the support 40 together with the adhesive sheet 38, while the rolling plate 41 is attached to the green chip 19. It is placed in a state where it can act from above. The support 40 and the rolling plate 41 are preferably made of silicone rubber.

支持台40を転動作用板41に対して矢印の方向へ移動させることによって、図8(b)及び図8(c)に示すように、複数のグリーンチップ19が90度回転し、一方の切断側面20を上方へ向けた状態とされる。この状態で転動作用板41を除去すれば、切断側面20が開放面となる。 By moving the support 40 in the direction of the arrow with respect to the rolling plate 41, the plurality of green chips 19 are rotated 90 degrees as shown in FIGS. The cutting side surface 20 is in a state of facing upward. If the rolling plate 41 is removed in this state, the cut side surface 20 becomes an open surface.

なお、グリーンチップの転動をより円滑にするため、粘着シートから粘着性ゴムシート上へグリーンチップを移し替えてから転動操作を行ってもよい。 In order to smooth the rolling of the green chips, the rolling operation may be performed after transferring the green chips from the adhesive sheet to the adhesive rubber sheet.

第1実施形態では、転動工程により上方へ向いた切断側面に対して、砥粒を用いた研削処理又はバイトを用いた切削処理が行われる。なお、研削処理と切削処理とが組み合わされて行われてもよく、この場合、研削処理及び切削処理を行う順序は特に限定されない。 In the first embodiment, a grinding process using abrasive grains or a cutting process using a cutting tool is performed on the cut side surface facing upward by the rolling process. Note that the grinding process and the cutting process may be performed in combination. In this case, the order in which the grinding process and the cutting process are performed is not particularly limited.

研削処理としては、例えば、固定砥粒を用いた研削処理(ダイシング、グラインディング等)、固定砥粒を用いた研磨処理(ドライポリッシュ、テープ研磨等)、遊離砥粒を用いた研磨処理(ラッピング、ポリッシング等)等が挙げられる。これらの研削処理を組み合わせてもよい。切削処理としては、例えば、バイトの回転による切削処理、グリーンチップの回転による切削処理、バイトの直線運動による切削処理、グリーンチップの直線運動による切削処理等が挙げられる。これらの切削処理を組み合わせてもよい。具体的には、サーフェースプレーナー等の切削装置を用いた切削処理が挙げられる。 As the grinding process, for example, a grinding process using fixed abrasives (dicing, grinding, etc.), a polishing process using fixed abrasives (dry polishing, tape polishing, etc.), a polishing process using free abrasives (lapping) , Polishing, etc.). These grinding processes may be combined. Examples of the cutting process include cutting by rotating a cutting tool, cutting by rotating a green chip, cutting by linear motion of a cutting tool, and cutting by linear motion of a green tip. These cutting processes may be combined. Specifically, a cutting process using a cutting device such as a surface planar is exemplified.

図9は、切断側面に対してポリッシングによる研磨処理を行う方法の一例を模式的に示す概略図である。
図9に示すように、研磨ヘッド230に保持された複数のグリーンチップ19を研磨パッド220に押し付けて接触させ、供給管240から研磨液(研削液)Aを滴下させながら、研磨ヘッド230と研磨定盤210とを相対的に回転させることによって、切断側面が研磨される。図9に示すように、複数のグリーンチップ19が粘着シート38上に貼り付けられた状態のまま、それぞれのグリーンチップ19の切断側面が研磨されることが好ましい。
FIG. 9 is a schematic diagram schematically illustrating an example of a method of performing a polishing process by polishing on a cut side surface.
As shown in FIG. 9, the plurality of green chips 19 held by the polishing head 230 are pressed against and brought into contact with the polishing pad 220, and while the polishing liquid (grinding liquid) A is dropped from the supply pipe 240, the polishing head 230 and the polishing head 230 are polished. By rotating the platen 210 relatively, the cut side surface is polished. As shown in FIG. 9, it is preferable that a cut side surface of each green chip 19 is polished while the plurality of green chips 19 are stuck on the adhesive sheet 38.

粘着シートに含まれる粘着剤が切断側面に付着している場合、研削処理に用いられる研削液又は切削処理に用いられる切削液には、粘着剤を溶解する成分が含まれていることが好ましい。研削処理に用いられる研削液又は切削処理に用いられる切削液によって、切断側面に付着した粘着剤を除去することができる。 When the pressure-sensitive adhesive contained in the pressure-sensitive adhesive sheet adheres to the cut side surface, it is preferable that the grinding fluid used for the grinding treatment or the cutting fluid used for the cutting treatment contains a component that dissolves the pressure-sensitive adhesive. The adhesive adhered to the cut side surface can be removed by the grinding fluid used for the grinding process or the cutting fluid used for the cutting process.

研削処理又は切削処理が行われている間、グリーンチップの切断側面には圧力がかかるため、粘着剤の溶解が促進される。研削処理又は切削処理の際、グリーンチップを固定している粘着シートには研削液又は切削液が付着しないようにすることが好ましい。しかし、予期せぬ飛散によって粘着シートに研削液又は切削液が付着した場合であっても、切断側面に比べて圧力がかからないため、粘着剤の溶解速度は遅い。したがって、研削処理又は切削処理が行われている間に、グリーンチップを固定している粘着剤が溶解し、グリーンチップが脱落するという事態は生じない。 During the grinding process or the cutting process, pressure is applied to the cut side surface of the green chip, so that the dissolution of the adhesive is promoted. At the time of the grinding process or the cutting process, it is preferable that a grinding fluid or a cutting fluid does not adhere to the adhesive sheet to which the green chip is fixed. However, even when the grinding fluid or the cutting fluid adheres to the pressure-sensitive adhesive sheet due to unexpected scattering, the pressure is not applied as compared to the cut side surface, so that the pressure-sensitive adhesive dissolution rate is low. Therefore, while the grinding process or the cutting process is being performed, the situation in which the adhesive fixing the green chip is dissolved and the green chip falls off does not occur.

第1実施形態では、研削処理又は切削処理が行われた後の切断側面に対して洗浄処理が行われてもよい。この場合、洗浄処理に用いられる洗浄液には、粘着剤を溶解する成分が含まれていてもよい。洗浄処理に用いられる洗浄液によって、切断側面に付着した粘着剤を除去することができる。 In the first embodiment, a cleaning process may be performed on the cut side surface after the grinding process or the cutting process is performed. In this case, the cleaning liquid used for the cleaning process may contain a component that dissolves the adhesive. The adhesive adhered to the cut side surface can be removed by the cleaning liquid used for the cleaning process.

洗浄処理としては、例えば、超音波洗浄等が挙げられる。超音波洗浄は、公知の方法によって行うことができ、例えば、超音波洗浄機を用いて、保持具によって保持された状態の複数のグリーンチップを洗浄液に浸漬し、洗浄槽に設けられた超音波振動子にて振動が付与された洗浄液によって複数のグリーンチップを洗浄することができる。その際、洗浄液中を進行する振動波の向きと平行な方向に沿って保持具を揺動させることが好ましい。これにより、さらなる洗浄効果を得ることができる。 As the cleaning treatment, for example, ultrasonic cleaning or the like can be mentioned. Ultrasonic cleaning can be performed by a known method, for example, using an ultrasonic cleaning machine, immersing a plurality of green chips held by a holder in a cleaning liquid, ultrasonic wave provided in a cleaning tank The plurality of green chips can be cleaned with the cleaning liquid to which vibration is applied by the vibrator. At this time, it is preferable to swing the holder along a direction parallel to the direction of the vibration wave traveling in the cleaning liquid. Thereby, a further cleaning effect can be obtained.

図10は、切断側面に対して超音波洗浄を行う方法の一例を模式的に示す概略図である。
図10に示すように、保持具330に保持された複数のグリーンチップ19を洗浄液Bに浸漬する。洗浄槽310内に設置された振動板320及びこれらに組み付けられた超音波振動子321にて振動が付与された洗浄液Bによって、切断側面が超音波洗浄される。図10に示すように、複数のグリーンチップ19が粘着シート38上に貼り付けられた状態のまま、それぞれのグリーンチップ19の切断側面が超音波洗浄されることが好ましい。
FIG. 10 is a schematic diagram schematically illustrating an example of a method of performing ultrasonic cleaning on a cut side surface.
As shown in FIG. 10, the plurality of green chips 19 held by the holder 330 are immersed in the cleaning liquid B. The cut side surface is ultrasonically cleaned by the cleaning liquid B vibrated by the vibration plate 320 installed in the cleaning tank 310 and the ultrasonic vibrator 321 assembled thereto. As shown in FIG. 10, it is preferable that the cut side surface of each green chip 19 is subjected to ultrasonic cleaning while the plurality of green chips 19 are stuck on the adhesive sheet 38.

第1実施形態では、必要に応じて、グリーンチップに付着した液(研削液又は切削液、及び、必要に応じて洗浄液)を洗い流すためのリンス処理が行われる。リンス処理では、水を用いた洗浄を行うことが好ましく、水を用いた超音波洗浄を行うことがより好ましい。 In the first embodiment, a rinsing process for washing off the liquid (a grinding liquid or a cutting liquid and, if necessary, a cleaning liquid) attached to the green chip is performed as needed. In the rinsing treatment, it is preferable to perform cleaning using water, and it is more preferable to perform ultrasonic cleaning using water.

リンス処理の後、乾燥工程が行われることが好ましい。乾燥工程の方式としては、例えば、エアーにより水を飛ばす方式、対象物を回転させて遠心力により水を飛ばす方式、エアー及び遠心力により水を飛ばす方式、40℃以上100℃以下の温度に設定されたオーブン内で乾燥させる方式等が挙げられる。 After the rinsing treatment, a drying step is preferably performed. As a method of the drying step, for example, a method of blowing water by air, a method of rotating an object to fly water by centrifugal force, a method of flying water by air and centrifugal force, and setting a temperature of 40 ° C or more and 100 ° C or less Drying in a baked oven.

続いて、切断側面に未焼成のセラミック保護層が形成される。未焼成のセラミック保護層は、例えば、セラミック保護層用グリーンシートを貼り付けるか、又は、セラミック保護層用ペーストを塗布することにより形成される。 Subsequently, an unfired ceramic protective layer is formed on the cut side surface. The unfired ceramic protective layer is formed by, for example, attaching a green sheet for a ceramic protective layer, or applying a paste for a ceramic protective layer.

セラミック保護層用グリーンシート又はセラミック保護層用ペーストには、マザーブロックを作製するためのセラミックグリーンシートと同じセラミック原料が主成分として含有されていることが好ましい。 The green sheet for the ceramic protective layer or the paste for the ceramic protective layer preferably contains, as a main component, the same ceramic material as the ceramic green sheet for producing the mother block.

未焼成のセラミック保護層を形成した後、必要に応じて、乾燥工程が行われる。乾燥工程では、未焼成のセラミック保護層が形成されたグリーンチップが、例えば、120℃に設定されたオーブンに5分間入れられる。 After forming the unfired ceramic protective layer, a drying step is performed, if necessary. In the drying step, the green chip on which the unfired ceramic protective layer is formed is placed in, for example, an oven set at 120 ° C. for 5 minutes.

その後、未焼成のセラミック保護層が形成された複数のグリーンチップを再び転動させる転動工程が行われる。 Thereafter, a rolling step of rolling the green chips on which the unfired ceramic protective layers are formed again is performed.

図11(a)、図11(b)、図11(c)、図11(d)及び図11(e)は、未焼成のセラミック保護層が形成された複数のグリーンチップを再び転動させる転動工程の一例を説明するためにグリーンチップの端面方向から示した図である。 FIGS. 11 (a), 11 (b), 11 (c), 11 (d), and 11 (e) show that a plurality of green chips on which unfired ceramic protective layers are formed are rolled again. It is the figure shown from the end face direction of a green chip for explaining an example of a rolling process.

図11(a)に示すように、切断側面20に未焼成のセラミック保護層22が形成された複数のグリーンチップ19は、粘着シート38を介して支持台40によって支持され、複数のグリーンチップ19に対して、転動作用板41が上から作用し得る状態に置かれる。 As shown in FIG. 11A, a plurality of green chips 19 each having a cut side surface 20 on which an unfired ceramic protective layer 22 is formed are supported by a support 40 via an adhesive sheet 38, and a plurality of green chips 19 are formed. Is placed in a state in which the rolling plate 41 can act from above.

支持台40を転動作用板41に対して矢印の方向へ移動させることによって、図11(b)、図11(c)、図11(d)及び図11(e)に示すように、複数のグリーンチップ19が90度回転することを2回繰り返し、他方の切断側面21を上方へ向けた状態とされる。この状態で転動作用板41を除去すれば、切断側面21が開放面となる。 By moving the support 40 in the direction of the arrow with respect to the rolling plate 41, as shown in FIGS. 11 (b), 11 (c), 11 (d) and 11 (e), The green chip 19 is rotated twice by 90 degrees, and the other cut side surface 21 is directed upward. If the rolling plate 41 is removed in this state, the cut side surface 21 becomes an open surface.

図11(a)に示すように、2回目の転動工程の前においては、切断側面21が粘着シート38に接している。そのため、図11(b)、図11(c)、図11(d)及び図11(e)に示すように、グリーンチップ19が粘着シート38上で回転した後の切断側面21には、粘着シート38に含まれる粘着剤が付着している。 As shown in FIG. 11A, before the second rolling step, the cut side surface 21 is in contact with the adhesive sheet 38. Therefore, as shown in FIG. 11B, FIG. 11C, FIG. 11D and FIG. 11E, after the green chip 19 is rotated on the adhesive sheet 38, The adhesive contained in the sheet 38 is attached.

そして、開放面とされた反対側の切断側面に対しても、研削処理又は切削処理が行われる。例えば、1回目(一方の切断側面)に研削処理が行われた場合、2回目(他方の切断側面)に研削処理が行われてもよいし、切削処理が行われてもよい。 Then, a grinding process or a cutting process is also performed on the cut side opposite to the open side. For example, when the grinding process is performed for the first time (one cut side surface), the grinding process may be performed for the second time (the other cut side surface), or the cutting process may be performed.

上述のとおり、切断側面には粘着剤が付着しているため、2回目の研削処理に用いられる研削液又は切削処理に用いられる切削液には、粘着剤を溶解する成分が含まれていることが好ましい。2回目の研削処理に用いられる研削液又は切削処理に用いられる切削液は、1回目の研削処理に用いられる研削液又は切削処理に用いられる切削液と同じであってもよいし、異なっていてもよい。 As described above, since the adhesive is attached to the cut side surface, the grinding fluid used for the second grinding process or the cutting fluid used for the cutting process contains a component that dissolves the adhesive. Is preferred. The grinding fluid used for the second grinding process or the cutting fluid used for the cutting process may be the same as or different from the grinding fluid used for the first grinding process or the cutting fluid used for the cutting process. Is also good.

2回目の研削処理又は切削処理が行われた後の切断側面に対して、洗浄処理が行われてもよい。この場合、2回目の洗浄処理に用いられる洗浄液には、粘着剤を溶解する成分が含まれていてもよい。2回目の洗浄処理に用いられる洗浄液は、1回目の洗浄処理に用いられる洗浄液と同じであってもよいし、異なっていてもよい。 A cleaning process may be performed on the cut side surface after the second grinding process or the cutting process is performed. In this case, the cleaning solution used for the second cleaning process may contain a component that dissolves the adhesive. The cleaning solution used in the second cleaning process may be the same as or different from the cleaning solution used in the first cleaning process.

上記と同様に、反対側の切断側面に未焼成のセラミック保護層が形成される。未焼成のセラミック保護層を形成した後、必要に応じて、乾燥工程が行われる。以上により、未焼成の部品本体が得られる。 As before, an unfired ceramic protective layer is formed on the opposite cut side. After forming the unfired ceramic protective layer, a drying step is performed, if necessary. As described above, an unsintered component body is obtained.

続いて、複数の未焼成の部品本体を粘着シートとともに支持台から外し、未焼成の部品本体から粘着シートを剥離した後、未焼成の部品本体が焼成される。焼成温度は、未焼成の部品本体に含まれるセラミック材料や金属材料にもよるが、例えば900℃以上、1300℃以下の範囲である。 Subsequently, after removing the plurality of unfired component bodies together with the adhesive sheet from the support base and peeling the adhesive sheet from the unfired component body, the unfired component body is fired. The firing temperature is, for example, in the range of 900 ° C. or more and 1300 ° C. or less, although it depends on the ceramic material or metal material contained in the unsintered component body.

焼成後の部品本体の両端面に導電性ペーストを塗布し、焼き付け、さらに、必要に応じて、めっきが施されることによって、外部電極が形成される。なお、導電性ペーストの塗布は、未焼成の部品本体に対して実施されてもよく、未焼成の部品本体の焼成時に、導電性ペーストの焼付けを同時に行うようにしてもよい。 External electrodes are formed by applying a conductive paste to both end surfaces of the fired component body, baking, and, if necessary, plating. The application of the conductive paste may be performed on the unsintered component body, and the conductive paste may be baked simultaneously with the unsintered component body.

このようにして、図1に示す積層セラミックコンデンサ11が製造される。 Thus, the multilayer ceramic capacitor 11 shown in FIG. 1 is manufactured.

[第2実施形態]
第2実施形態では、第1実施形態と異なり、内部電極が露出した積層体の側面に対して、研削処理又は切削処理が行われず、洗浄処理が行われる。
[Second embodiment]
In the second embodiment, unlike the first embodiment, the cleaning process is performed on the side surface of the stacked body where the internal electrodes are exposed, without performing the grinding process or the cutting process.

まず、第1実施形態で説明した方法により、積層された複数のセラミックグリーンシートと、セラミックグリーンシート間の複数の界面に沿ってそれぞれ配置された内部電極パターンとを含む、マザーブロックが作製される。得られたマザーブロックは、静水圧プレス等の手段により積層方向にプレスされる。 First, according to the method described in the first embodiment, a mother block including a plurality of stacked ceramic green sheets and internal electrode patterns arranged along a plurality of interfaces between the ceramic green sheets is manufactured. . The obtained mother block is pressed in the laminating direction by means such as a hydrostatic press.

プレスされたマザーブロックを互いに直交する第1方向の切断線及び第2方向の切断線に沿って切断することによって、複数のグリーンチップが得られる。この切断には、例えば、ダイシング、押切り、レーザカット等の方法が適用される。 By cutting the pressed mother block along a cutting line in the first direction and a cutting line in the second direction orthogonal to each other, a plurality of green chips can be obtained. For this cutting, for example, a method such as dicing, pressing and laser cutting is applied.

第1実施形態で説明したように、行及び列方向に配列された状態の複数のグリーンチップは、拡張性のある粘着シート上に貼り付けられる。そして、粘着シートを拡張することによって、行及び列方向に配列された複数のグリーンチップは、互いの間隔を広げた状態とされる。その後、複数のグリーンチップを転動させることによって、複数のグリーンチップの各々の切断側面を揃って開放面とする転動工程が行われる。 As described in the first embodiment, the plurality of green chips arranged in the row and column directions are pasted on an expandable adhesive sheet. Then, by expanding the pressure-sensitive adhesive sheet, the plurality of green chips arranged in the row and column directions are in a state where the interval between them is widened. Thereafter, a rolling step of rolling the plurality of green chips to make the cut side surfaces of the plurality of green chips uniform and open surfaces is performed.

第2実施形態では、転動工程により上方へ向いた切断側面に対して、洗浄処理が行われる。洗浄処理の方法は、第1実施形態で説明したとおりである。 In the second embodiment, a cleaning process is performed on the cut side surface facing upward by the rolling process. The method of the cleaning process is as described in the first embodiment.

粘着シートに含まれる粘着剤が切断側面に付着している場合、洗浄処理に用いられる洗浄液には、粘着剤を溶解する成分が含まれていることが好ましい。洗浄処理に用いられる洗浄液によって、切断側面に付着した粘着剤を除去することができる。 When the pressure-sensitive adhesive contained in the pressure-sensitive adhesive sheet adheres to the cut side surface, it is preferable that the cleaning liquid used for the cleaning treatment contains a component that dissolves the pressure-sensitive adhesive. The adhesive adhered to the cut side surface can be removed by the cleaning liquid used for the cleaning process.

第2実施形態では、必要に応じて、グリーンチップに付着した洗浄液を洗い流すためのリンス処理が行われる。リンス処理では、水を用いた洗浄を行うことが好ましく、水を用いた超音波洗浄を行うことがより好ましい。 In the second embodiment, a rinsing process for washing off the cleaning liquid adhering to the green chip is performed as necessary. In the rinsing treatment, it is preferable to perform cleaning using water, and it is more preferable to perform ultrasonic cleaning using water.

リンス処理の後、乾燥工程が行われることが好ましい。乾燥工程の方式としては、例えば、第1実施形態で説明した方式が挙げられる。 After the rinsing treatment, a drying step is preferably performed. Examples of the method of the drying step include the method described in the first embodiment.

続いて、切断側面に未焼成のセラミック保護層が形成される。未焼成のセラミック保護層を形成する方法は、第1実施形態で説明したとおりである。 Subsequently, an unfired ceramic protective layer is formed on the cut side surface. The method for forming the unfired ceramic protective layer is as described in the first embodiment.

未焼成のセラミック保護層を形成した後、必要に応じて、乾燥工程が行われる。その後、未焼成のセラミック保護層が形成された複数のグリーンチップを再び転動させる転動工程が行われる。 After forming the unfired ceramic protective layer, a drying step is performed, if necessary. Thereafter, a rolling step of rolling the green chips on which the unfired ceramic protective layers are formed again is performed.

そして、開放面とされた反対側の切断側面に対しても、洗浄処理が行われることが好ましい。切断側面には粘着剤が付着しているため、2回目の洗浄処理に用いられる洗浄液には、粘着剤を溶解する成分が含まれていることが好ましい。2回目の洗浄処理に用いられる洗浄液は、1回目の洗浄処理に用いられる洗浄液と同じであってもよいし、異なっていてもよい。 Then, it is preferable that the cleaning process is also performed on the cut side opposite to the open side. Since the pressure-sensitive adhesive is attached to the cut side surface, it is preferable that the cleaning liquid used in the second cleaning treatment contains a component that dissolves the pressure-sensitive adhesive. The cleaning solution used in the second cleaning process may be the same as or different from the cleaning solution used in the first cleaning process.

上記と同様に、反対側の切断側面に未焼成のセラミック保護層を形成した後、必要に応じて、乾燥工程が行われる。以上により、未焼成の部品本体が得られる。 Similarly to the above, after forming the unfired ceramic protective layer on the opposite cut side surface, a drying step is performed as necessary. As described above, an unsintered component body is obtained.

得られた未焼成の部品本体を焼成した後、焼成後の部品本体の両端面に外部電極を形成することにより、図1に示す積層セラミックコンデンサ11が製造される。 After firing the obtained unfired component body, external electrodes are formed on both end surfaces of the fired component body, whereby the multilayer ceramic capacitor 11 shown in FIG. 1 is manufactured.

[その他の実施形態]
これまでの実施形態で説明したように、本発明のチップ型電子部品の製造方法は、粘着剤を除去する工程の前に、積層体を粘着シート上で転動させることによって、内部電極が露出した積層体の側面を開放面とする工程をさらに備えることが好ましい。
[Other embodiments]
As described in the above embodiments, the method for manufacturing a chip-type electronic component of the present invention is such that the internal electrodes are exposed by rolling the laminate on the adhesive sheet before the step of removing the adhesive. It is preferable that the method further includes a step of setting a side surface of the laminated body as an open surface.

本発明のチップ型電子部品の製造方法は、粘着剤を除去する工程の前に、積層体を粘着シートから剥離する工程をさらに備えてもよい。 The method for manufacturing a chip-type electronic component of the present invention may further include a step of peeling the laminate from the pressure-sensitive adhesive sheet before the step of removing the pressure-sensitive adhesive.

本発明のチップ型電子部品の製造方法において、粘着シートに含まれる粘着剤を溶解する成分を含む処理液を用いて、内部電極が露出した積層体の側面に付着した粘着剤を除去する方法は、上述した実施形態で説明した方法に限定されるものではなく、研削液、切削液又は洗浄液以外の処理液を用いて粘着剤を除去してもよい。その場合、内部電極が露出した積層体の側面に対して、研削処理、切削処理又は洗浄処理を行わなくてもよい。 In the method of manufacturing a chip-type electronic component according to the present invention, a method of removing a pressure-sensitive adhesive adhered to a side surface of a laminate in which an internal electrode is exposed using a treatment liquid containing a component that dissolves a pressure-sensitive adhesive contained in a pressure-sensitive adhesive sheet However, the present invention is not limited to the method described in the above-described embodiment, and the adhesive may be removed using a processing liquid other than a grinding liquid, a cutting liquid, or a cleaning liquid. In that case, it is not necessary to perform a grinding process, a cutting process, or a cleaning process on the side surface of the laminate in which the internal electrodes are exposed.

上述した実施形態では、マザーブロックを第1方向の切断線及び第2方向の切断線に切断して複数のグリーンチップを得てから、切断側面に未焼成のセラミック保護層を形成していた。この場合、内部電極が露出したグリーンチップの側面にセラミック保護層を形成する前に、該側面に付着した粘着剤を除去していた。しかしながら、以下のように変更することも可能である。 In the embodiment described above, the mother block is cut into a cutting line in the first direction and a cutting line in the second direction to obtain a plurality of green chips, and then the unfired ceramic protective layer is formed on the cut side surface. In this case, before forming the ceramic protective layer on the side surface of the green chip where the internal electrodes are exposed, the adhesive adhered to the side surface was removed. However, it is also possible to make the following changes.

すなわち、マザーブロックを第1方向の切断線のみに沿って切断することによって、第1方向の切断線に沿う切断によって現れた切断側面に内部電極が露出した、複数の棒状のグリーンブロック体を得てから、切断側面に未焼成のセラミック保護層を形成した後、第2方向の切断線に切断して複数の未焼成の部品本体を得て、その後、未焼成の部品本体を焼成してもよい。この場合、内部電極が露出したグリーンブロック体の側面にセラミック保護層を形成する前に、該側面に付着した粘着剤を除去すればよい。焼成後は、前述の実施形態と同様の工程を行うことによって、積層セラミック等の積層セラミック電子部品を製造することができる。 That is, by cutting the mother block along only the cutting line in the first direction, a plurality of rod-shaped green block bodies are obtained in which the internal electrodes are exposed on the cutting side surfaces that appear by cutting along the cutting line in the first direction. Then, after forming the unfired ceramic protective layer on the cut side surface, cutting along the cutting line in the second direction to obtain a plurality of unfired component bodies, and then firing the unfired component body Good. In this case, before forming the ceramic protective layer on the side surface of the green block body where the internal electrodes are exposed, the adhesive adhered to the side surface may be removed. After firing, a multilayer ceramic electronic component such as a multilayer ceramic can be manufactured by performing the same steps as in the above-described embodiment.

また、積層セラミック電子部品以外のチップ型電子部品を製造する場合においても、上記と同様に、内部電極が露出した積層体の側面に付着した粘着剤を除去すればよい。 Also, in the case of manufacturing a chip-type electronic component other than the multilayer ceramic electronic component, the adhesive adhered to the side surface of the laminate with the internal electrodes exposed may be removed in the same manner as described above.

[実験例]
以下の実験例では、ポリブチルアクリレート系粘着剤からなる粘着層をポリ塩化ビニル(PVC)基材上に形成したもの、及び、グリーンチップに含まれる樹脂成分であるポリビニルブチラール(PVB)からなる樹脂層をガラス板上に形成したものを用意した。
[Example of experiment]
In the following experimental examples, an adhesive layer made of a polybutyl acrylate-based adhesive was formed on a polyvinyl chloride (PVC) substrate, and a resin made of polyvinyl butyral (PVB), which is a resin component contained in a green chip. What prepared the layer on the glass plate was prepared.

(実施例1〜実施例10)
粘着剤を溶解する成分として、表1に示す液体を、水に対して所定の量を添加した処理液を作製した。
粘着剤を溶解する成分の選定においては、溶解させたい粘着剤とのハンセン溶解度パラメータ距離は小さく、溶解させたくない樹脂成分であるPVBとのハンセン溶解度パラメータ距離は大きくなるようにした。また、溶媒となる水との親和性が高く、溶解しやすいものを選定した。
(Examples 1 to 10)
As a component for dissolving the pressure-sensitive adhesive, a treatment liquid was prepared by adding a liquid shown in Table 1 to water in a predetermined amount.
In selecting a component for dissolving the pressure-sensitive adhesive, the Hansen solubility parameter distance to the pressure-sensitive adhesive to be dissolved was small, and the Hansen solubility parameter distance to PVB, which is a resin component not to be dissolved, was large. Further, those having high affinity with water as a solvent and being easily dissolved were selected.

表1には、粘着剤を溶解する成分とポリブチルアクリレート系粘着剤とのハンセン溶解度パラメータ距離Δδ1、及び、粘着剤を溶解する成分と樹脂成分であるPVBとのハンセン溶解度パラメータ距離Δδ2を示す。 Table 1 shows the Hansen solubility parameter distance Δδ1 between the component that dissolves the adhesive and the polybutyl acrylate-based adhesive, and the Hansen solubility parameter distance Δδ2 between PVB that is the resin component and the component that dissolves the adhesive.

作製した処理液を含ませたウエスを用いて、常温で、用意した粘着層及び樹脂層を1分間こすり続けた。その後、処理液を水で洗い流して乾燥させた後、粘着層及び樹脂層の表面を指で触った。その際、粘着力を感じなければ「溶解する」と判定し、粘着力が残っていれば「溶解しない」と判定した。 The prepared adhesive layer and resin layer were rubbed for 1 minute at room temperature using a waste cloth containing the prepared treatment liquid. Thereafter, the treatment liquid was washed away with water and dried, and the surfaces of the adhesive layer and the resin layer were touched with a finger. At that time, it was determined that "dissolve" if no adhesive force was felt, and "not dissolved" if adhesive force remained.

(比較例1)
実施例1〜実施例10で作製した処理液に代えて、水を用いて上記と同様の評価を行った。
(Comparative Example 1)
The same evaluation as above was performed using water instead of the treatment liquids prepared in Examples 1 to 10.

表1では、「粘着剤は溶解し、樹脂成分は溶解しない」という結果になった場合、○と判定し、それ以外は×と判定した。 In Table 1, when the result was "the adhesive dissolves but the resin component did not dissolve", it was judged as "O", and otherwise, it was judged as "x".

Figure 2020004815
Figure 2020004815

表1より、実施例1〜実施例10で作製した処理液を用いた場合、ポリブチルアクリレート系粘着剤は溶解し、樹脂成分であるPVBは溶解しないことが確認された。これらの結果から、処理液に含まれる成分と粘着剤の構造が近い場合、両者の親和性が高く、溶解しやすいと考えられる。 From Table 1, it was confirmed that when the treatment solutions prepared in Examples 1 to 10 were used, the polybutyl acrylate-based pressure-sensitive adhesive was dissolved, and the resin component PVB was not dissolved. From these results, it is considered that when the components contained in the treatment liquid and the structure of the pressure-sensitive adhesive are close to each other, they have high affinity and are easily dissolved.

[チップ型電子部品の構造]
本発明のチップ型電子部品の製造方法に限らず、内部電極が露出した積層体の側面に対して、研磨処理等の研削処理が行われる場合、積層体の角部は丸みを帯びている。なお、積層体の角部とは、積層体の3面が交わる部分である。
[Structure of chip-type electronic components]
Not only in the method of manufacturing a chip-type electronic component according to the present invention, but also when a grinding process such as a polishing process is performed on a side surface of the laminate where the internal electrodes are exposed, the corners of the laminate are rounded. Note that the corner of the laminate is a portion where three surfaces of the laminate intersect.

このようなチップ型電子部品の一実施形態として、積層セラミックコンデンサを例にとって説明する。 As an embodiment of such a chip-type electronic component, a multilayer ceramic capacitor will be described as an example.

図12は、積層セラミックコンデンサを構成する部品本体の一例を模式的に示すWT断面図である。図12において、各部の名称及び符号は図2と対応している。
図12に示すように、積層体24の一方の端面において、上下4箇所の角部は、いずれも丸みを帯びている。同様に、積層体24の他方の端面においても、上下4箇所の角部は、いずれも丸みを帯びている。したがって、内部電極26の端部を結んだ仮想線Lと、積層体24の角部の最も外側と該角部に最も近い内部電極26の端部を結んだ仮想線Lとがなす角度(図12中、θで示す角度)は、0°よりも大きい。
FIG. 12 is a WT cross-sectional view schematically illustrating an example of a component body constituting the multilayer ceramic capacitor. 12, the names and reference numerals of the respective parts correspond to those in FIG.
As shown in FIG. 12, on one end face of the laminated body 24, the upper and lower four corners are all rounded. Similarly, on the other end face of the laminate 24, the four corners at the top and bottom are all rounded. Therefore, a virtual line L 1 connecting the ends of the internal electrodes 26, the angle formed between the virtual line L 2 is formed by connecting the end nearest the internal electrodes 26 on the outermost side and the corner portion of the corner of the stack 24 (The angle indicated by θ in FIG. 12) is greater than 0 °.

このように、積層体の少なくとも1つの角部が丸みを帯びていると、その後に形成される保護層の角部も丸みを帯びるため、耐衝撃性が向上する。 As described above, when at least one corner of the laminate is rounded, the corners of the protective layer formed thereafter are also rounded, so that impact resistance is improved.

積層体の角部に最も近い内部電極から保護層の表面までの厚さ(図12中、Xで示す長さ)は、10μm以上であることが好ましい。
内部電極に近い保護層の厚さが10μm以上であると、外部から内部電極に水分が侵入しにくくなるため、耐湿信頼性の低下を防止することができる。
(In FIG. 12, the length indicated by X 1) thickness from the nearest inner electrode at the corner portions of the laminate to the surface of the protective layer is preferably 10μm or more.
If the thickness of the protective layer close to the internal electrode is 10 μm or more, it is difficult for moisture to enter the internal electrode from the outside, so that it is possible to prevent a decrease in moisture resistance reliability.

内部電極の端部を結んだ仮想線と積層体の角部の最も外側との距離(図12中、Xで示す長さ)は、15μm未満であることが好ましい。
積層体の角部の丸みが大きくなりすぎると、保護層を形成した後に、保護層と積層体との間に隙間が生じやすくなる。その隙間から水分が侵入すると、耐湿信頼性が低下してしまう。上記の距離を15μm未満とすることにより、積層体の角部の丸みにしっかり追従するように保護層を形成することができる。
(In FIG. 12, the length indicated by X 2) the distance between the outermost corners of the stack and the virtual line connecting the ends of the internal electrodes is preferably less than 15 [mu] m.
If the roundness of the corners of the laminate is too large, a gap is likely to be formed between the protective layer and the laminate after forming the protective layer. When moisture enters through the gap, the moisture resistance reliability is reduced. When the above distance is less than 15 μm, the protective layer can be formed so as to firmly follow the roundness of the corners of the laminate.

11 積層セラミックコンデンサ
12 部品本体
13,14 主面
15,16 側面
17,18 端面
19 グリーンチップ
20,21 切断側面
22,23 セラミック保護層
24 積層体
25 セラミック層
26,27 内部電極
28,29 外部電極
31 セラミックグリーンシート
32 内部電極パターン
33 第1方向の切断線
34 第2方向の切断線
35 マザーブロック
36,37 切断端面
38 粘着シート
40 支持台
41 転動作用板
210 研磨定盤
220 研磨パッド
230 研磨ヘッド
240 供給管
310 洗浄槽
320 振動板
321 超音波振動子
330 保持具
A 研磨液(研削液)
B 洗浄液
Reference Signs List 11 multilayer ceramic capacitor 12 component body 13, 14 main surface 15, 16 side surface 17, 18 end surface 19 green chip 20, 21 cutting side surface 22, 23 ceramic protective layer 24 laminated body 25 ceramic layer 26, 27 internal electrode 28, 29 external electrode 31 Ceramic Green Sheet 32 Internal Electrode Pattern 33 Cutting Line 34 in First Direction 34 Cutting Line 35 in Second Direction Mother Block 36, 37 Cutting End Face 38 Adhesive Sheet 40 Support 41 Rolling Plate 210 Polishing Plate 220 Polishing Pad 230 Polishing Head 240 Supply pipe 310 Cleaning tank 320 Vibration plate 321 Ultrasonic vibrator 330 Holder A Polishing liquid (grinding liquid)
B Cleaning liquid

Claims (11)

積層された複数の内部電極を含み、積層方向に直交する幅方向に相対する一対の側面に前記内部電極が露出した積層体を作製する工程と、
前記積層体を粘着シート上に配置する工程と、
前記粘着シートに含まれる粘着剤を溶解する成分を含む処理液を用いて、前記内部電極が露出した前記積層体の側面に付着した前記粘着剤を除去する工程と、
前記粘着剤が除去された後の前記積層体の側面に保護層を形成する工程と、を備える、チップ型電子部品の製造方法。
Including a plurality of laminated internal electrodes, a step of producing a laminate in which the internal electrodes are exposed on a pair of side surfaces opposed in a width direction orthogonal to the laminating direction,
Arranging the laminate on an adhesive sheet,
Using a treatment solution containing a component that dissolves the adhesive contained in the adhesive sheet, removing the adhesive attached to the side surface of the laminate where the internal electrodes are exposed,
Forming a protective layer on the side surface of the laminate after the pressure-sensitive adhesive is removed.
前記粘着剤は、アクリレート系粘着剤であり、
前記処理液は、一般式RCOOR又はRCOR(R及びRはそれぞれ独立にアルキル基)で表される化合物を含む溶液である、請求項1に記載のチップ型電子部品の製造方法。
The pressure-sensitive adhesive is an acrylate-based pressure-sensitive adhesive,
The chip-type electronic component according to claim 1, wherein the treatment liquid is a solution containing a compound represented by a general formula R 1 COOR 2 or R 1 COR 2 (R 1 and R 2 are each independently an alkyl group). Manufacturing method.
前記化合物は、酢酸n−ブチル、酢酸n−プロピル、酢酸エチル、酢酸メチル及びメチルエチルケトンからなる群より選択されるいずれか1種である、請求項2に記載のチップ型電子部品の製造方法。 The method for manufacturing a chip-type electronic component according to claim 2, wherein the compound is any one selected from the group consisting of n-butyl acetate, n-propyl acetate, ethyl acetate, methyl acetate, and methyl ethyl ketone. 前記処理液は、前記化合物を20重量%以上、75重量%以下含む、請求項2又は3に記載のチップ型電子部品の製造方法。 4. The method for manufacturing a chip-type electronic component according to claim 2, wherein the treatment liquid contains the compound in an amount of 20% by weight or more and 75% by weight or less. 5. 前記粘着剤を溶解する成分と前記粘着剤とのハンセン溶解度パラメータ距離は、前記粘着剤を溶解する成分と前記積層体に含まれる樹脂成分とのハンセン溶解度パラメータ距離よりも小さい、請求項1〜4のいずれか1項に記載のチップ型電子部品の製造方法。 The Hansen solubility parameter distance between the component that dissolves the pressure-sensitive adhesive and the pressure-sensitive adhesive is smaller than the Hansen solubility parameter distance between the component that dissolves the pressure-sensitive adhesive and the resin component included in the laminate. The method for manufacturing a chip-type electronic component according to any one of the above. 前記粘着剤を除去する工程の前に、前記積層体を前記粘着シート上で転動させることによって、前記内部電極が露出した前記積層体の側面を開放面とする工程をさらに備える、請求項1〜5のいずれか1項に記載のチップ型電子部品の製造方法。 2. The method according to claim 1, further comprising, before the step of removing the pressure-sensitive adhesive, rolling the laminate on the pressure-sensitive adhesive sheet so that a side surface of the laminate in which the internal electrodes are exposed is an open surface. 6. The method for manufacturing a chip-type electronic component according to any one of claims 5 to 5. 前記粘着剤を除去する工程の前に、前記積層体を前記粘着シートから剥離する工程をさらに備える、請求項1〜5のいずれか1項に記載のチップ型電子部品の製造方法。 The method for manufacturing a chip-type electronic component according to any one of claims 1 to 5, further comprising, before the step of removing the adhesive, a step of peeling the laminate from the adhesive sheet. 前記粘着剤を除去する工程では、前記保護層を形成する前の前記積層体の側面に対して、砥粒を用いた研削処理又はバイトを用いた切削処理が行われ、
前記研削処理に用いられる研削液又は前記切削処理に用いられる切削液に前記粘着剤を溶解する成分が含まれる、請求項1〜7のいずれか1項に記載のチップ型電子部品の製造方法。
In the step of removing the adhesive, a grinding process using abrasive grains or a cutting process using a cutting tool is performed on the side surface of the laminate before forming the protective layer,
The method for manufacturing a chip-type electronic component according to any one of claims 1 to 7, wherein a component that dissolves the adhesive is contained in a grinding fluid used for the grinding process or a cutting fluid used for the cutting process.
前記粘着剤を除去する工程では、前記保護層を形成する前の前記積層体の側面に対して、洗浄処理が行われ、
前記洗浄処理に用いられる洗浄液に前記粘着剤を溶解する成分が含まれる、請求項1〜8のいずれか1項に記載のチップ型電子部品の製造方法。
In the step of removing the adhesive, a cleaning process is performed on the side surface of the laminate before forming the protective layer,
9. The method of manufacturing a chip-type electronic component according to claim 1, wherein a component that dissolves the pressure-sensitive adhesive is included in a cleaning liquid used for the cleaning process. 10.
前記チップ型電子部品は、積層セラミック電子部品であり、
前記積層体を作製する工程では、積層された複数のセラミックグリーンシートと、前記セラミックグリーンシートの間に配置された未焼成の前記内部電極とを含むマザーブロックを作製した後、前記マザーブロックを切断することによって、複数の積層体を作製するとともに、前記マザーブロックの切断により現れた前記積層体の側面に前記内部電極を露出させる、請求項1〜9のいずれか1項に記載のチップ型電子部品の製造方法。
The chip-type electronic component is a multilayer ceramic electronic component,
In the step of producing the laminate, after producing a mother block including a plurality of laminated ceramic green sheets and the unfired internal electrodes disposed between the ceramic green sheets, the mother block is cut. The chip-type electronic device according to any one of claims 1 to 9, wherein a plurality of stacked bodies are produced, and the internal electrodes are exposed on side surfaces of the stacked body that appear when the mother block is cut. The method of manufacturing the part.
前記積層セラミック電子部品は、積層セラミックコンデンサである、請求項10に記載のチップ型電子部品の製造方法。 The method of manufacturing a chip-type electronic component according to claim 10, wherein the multilayer ceramic electronic component is a multilayer ceramic capacitor.
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