JP2019537237A - メトロロジレシピ選択 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、2016年9月27日出願の欧州特許出願第16190877.7号及び2017年2月23日出願の欧州特許出願第17157572.3号の優先権を主張するものであり、これらの特許文献の全体を参照により本明細書に援用する。
A±d=Ksin(OVE±d) (1)
ここで、オーバーレイ誤差OVEは、ターゲットピッチPが角度2πラジアンに対応するようにスケール調整して表される。異なる既知のバイアス(例えば+d及び−d)を有する格子の2つの測定量を使用して、以下の式を用いてオーバーレイ誤差OVEを算出することができる。
A±d=K0+Ksin(OVE±d+φ) (3)
ΔI+=K(OV+d)+ΔIBG (4)
ΔI−=K(OV−d)+ΔIBG (5)
ここで、ΔI−(A−とも同義)及びΔI+(A+とも同義)は、測定された強度非対称性を表し、ΔIBGは、強度非対称性に対する構造的非対称性の寄与である。したがって、オーバーレイ誤差ΔOVは、ΔIBG/Kの関数とみなすことができる。
ΔI+=(K+ΔK)(OV+d) (6)
ΔI−=(K−ΔK)(OV−d) (7)
ここで、ΔKは、スタック差に起因するオーバーレイ感度の差を表す。したがって、オーバーレイ誤差ΔOVは、
Claims (44)
- スタック感度及びオーバーレイ感度に対して、パターニングプロセスを使用して処理されたメトロロジターゲットを測定するための複数の基板測定レシピを評価することと、
前記複数の基板測定レシピから、閾値を満たす又は超えるスタック感度の値を有する、及びオーバーレイ感度の最大値又は最小値から特定の有限範囲内のオーバーレイ感度の値を有する1つ又は複数の基板測定レシピを選択することと、
を含む、方法。 - ターゲットシグマに対して前記複数の基板測定レシピを評価することをさらに含み、
前記選択された1つ又は複数の基板測定レシピが、閾値を満たす又は超えるターゲットシグマの値を有する、請求項1に記載の方法。 - 前記基板にわたる感度パラメータの統計的ばらつきを表すロバスト性指標に対して前記複数の基板測定レシピを評価することをさらに含み、
前記選択される1つ又は複数の基板測定レシピが、閾値を満たす又は超えるロバスト性指標の値を有する、請求項1又は2に記載の方法。 - 前記ロバスト性指標が、前記基板にわたるオーバーレイ感度の統計的ばらつきを、前記基板にわたるオーバーレイ感度の絶対値の相加平均で割った値を表す、請求項3に記載の方法。
- スタック感度に対して前記複数の基板測定レシピを評価することをさらに含み、
前記選択される1つ又は複数の基板測定レシピが、より制限的な閾値を満たす又は超えるスタック感度の値を有する、請求項3又は4に記載の方法。 - スタック差パラメータに対して前記複数の基板測定レシピを評価することをさらに含み、
前記スタック差パラメータが、前記メトロロジターゲットの隣接する周期構造間又は前記メトロロジターゲットと前記基板上の別の隣接するターゲットとの間の物理的構成の設計外の差を表し、
前記選択される1つ又は複数の基板測定レシピが、閾値を満たす又は超えるスタック差パラメータの値を有する、請求項1〜5の何れか一項に記載の方法。 - 前記スタック差パラメータが、周期構造強度不均衡を含む、請求項6に記載の方法。
- 前記周期構造強度不均衡が、(i)第1の隣接周期構造又はターゲットからの測定放射線の相加平均強度と第2の隣接周期構造又はターゲットからの測定放射線の相加平均強度との間の差、及び、(ii)前記第1の隣接周期構造又はターゲットからの測定放射線の相加平均強度と前記第2の隣接周期構造又はターゲットからの測定放射線の相加平均強度との加算、の関数である、請求項7に記載の方法。
- 前記第1の隣接周期構造又はターゲットからの測定放射線の前記相加平均強度が+n次放射線に対応し、前記第2の隣接周期構造又はターゲットからの測定放射線の前記相加平均強度が−n次放射線に対応し、ここで、nが1以上の整数である、請求項8に記載の方法。
- 第1の周期構造に関する非対称データと第2の周期構造に関する非対称データとの間のフィッティングから決定されるプロセスパラメータ値を含む自己参照指標に対して前記複数の基板測定レシピを評価することをさらに含み、
前記選択される1つ又は複数の基板測定レシピが、閾値を満たす又は超える自己参照指標の値を有する、請求項1〜9の何れか一項に記載の方法。 - 前記自己参照指標が、前記プロセスパラメータ値と、少なくとも前記プロセスパラメータの測定値の相加平均と、の比較を含む、請求項10に記載の方法。
- 前記自己参照指標が、前記プロセスパラメータ値と、前記プロセスパラメータの測定値の相加平均と前記プロセスパラメータの前記測定値の標準偏差の3倍との組合せと、の比較を含む、請求項11に記載の方法。
- 前記評価が、前記スタック感度及び前記オーバーレイ感度を特徴付ける測定規準であって、前記基板測定レシピからの複数のパラメータの関数である測定規準を表す多変数コスト関数を計算することと、前記パラメータのうちの1つ又は複数を調節し、特定の終了条件が満たされるまで、前記調節された1つ又は複数の設計パラメータを用いて前記コスト関数を計算することと、を含む、請求項1〜12の何れか一項に記載の方法。
- 前記基板測定レシピがそれぞれ、波長に関して異なる、請求項1〜13の何れか一項に記載の方法。
- 前記評価が、各前記基板測定レシピに従って前記検査装置を使用して前記メトロロジターゲットの測定量を得ることを含む、請求項1〜14の何れか一項に記載の方法。
- 基板にわたる感度パラメータの統計的ばらつきを表すロバスト性指標に対して、パターニングプロセスを使用して処理された基板上のメトロロジターゲットを測定するための複数の基板測定レシピを評価することと、
前記複数の基板測定レシピから、閾値を満たす又は超えるロバスト性指標を有する1つ又は複数の基板測定レシピを選択することと、
を含む、方法。 - 前記ロバスト性指標が、前記基板にわたるオーバーレイ感度の統計的ばらつきを、前記基板にわたるオーバーレイ感度の絶対値の相加平均で割った値を表す、請求項16に記載の方法。
- スタック感度に対して前記複数の基板測定レシピを評価することをさらに含み、
前記選択される1つ又は複数の基板測定レシピが、閾値を満たす又は超えるスタック感度の値を有する、請求項16又は17に記載の方法。 - オーバーレイ感度に対して前記複数の基板測定レシピを評価することをさらに含み、
前記選択される1つ又は複数の基板測定レシピが、前記オーバーレイ感度の最大値又は最小値からの特定の有限範囲内の前記オーバーレイ感度の値を有する、請求項16〜18の何れか一項に記載の方法。 - スタック差パラメータに対して前記複数の基板測定レシピを評価することをさらに含み、
前記スタック差パラメータが、前記メトロロジターゲットの隣接する周期構造間又は前記メトロロジターゲットと前記基板上の別の隣接するターゲットとの間の物理的構成の設計外の差を表し、
前記選択される1つ又は複数の基板測定レシピが、閾値を満たす又は超えるスタック差パラメータの値を有する、請求項16〜19の何れか一項に記載の方法。 - 前記スタック差パラメータが、周期構造強度不均衡を含む、請求項20に記載の方法。
- 前記周期構造強度不均衡が、(i)第1の隣接周期構造又はターゲットからの測定放射線の相加平均強度と第2の隣接周期構造又はターゲットからの測定放射線の相加平均強度との間の差、及び、(ii)前記第1の隣接周期構造又はターゲットからの測定放射線の相加平均強度と前記第2の隣接周期構造又はターゲットからの測定放射線の相加平均強度との加算、の関数である、請求項21に記載の方法。
- 前記第1の隣接周期構造又はターゲットからの測定放射線の前記相加平均強度が+n次放射線に対応し、前記第2の隣接周期構造又はターゲットからの測定放射線の前記相加平均強度が−n次放射線に対応し、ここで、nが1以上の整数である、請求項22に記載の方法。
- 第1の周期構造に関する非対称データと第2の周期構造に関する非対称データとの間のフィッティングから決定されるプロセスパラメータ値を含む自己参照指標に対して前記複数の基板測定レシピを評価することをさらに含み、
前記選択される1つ又は複数の基板測定レシピが、閾値を満たす又は超える自己参照指標の値を有する、請求項16〜23の何れか一項に記載の方法。 - 前記自己参照指標が、前記プロセスパラメータ値と、少なくとも前記プロセスパラメータの測定値の相加平均と、の比較を含む、請求項24に記載の方法。
- 前記自己参照指標が、前記プロセスパラメータ値と、前記プロセスパラメータの測定値の相加平均と前記プロセスパラメータの前記測定値の標準偏差の3倍との組合せと、の比較を含む、請求項25に記載の方法。
- ターゲットシグマに対して前記複数の基板測定レシピを評価することをさらに含み、
前記選択される1つ又は複数の基板測定レシピが、閾値を満たす又は超えるターゲットシグマの値を有する請求項16〜26の何れか一項に記載の方法。 - パターニングプロセスを使用して処理された基板上のメトロロジターゲットを測定するための複数の基板測定レシピを、前記メトロロジターゲットの隣接する周期構造間又は前記メトロロジターゲットと前記基板上の別の隣接するターゲットとの間の物理的構成の設計外の差を表すスタック差パラメータに対して評価することと、
前記複数の基板測定レシピから、閾値を満たす又は超えるスタック差パラメータを有する1つ又は複数の基板測定レシピを選択することと、
を含む、方法。 - 前記スタック差パラメータが、周期構造強度不均衡を含む、請求項28に記載の方法。
- 前記周期構造強度不均衡が、(i)第1の隣接周期構造又はターゲットからの測定放射線の相加平均強度と第2の隣接周期構造又はターゲットからの測定放射線の相加平均強度との間の差、及び、(ii)前記第1の隣接周期構造又はターゲットからの測定放射線の相加平均強度と前記第2の隣接周期構造又はターゲットからの測定放射線の相加平均強度との加算、の関数である、請求項29に記載の方法。
- 前記第1の隣接周期構造又はターゲットからの測定放射線の前記相加平均強度が+n次放射線に対応し、前記第2の隣接周期構造又はターゲットからの測定放射線の前記相加平均強度が−n次放射線に対応し、ここで、nが1以上の整数である、請求項30に記載の方法。
- スタック感度に対して前記複数の基板測定レシピを評価することをさらに含み、
前記選択される1つ又は複数の基板測定レシピが、閾値を満たす又は超えるスタック感度の値を有する、請求項28〜31の何れか一項に記載の方法。 - オーバーレイ感度に対して前記複数の基板測定レシピを評価することをさらに含み、
前記選択される1つ又は複数の基板測定レシピが、前記オーバーレイ感度の最大値又は最小値からの特定の有限範囲内の前記オーバーレイ感度の値を有する、請求項28〜32の何れか一項に記載の方法。 - ターゲットシグマに対して前記複数の基板測定レシピを評価することをさらに含み、
前記選択される1つ又は複数の基板測定レシピが、閾値を満たす又は超えるターゲットシグマの値を有する請求項28〜33の何れか一項に記載の方法。 - 前記基板にわたる感度パラメータの統計的ばらつきを表すロバスト性指標に対して前記複数の基板測定レシピを評価することをさらに含み、
前記選択される1つ又は複数の基板測定レシピが、閾値を満たす又は超えるロバスト性指標の値を有する、請求項28〜34の何れか一項に記載の方法。 - 前記ロバスト性指標が、前記基板にわたるオーバーレイ感度の統計的ばらつきを、前記基板にわたるオーバーレイ感度の絶対値の相加平均で割った値を表す、請求項35に記載の方法。
- 第1の周期構造に関する非対称データと第2の周期構造に関する非対称データとの間のフィッティングから決定されるプロセスパラメータ値を含む自己参照指標に対して前記複数の基板測定レシピを評価することをさらに含み、
前記選択される1つ又は複数の基板測定レシピが、閾値を満たす又は超える自己参照指標の値を有する、請求項28〜36の何れか一項に記載の方法。 - 前記自己参照指標が、前記プロセスパラメータ値と、少なくとも前記プロセスパラメータの測定値の相加平均と、の比較を含む、請求項37に記載の方法。
- 前記自己参照指標が、前記プロセスパラメータ値と、前記プロセスパラメータの測定値の相加平均と前記プロセスパラメータの前記測定値の標準偏差の3倍との組合せと、の比較を含む、請求項38に記載の方法。
- 請求項1〜39の何れか一項に記載の選択された基板測定レシピに従って基板上のメトロロジターゲットを測定することを含む、測定方法。
- リソグラフィプロセスのパラメータを測定するためのメトロロジ装置であって、
請求項1〜39の何れか一項に記載の方法を実施するように動作可能である、メトロロジ装置。 - 請求項1〜39の何れか一項に記載の方法をプロセッサに実施させるための機械可読命令を含む、非一時的なコンピュータプログラム製品。
- 基板上の2つの隣接する周期構造又は測定ターゲットに放射ビームを提供し、前記ターゲットによって回折された放射を検出してパターニングプロセスのパラメータを決定する検査装置と、
請求項36に記載の非一時的なコンピュータプログラム製品と、
を備える、システム。 - 放射ビームを変調するためにパターニングデバイスを保持する支持構造と、前記変調された放射ビームを放射線感受性基板上に投影する投影光学系と、を備えるリソグラフィ装置をさらに備える、請求項43に記載のシステム。
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