JP2019535717A - ピロロ6員複素芳香環誘導体の製造方法、および中間体 - Google Patents
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Abstract
Description
R1は、水素またはアミノ保護基であり、
R2は、アミノ保護基であり、
R3は、水素、C1−6アルキル、およびアミノ保護基からなる群より選択され、
前記アミノ保護基は、好ましくは、アルコキシカルボニルアミノ保護基、アシルアミノ保護基、スルホニルアミノ保護基、およびアルキルアミノ保護基からなる群から選択され、
前記アルコキシカルボニルアミノ保護基は、ベンジルオキシカルボニル(Cbz)、tert−ブトキシカルボニル(Boc)、フルオレニルメトキシカルボニル(Fmoc)、アリルオキシカルボニル(Alloc)、トリメチルシリルエトキシカルボニル(Teoc)、メトキシカルボニル、およびエトキシカルボニルからなる群から選択され、
前記アシルアミノ保護基は、フタリル(Pht)、トリフルオロアセチル(Tfa)、ピバロイル、ベンゾイル、ホルミル、およびアセチルからなる群から選択され、
前記スルホニルアミノ保護基は、p−トルエンスルホニル(TosまたはTs)、o−ニトロベンゼンスルホニル(o−Ns)、およびp−ニトロベンゼンスルホニル(p−Ns)からなる群から選択され、
前記アルキルアミノ保護基は、トリチル(Trt)、2,4−ジメトキシベンジル(Dmb)、p−メトキシベンジル(PMB)、およびベンジル(Bn)からなる群から選択される。
R1は、アルコキシカルボニルアミノ保護基であり、前記アルコキシカルボニルアミノ保護基は、好ましくは、ベンジルオキシカルボニル(Cbz)、tert−ブトキシカルボニル(Boc)、フルオレニルメトキシカルボニル(Fmoc)、およびアリルオキシカルボニル(Alloc)からなる群から選択され、より好ましくは、tert−ブトキシカルボニル(Boc)であり、
R2は、スルホニルアミノ保護基であり、前記スルホニルアミノ保護基は、好ましくは、p−トルエンスルホニル(TosまたはTs)、o−ニトロベンゼンスルホニル(o−Ns)、およびp−ニトロベンゼンスルホニル(p−Ns)からなる群から選択され、より好ましくは、p−トルエンスルホニル(Ts)であり、
R3は、水素およびメチルからなる群から選択される。
工程2:式(II)の中間体化合物のアミノ保護基を脱離させて、式(III)の化合物を得る。
工程1における式(Ia)の中間体を、有機溶媒中、加熱下で塩基と反応させて、アミノ保護基を脱離させる。反応液を抽出し、得られた粗生成物をエステルとエーテルの混合溶媒中でパルプ化することによって、式(II)の目的中間体を得る。加熱温度は、50℃以上、溶媒の沸点以下であり、好ましくは、70℃である。有機溶媒としては、限定されるものではないが、アミド、アルコール、エーテル、ケトン、およびニトリルのうちの1つ以上が挙げられ、好ましくは、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、アセトン、アセトニトリル、およびメタノールが挙げられ、より好ましくは、N,N−ジメチルアセトアミドが挙げられる。塩基としては、限定されるものではないが、有機塩基および無機塩基が挙げられる。有機塩基としては、限定されるものではないが、リチウムジイソプロピルアミド(LDA)、n−ブチルリチウム、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、およびナトリウムtert−ブトキシドが挙げられる。無機塩基としては、限定されるものではないが、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、ナトリウムtert−ブトキシド、水酸化ナトリウム、および水酸化カリウムが挙げられ、より好ましくは、水酸化ナトリウム、および水酸化カリウムが挙げられる。
工程2における式(II)の中間体を、有機溶媒中で酸と反応させて、アミノ保護基を脱離させる。抽出した水相に塩基を加えて、pHを調整し、固体を析出させる。固体をろ過し、パルプ化し、再びろ過し、乾燥することにより、式(III)の目的中間体を得る。有機溶媒としては、限定されるものではないが、アルコール、ケトン、ニトリル、アルコールとハロゲン化炭化水素の混合溶媒、アルコールとエーテルの混合溶媒、アルコールとエステルの混合溶媒、ケトンとハロゲン化炭化水素の混合溶媒、ケトンとエーテルの混合溶媒、ケトンとエステルの混合溶媒、ニトリルとハロゲン化炭化水素の混合溶媒、ニトリルとエーテルの混合溶媒、ニトリルとエステルの混合溶媒が挙げられ、好ましくは、メタノール、エタノール、アセトン、アセトニトリル、メタノール/ジクロロメタン、メタノール/酢酸エチル、メタノール/1,4−ジオキサン、アセトン/ジクロロメタン、アセトン/酢酸エチル、アセトン/1,4−ジオキサン、アセトニトリル/ジクロロメタン、アセトニトリル/酢酸エチル、およびアセトニトリル/1,4−ジオキサンが挙げられ、より好ましくは、メタノール/ジクロロメタンが挙げられる。酸は、ぎ酸、酢酸、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、イセチオン酸、塩酸、およびトリフルオロ酢酸からなる群から選択され、好ましくは、塩酸である。塩基は、金属水酸化物から、好ましくは、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムから、選択される。
R1は、アルコキシカルボニルアミノ保護基であり、前記アルコキシカルボニルアミノ保護基は、好ましくは、ベンジルオキシカルボニル(Cbz)、tert−ブトキシカルボニル(Boc)、フルオレニルメトキシカルボニル(Fmoc)、およびアリルオキシカルボニル(Alloc)からなる群から選択され、より好ましくは、tert−ブトキシカルボニル(Boc)であり、
R2は、スルホニルアミノ保護基であり、前記スルホニルアミノ保護基は、好ましくは、p−トルエンスルホニル(TosまたはTs)、o−ニトロベンゼンスルホニル(o−Ns)、およびp−ニトロベンゼンスルホニル(p−Ns)からなる群から選択され、より好ましくは、p−トルエンスルホニル(Ts)である。
R1は、アルコキシカルボニルアミノ保護基であり、前記アルコキシカルボニルアミノ保護基は、好ましくは、ベンジルオキシカルボニル(Cbz)、tert−ブトキシカルボニル(Boc)、フルオレニルメトキシカルボニル(Fmoc)、およびアリルオキシカルボニル(Alloc)からなる群から選択され、より好ましくは、tert−ブトキシカルボニル(Boc)であり、
R2は、スルホニルアミノ保護基であり、前記スルホニルアミノ保護基は、好ましくは、p−トルエンスルホニル(TosまたはTs)、o−ニトロベンゼンスルホニル(o−Ns)、およびp−ニトロベンゼンスルホニル(p−Ns)からなる群から選択され、より好ましくは、p−トルエンスルホニル(Ts)である。
化合物A2およびB2を不活性ガスの保護下で有機溶媒に溶解させ、塩基を加えた後、加熱して反応させる。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、水を加えて、ろ過する。固体をハロゲン化炭化水素溶媒に溶解し、次いで、抽出する。溶液を乾燥した後、減圧下で濃縮することにより、中間体1cを得る。有機溶媒としては、限定されるものではないが、アミド、アルコール、エーテル、ケトン、およびニトリルのうちの1つ以上が挙げられ、好ましくは、n−ブタン、n−ヘキサン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、アセトン、アセトニトリル、メタノール、エタノール、ジメチルスルホキシド、および1,4−ジオキサンが挙げられ、より好ましくは、N,N−ジメチルホルムアミドが挙げられる。塩基としては、限定されるものではないが、有機塩基および無機塩基が挙げられる。有機塩基としては、限定されるものではないが、トリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、n−ブチルリチウム、カリウムtert−ブトキシド、ナトリウムtert−ブトキシド、1,8−ジアザビシクロウンデカ−7−エン、ピリジン、および4−ジメチルアミノピリジンが挙げられる。無機塩基としては、限定されるものではないが、水素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸カリウム、炭酸リチウム、リン酸水素リチウム、炭酸水素カリウム、および炭酸セシウムが挙げられ、好ましくは、炭酸カリウムが挙げられる。ハロゲン化炭化水素溶媒は、好ましくは、ジクロロメタンである。
中間体1cを有機溶媒に溶解させ、撹拌しながら塩基と水を加えて、加熱し、反応させる。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、水とハロゲン化炭化水素溶媒を加えて、抽出する。反応液を乾燥し、減圧下で濃縮することにより、中間体IIaを得る。有機溶媒としては、限定されるものではないが、アミド、アルコール、エーテル、ケトン、およびニトリルのうちの1つ以上が挙げられ、好ましくは、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、アセトン、アセトニトリル、およびメタノールが挙げられ、より好ましくは、N,N−ジメチルアセトアミドが挙げられる。塩基としては、限定されるものではないが、有機塩基および無機塩基が挙げられる。有機塩基としては、限定されるものではないが、リチウムジイソプロピルアミド(LDA)、n−ブチルリチウム、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、およびナトリウムtert−ブトキシドが挙げられる。無機塩基としては、限定されるものではないが、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムが挙げられ、好ましくは、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムが挙げられる。ハロゲン化炭化水素溶媒は、好ましくは、ジクロロメタンである。
中間体IIaを有機溶媒に溶解し、低温で酸を滴下し、撹拌して、室温で反応させる。反応終了後、反応液を濃縮し、水を加えて溶解させ、ハロゲン化炭化水素溶媒を加えて、抽出する。水相に塩基を加えてpHをアルカリ性に調整し、固体を析出させる。固体をろ過し、乾燥して、中間体IIIを得る。
中間体IIIおよび化合物Cに有機溶媒を加え、塩基を加え、加熱して反応させる。反応終了後、反応液を冷却して結晶を析出させ、その後、ろ過し、乾燥することにより、生成物IVを得る。有機溶媒としては、限定されるものではないが、アミド、アルコール、エーテル、エステル、ハロゲン化炭化水素、脂肪族炭化水素、ケトン、およびニトリルが挙げられ、好ましくは、n−ブタン、n−ヘキサン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、クロロホルム、酢酸エチル、アセトン、アセトニトリル、メタノール、エタノール、トルエン、ジメチルスルホキシド、1,4−ジオキサン、およびメチルエーテルが挙げられ、より好ましくは、テトラヒドロフランが挙げられる。塩基としては、限定されるものではないが、有機塩基および無機塩基が挙げられる。有機塩基としては、限定されるものではないが、トリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、n−ブチルリチウム、カリウムtert−ブトキシド、ナトリウムtert−ブトキシド、1,8−ジアザビシクロウンデカ−7−エン、ピリジン、および4−ジメチルアミノピリジンが挙げられる。無機塩基としては、限定されるものではないが、水素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸カリウム、炭酸リチウム、リン酸水素リチウム、炭酸水素カリウム、および炭酸セシウムが挙げられる。塩基は、好ましくは、トリエチルアミンである。
本願の明細書および特許請求の範囲において、特に断りのない限り、本明細書で用いられる科学的および技術的用語は、当業者によって一般的に理解される意味を有する。しかしながら、本発明をより理解するために、いくつかの関連用語には、定義および説明が与えられる。さらに、本願において与えられた用語の定義および説明が、当業者によって一般的に理解される意味と矛盾する場合、本願において与えられた用語の定義および説明が優先する。
従来技術(WO2013091539A1、公開日:2013年6月27日)と比較して、本発明の式(IV)の化合物を製造する技術的解決手段は、以下の利点を有する。
以下の実施例を参照することにより、本発明をさらに説明する。本発明の実施例は、本発明の技術的解決手段を説明するために使用されているに過ぎず、本発明の概念および範囲を限定するものと見なされるべきではない。
化合物の構造は、核磁気共鳴(NMR)および/または質量分析(MS)によって同定した。NMRシフト(δ)は10−6(ppm)で示した。NMRは、Bruker AVANCE−400の装置で測定した。測定溶媒は、重水素化ジメチルスルホキシド(DMSO−d6)および重水素化クロロホルム(CDCl3)であり、内部標準はテトラメチルシラン(TMS)であった。
4−クロロ−7H−ピロロ[2,3−d]ピリミジン(2kg、12.96mol)およびジクロロメタン(40L)を室温で反応フラスコに加え、撹拌して溶解させた。トリエチルアミン(3.88kg、38.4mol)および4−ジメチルアミノピリジン(157.6g、1.28mol)を順次加え、撹拌して溶解させた。p−トルエンスルホニルクロリド(2.6kg、13.6mol)のジクロロメタン(30L)溶液を、0℃で滴下して加え、次いで、室温で30分間撹拌した。TLCで反応の完了を確認した後、反応液を水(16L×3)で洗浄した。有機相を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過した。ろ液を濃縮し、減圧下で乾燥することにより、標題の生成物を得た(3.9kg、収率97.7%)。
MS m/z(ESI):309.0[M+1]
1H−NMR(400MHz,CDCl3)δ8.77(s,1H),8.10−8.08(d,2H),7.79−7.78(d,1H),7.34−7.32(d,2H),6.72−6.71(d,1H),2.41(s,3H)。
出発物質である式(B2)の化合物は、国際公開WO2008089636A1(2008年7月31日公開)の実施例1、および国際公開WO2013091539A1(2013年6月27日公開)の実施例5に開示された公知の方法により、製造した。
MS m/z(ESI):241.5[M+1]
1H−NMR(400MHz,CDCl3)δ3.21(m,2H),2.90−2.83(m,3H),2.47−2.45(m,2H),2.08(s,3H),1.42−1.33(m,4H),1.15(s,9H),0.94(s,1H)。
1H−NMR(400MHz,DMSO−d6)δ7.92(s,2H),3.80(s,3H)。
MS m/z(ESI):252.2[M+1]
1H−NMR(400MHz,CDCl3)δ12.33(s,1H),7.46−7.42(m,2H),7.33−7.26(m,3H),4.01(s,3H)。
(3aR,5s,6aS)−N−(3−メトキシ−1,2,4−チアジアゾール−5−イル)−5−(メチル(7H−ピロロ[2,3−d]ピリミジン−4−イル)アミノ)ヘキサヒドロシクロペンタ[c]ピロール−2(1H)−カルボキサミド(化合物IV)の製造
tert−ブチル(3aR,5s,6aS)−5−(メチル(7−トシル−7H−ピロロ[2,3−d]ピリミジン−4−イル)アミノ)ヘキサヒドロシクロペンタ[c]ピロール−2(1H)−カルボキシレート(Ic)の製造
4−クロロ−7−トシル−7H−ピロロ[2,3−d]ピリミジン(300g、0.98mol)、N−BOC−ビシクロオクタノン(234g、0.98mol)、およびN,N−ジメチルホルムアミド(2.3kg)を、窒素雰囲気下で反応フラスコに加え、撹拌して溶解させた。反応液に炭酸カリウム(336g、2.44mol)を加え、撹拌しながら2時間、100℃に温めた。TLCで反応の完了を確認した後、反応液を室温に冷却した。反応液に氷水(15kg)を加えると、カーキ色の固体が大量に析出した。反応混合物を室温で1時間撹拌し、ろ過し、ろ過ケーキをジクロロメタン(6kg)に溶解させ、抽出した。有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過し、減圧下で濃縮して、粗生成物を得た。この粗生成物を酢酸エチル(1.2kg)に加熱して溶解し、室温で石油エーテル(3.6kg)をゆっくり加えると、徐々に固体が析出した。反応混合物を1時間撹拌し、ろ過し、ろ過ケーキを減圧下で乾燥することにより、標題の生成物を得た(349g、収率70.0%)。
tert−ブチル(3aR,5s,6aS)−5−(メチル(7H−ピロロ[2,3−d]ピリミジン−4−イル)アミノ)ヘキサヒドロシクロペンタ[c]ピロール−2(1H)−カルボキシレート(IIa)の製造
tert−ブチル(3aR,5s,6aS)−5−(メチル(7−トシル−7H−ピロロ[2,3−d]ピリミジン−4−イル)アミノ)ヘキサヒドロシクロペンタ[c]ピロール−2(1H)−カルボキシレート(315g、0.62mol)、およびN,N−ジメチルアセトアミド(1.5kg)を反応フラスコに加え、撹拌して溶解させた。反応液に水酸化カリウム(176g、3.15mol)を加え、撹拌しながら水(300g)を加えて、固体を析出させた。反応混合物を70℃に温め、1時間撹拌して反応させた。TLCで反応の完了を確認した後、反応液を室温に冷却した。反応液にジクロロメタン(3.9kg)と水(3.0kg)を加えて抽出した。二相を分離し、有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過した。ろ液を減圧下で濃縮して淡黄色の固体を得て、次いでこれに酢酸エチル/石油エーテルの混合溶媒(1.0kg、v/v=1/4)を加え、50℃で0.5時間、加熱しながらパルプ化した。反応混合物をろ過し、減圧下で乾燥することにより、標題の生成物を得た(192g、収率87.2%)。
N−メチル−N−((3aR,5s,6aS)−オクタヒドロシクロペンタ[c]ピロール−5−イル)−7H−ピロロ[2,3−d]ピリミジン−4−アミン(III)の製造
tert−ブチル(3aR,5s,6aS)−5−(メチル(7H−ピロロ[2,3−d]ピリミジン−4−イル)アミノ)ヘキサヒドロシクロペンタ[c]ピロール−2(1H)−カルボキシレート(187g、0.52mol)、無水メタノールおよびジクロロメタン(0.8kg、w/w=1.6)を反応フラスコに加え、撹拌して溶解させた。氷水浴中で、塩酸(0.55kg、15mol)を滴下して加えた。添加完了後、反応物を室温で10時間撹拌した。TLCで反応の完了を確認した後、反応液を減圧下で濃縮し、ほとんどの有機溶媒を除去した。反応液に水(0.3L)を加え、ジクロロメタン(0.6kg×3)で抽出し、有機相を除去した。水相を30%水酸化ナトリウム溶液によりpH9〜10に調整すると、固体が大量に析出し、これをろ過した。この固体を精製水(0.25kg×2)で十分にパルプ化し、ろ過し、減圧下で乾燥することにより、標題の生成物を得た(131g、収率97.3%)。
(3aR,5s,6aS)−N−(3−メトキシ−1,2,4−チアジアゾール−5−イル)−5−(メチル(7H−ピロロ[2,3−d]ピリミジン−4−イル)アミノ)ヘキサヒドロシクロペンタ[c]ピロール−2(1H)−カルボキサミド(化合物IV)の製造
N−メチル−N−((3aR,5s,6aS)−オクタヒドロシクロペンタ[c]ピロール−5−イル)−7H−ピロロ[2,3−d]ピリミジン−4−アミン(101g、0.39mol)、フェニル(3−メトキシ−1,2,4−チアジアゾール−5−イル)カルバメート(106g、0.42mol)、およびテトラヒドロフラン(1.8kg)を、窒素雰囲気下で反応フラスコに加え、よく撹拌した。トリエチルアミン(170g、1.68モル)を加えた。添加終了後、反応液を加熱還流し、5時間撹拌した。TLCで反応の完了を確認した後、反応液を室温まで冷却し、ろ過した。ろ過ケーキをテトラヒドロフラン(400g)および無水エタノール(200g)で洗浄し、減圧下で乾燥することにより、標題の生成物を得た(157g、収率96.5%)。
HPLCにより測定された純度:99%
MS m/z(ESI):415.2[M+1]
1H−NMR(400MHz,DMSO−d6)δ11.63(s,1H),11.59(s,1H),8.10(s,1H),7.07(m,1H),6.54−6.53(m,1H),5.50−5.46(m,1H),3.91−3.87(s,3H),3.73−3.60(m,2H),3.37−3.33(m,2H),3.19−3.16(s,3H),2.89(m,2H),2.05−1.97(m,2H),1.81−1.76(m,2H)。
(3aR,5s,6aS)−N−(3−メトキシ−1,2,4−チアジアゾール−5−イル)−5−(メチル(7H−ピロロ[2,3−d]ピリミジン−4−イル)アミノ)ヘキサヒドロシクロペンタ[c]ピロール−2(1H)−カルボキサミド二硫酸塩の製造
(3aR,5s,6aS)−N−(3−メトキシ−1,2,4−チアジアゾール−5−イル)−5−(メチル(7H−ピロロ[2,3−d]ピリミジン−4−イル)アミノ)ヘキサヒドロシクロペンタ[c]ピロール−2(1H)−カルボキサミド(140g、0.34mol)、無水メタノール(350g)およびジクロロメタン(2.0kg)を、反応フラスコに加えて撹拌した。硫酸(34.8g、0.36mol)を室温でゆっくり滴下して加えた。反応液は透明であり、30分間撹拌し、ろ過して不溶物を除去した。ろ液を減圧下で濃縮して固体を得て、次いで、この固体に無水エタノール(700mL)を加え、室温で4時間撹拌した。反応液をろ過し、減圧下で乾燥することにより、粗製の(3aR,5s,6aS)−N−(3−メトキシ−1,2,4−チアジアゾール−5−イル)−5−(メチル(7H−ピロロ[2,3−d]ピリミジン−4−イル)アミノ)ヘキサヒドロシクロペンタ[c]ピロール−2(1H)−カルボキサミド二硫酸塩を得た(160g、収率92.4%)。
HPLCにより測定された純度:99%
粗製の(3aR、5s、6aS)−N−(3−メトキシ−1,2,4−チアジアゾール−5−イル)−5−(メチル(7H−ピロロ[2,3−d]ピリミジン−4−イル)アミノ)ヘキサヒドロシクロペンタ[c]ピロール−2(1H)−カルボキサミド二硫酸塩(145g、0.28mol)および無水メタノール(11kg)を反応フラスコに加えた。反応液を透明になるまで加熱還流した後、まだ熱いうちにろ過し、減圧下で濃縮した。濃縮液を室温に冷却し、撹拌して結晶を析出させ、ろ過した。ろ過ケーキを無水エタノール(200g)で洗浄し、減圧下で乾燥することにより、精製された、(3aR,5s,6aS)−N−(3−メトキシ−1,2,4−チアジアゾール−5−イル)−5−(メチル(7H−ピロロ[2,3−d]ピリミジン−4−イル)アミノ)ヘキサヒドロシクロペンタ[c]ピロール−2(1H)−カルボキサミド二硫酸塩を得た(138g,収率95.2%)。
HPLCにより測定された純度:99.4%
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1H−NMR(400MHz,DMSO−d6)δ12.75(s,1H),11.04(s,1H),8.37(s,1H),7.42−7.41(t,1H),6.89(s,1H),5.19−5.15(m,1H),3.89(s,3H),3.70−3.68(m,2H),3.40−3.38(m,2H),3.29(s,3H),2.95(s,2H),2.16−2.09(m,2H),1.97−1.92(m,2H)。
Claims (26)
- 式(I)の化合物、
R1は、水素またはアミノ保護基であり、
R2は、アミノ保護基であり、
R3は、水素、C1−6アルキル、およびアミノ保護基からなる群より選択され、
前記アミノ保護基は、好ましくは、アルコキシカルボニルアミノ保護基、アシルアミノ保護基、スルホニルアミノ保護基、およびアルキルアミノ保護基からなる群から選択され、
前記アルコキシカルボニルアミノ保護基は、ベンジルオキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル、フルオレニルメトキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、トリメチルシリルエトキシカルボニル、メトキシカルボニル、およびエトキシカルボニルからなる群から選択され、
前記アシルアミノ保護基は、フタリル、トリフルオロアセチル、ピバロイル、ベンゾイル、ホルミル、およびアセチルからなる群から選択され、
前記スルホニルアミノ保護基は、p−トルエンスルホニル、o−ニトロベンゼンスルホニル、およびp−ニトロベンゼンスルホニルからなる群から選択され、
前記アルキルアミノ保護基は、トリチル、2,4−ジメトキシベンジル、p−メトキシベンジル、およびベンジルからなる群から選択される)、
またはその立体異性体。 - 式中、
R1は、アルコキシカルボニルアミノ保護基であり、前記アルコキシカルボニルアミノ保護基は、好ましくは、ベンジルオキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル、フルオレニルメトキシカルボニル、およびアリルオキシカルボニルからなる群から選択され、より好ましくは、tert−ブトキシカルボニルであり、
R2は、スルホニルアミノ保護基であり、前記スルホニルアミノ保護基は、好ましくは、p−トルエンスルホニル、o−ニトロベンゼンスルホニル、およびp−ニトロベンゼンスルホニルからなる群より選択され、より好ましくは、p−トルエンスルホニルであり、
R3は、水素およびメチルからなる群から選択される、
請求項1に記載の式(I)の化合物、またはその立体異性体。 - R1およびR2が、請求項2に定義された通りである、請求項16〜18のいずれか1項に記載の方法。
- R1およびR2が、請求項2に定義された通りである、請求項21〜22のいずれか1項に記載の方法。
- 請求項12〜15または請求項25のいずれか1項に記載の工程と、式(IV)の化合物を酸と反応させて、式(IV)の化合物の薬学的に許容される塩を得る工程とを含み、
前記酸は、有機酸および無機酸からなる群から選択され、好ましくは無機酸であり、
前記有機酸は、クエン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、フマル酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、およびメタンスルホン酸からなる群から選択され、
前記無機酸は、塩酸、硫酸、およびリン酸からなる群から選択され、好ましくは硫酸である、
式(IV)の化合物の薬学的に許容される塩の製造方法。
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