JP2019525249A - 非平面初期構造上にターゲット構造をリソグラフィ生成する方法および装置 - Google Patents
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Abstract
Description
a)非平面初期構造の表面のトポグラフィを検出するステップ;
b)リソグラフィビームに対する少なくとも1つのテストパラメータを使用し、リソグラフィビームの初期構造との相互作用と、リソグラフィビームおよび/または結果として生じる生成されるべきターゲット構造の変化とを決定するステップ;
c)リソグラフィビームの初期構造との相互作用によって生じる、リソグラフィビームおよび/または生成されるべきターゲット構造の変化が減少するように、リソグラフィビームに対する少なくとも1つの補正パラメータを決定するステップ;および
d)リソグラフィビームに対する少なくとも1つの補正パラメータを使用し、少なくとも1つのリソグラフィビームによってフォトレジストを露光することにより、所望のターゲット構造を初期構造上に生成するステップ。
− 光パワー、
− 少なくとも1つの波長、
− 描画速度、
− 断面、
− 振幅プロファイル、
− 位相プロファイル、および/または
− 位置
の調整を含む群から選択から選択され得る。1つの好ましい構成において、以下により詳細に説明する、リソグラフィビームが横断したビーム成形ユニットの調整によって、リソグラフィビームに対する少なくとも1つの補正パラメータの設定が実行される。
i)リソグラフィビームが、リソグラフィビームの非平面初期構造と相互作用することなしに体積要素の中心点に到達する、ビームリソグラフィの第1領域を決定するステップ
ii)リソグラフィビームが、体積要素の中心への経路で非平面初期構造と相互作用する、ビームリソグラフィの第2領域を決定するステップ、および
iii)ビーム成形ユニットの少なくとも1つの部分領域の設定により、リソグラフィビームの第1領域または第2領域を修正するステップ
− フォトレジスト内で、リソグラフィビームを発生させ、リソグラフィビームを位置決めするためのリソグラフィユニット、
− リソグラフィビームの振幅および/または位相分布に影響を与えるように構成されたビーム成形ユニット、および
− リソグラフィユニットとビーム成形ユニットを駆動するように構成されたデータ処理ユニットであって、生成されるべきターゲット構造の構造データと、リソグラフィビームの非平面初期構造との相互作用によって生じるリソグラフィビームの変化を補正するためのデータとを保存するようにさらに構成されたデータ処理ユニット
を、少なくとも備える。
この場合、リソグラフィシステム090は、この好ましい実施形態では浸液として同時に使用されるフォトレジスト100内において、高度で正確に、リソグラフィビーム060を形成し、リソグラフィビーム060を位置決めするための光学リソグラフィユニット600を備える。この場合、リソグラフィビーム060の位置決めは、リソグラフィビーム060の移動により、好ましくは、ビームスキャナによるか、代替的に可能な限りの高精度を有する変位テーブル060によって局所的に固定されたリソグラフィビーム060を用いて初期構造010を移動させることによって行われ得る。これらの実施形態の組み合わせが考えられる。
座標系の原点(0,0)は、浸液として使用されるフォトレジスト100において十分に伝搬する、乱れのないリソグラフィビーム060に対して生じる焦点065を示す。大きな距離(ポイント3参照)の場合では、リソグラフィビーム060は影響を受けず、そのため平面x=0に対して対称である。より小さな距離では、焦点065の近傍における強度分布の傾斜(tilting)および関連する非対称(ポイント1および2参照)が、図5b)に図示された強度の低下に加えて付加的に起こる。傾斜は生成された体積要素040の変形をもたらす可能性があり、変形は、好ましくは、露光ステップにおいて考慮され得る。加えて、最大強度の点における、乱れのないリソグラフィビーム060の仮想焦点からのシフトが起こり得るが、これは図5b)ではあまり顕著ではなく、好ましくは、リソグラフィビーム060の位置の補正により補償され得る。
リソグラフィビーム060の焦点065の近傍における強度分布への影響は、シリンダの端面からの距離dおよびシリンダの半径rに依存する。
部分的に不透明な初期構造010によるリソグラフィビーム060の部分的な遮光の場合、したがって、焦点近傍の強度分布に関する影響をルミネセンス検出ユニット960の集束効率の影響から分離するために、異なるパラメータで複数の測定を行うことが特に有利であり得る。
011、012 リソグラフィビームと相互作用する初期構造の部分領域
013 リソグラフィビームと相互作用する部分領域内の初期構造の変化
014 リソグラフィビームと相互作用する、既に生成されたターゲット構造の部分領域
015 部品ホルダ
016 光ファイバ
017 集積光学チップ
018 集積光導波路
019 ガラス繊維の導波路コア
020 非平面初期構造のトポグラフィ
021 光学部品の発光平坦面
025 リソグラフィ波長における高反射初期構造の部分領域
030、031 ターゲット構造
035 次の部分領域の露光中にリソグラフィビームと相互作用する、既に生成されたターゲット構造体の部分領域
037 ターゲット構造の内側部分領域
038 ターゲット構造の近表面部分領域
040 ターゲット構造の体積要素
041 体積要素の中心点
050 体積要素の中心点とリソグラフィビームを変化させるエッジとの間の距離
052 リソグラフィビームを変化させるエッジ
053 リソグラフィビームの変化に起因して正しく露光されない部分領域
060 リソグラフィビーム
065 リソグラフィビームの焦点(フォーカス)
070、071 初期構造のトポグラフィにより変化させられるリソグラフィビームの(第2)領域
080 初期構造のトポグラフィにより変化させられるリソグラフィビームの(第1)領域
090 非平面初期構造(リソグラフィシステム)上に非平面初期構造を生成するための装置
100 フォトレジスト
110 ビーム成形ユニット
111、112、113 リソグラフィビームの領域を変更するためのビーム成形ユニットの部分領域
160 露光光学ユニット
210 初期構造のトポグラフィを検出するための測定ユニット
300 フォトニックワイヤボンド
310 リソグラフィビームの初期構造との相互作用の結果生じるフォトニックワイヤボンドの幾何学形状の変化
400 マイクロ光学レンズ素子
500 マイクロまたはナノスケールの構造
600 リソグラフィユニット
620 変位テーブル
700 データ処理ユニット
750 データメモリ
770 ターゲット構造を記述するデータ
790 初期構造との相互作用の結果生じるリソグラフィビームの変化を補正するためのデータ
800 さらなるデータ処理ユニット
900 光学測定ユニット
940 ルミネセンス放射
945 テストビーム
950 ビームスプリッタ
960 ルミネセンス検出ユニット
970 光ショートパスフィルタ
980 光検出器
Claims (18)
- 少なくとも1つのリソグラフィビーム(060)を用いてフォトレジスト(100)を露光することにより、非平面初期構造(010)上にターゲット構造(030)をリソグラフィ生成する方法であって、
a)非平面初期構造(010)の表面のトポグラフィ(020)を検出するステップ、
b)前記リソグラフィビーム(060)に対する少なくとも1つのテストパラメータを使用し、前記リソグラフィビーム(060)の前記初期構造(010)との相互作用と、結果として生じる前記リソグラフィビーム(060)の変化および/または生成されるべき前記ターゲット構造(030)の変化とを決定するステップ、
c)前記リソグラフィビーム(060)の前記初期構造(010)との相互作用によって生じる、前記リソグラフィビーム(060)および/または生成されるべき前記ターゲット構造(030)の変化が減少するように、前記リソグラフィビーム(060)に対する少なくとも1つの補正パラメータを決定するステップ、および
d)前記リソグラフィビーム(060)に対する前記少なくとも1つの補正パラメータを使用して、前記少なくとも1つのリソグラフィビーム(060)によって前記フォトレジスト(100)を露光することにより、前記所望のターゲット構造(030)を前記初期構造(010)上に生成するステップ、を含む方法。 - 方法のステップb)およびc)は、前記リソグラフィビーム(060)の前記初期構造(010)との前記相互作用により生成される前記ターゲット構造(030)の前記変化が結果として次第に低減されるように反復的に実行される、請求項1記載の方法。
- 前記非平面初期構造(010)の前記表面の前記トポグラフィ(020)を検出することが、前記非平面初期構造(010)のモデルに既知のデータを用いて、または前記表面の前記トポグラフィ(020)を決定するように構成された測定方法またはカメラを用いて実行される、請求項1または2記載の方法。
- 前記リソグラフィビーム(060)の前記初期構造(010)との相互作用と、ステップb)中に、結果として生じる前記リソグラフィビーム(060)の変化および/または生成されるべき前記ターゲット構造(030)とを決定することが、ルミネセンス放射(940)を検出することによって実行され、前記ルミネセンス放射(940)は、前記テストパラメータで設定された前記リソグラフィビーム(060)により生成される、請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
- 前記ルミネセンス放射(940)のパワーが、前記フォトレジスト(100)における前記リソグラフィビーム(060)の焦点(065)での強度に非直線的に依存する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。
- 前記リソグラフィビーム(060)に対する少なくとも1つの前記補正パラメータが、前記リソグラフィビーム(060)のうちの少なくとも1つの領域(070、071)の
− 光パワー
− 少なくとも1つの波長
− 描画速度
− 断面
− 振幅プロファイル
− 位相プロファイル、および/または
− 位置
の調整を含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。 - 前記リソグラフィビーム(060)に対する前記少なくとも1つの補正パラメータは、前記リソグラフィビーム(060)に通過される、ビーム成形ユニット(110)の調整を含み、それにより前記リソグラフィビーム(060)の振幅および/または位相分布の調整が実行される、請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。
- 露光されるべき各体積要素(040)への個々の調整が少なくとも1つの第1補正パラメータに対して行われ、第2補正パラメータに対しては、選択されたグループ内の複数の堆積要素(040)に対して同じ値が維持されるように少なくとも2つの補正パラメータが変更される、請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。
- 前記非平面初期構造(010)が、前記リソグラフィビーム(060)と相互作用するエッジ(052)を有し、前記リソグラフィビーム(060)が前記エッジ(052)に接近するにつれて、前記リソグラフィビーム(060)の前記光パワーを増加させることによって、前記エッジ(052)の影響が少なくとも部分的に補償される、請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
- 前記フォトレジスト(100)が、リソグラフィレンズに対する液浸媒体として同時に機能する液体から選択される、請求項1〜9のいずれか1項に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの補正パラメータは、以下のサブステップ、
i)前記リソグラフィビーム(060)が、前記リソグラフィビーム(065)の前記非平面初期構造(010)との相互作用なしに体積要素(040)の中心点(041)に到達する、前記リソグラフィビーム(060)の第1領域(080)を決定するステップ、
ii)前記リソグラフィビーム(060)が、前記体積要素(040)の前記中心点(041)への経路で前記非平面初期構造(010)と相互作用する、前記リソグラフィビーム(060)の第2領域(071)を決定するステップ、および
iii)前記ビーム成形ユニット(110)の少なくとも1つの部分領域(111、112)の設定によって前記リソグラフィビーム(060)の前記第1領域(070)または前記第2領域(071)を修正するステップ
により決定される、請求項1〜10のいずれか1項に記載の方法。 - サブステップiii)が、前記ビーム成形ユニット(110)の第2部分領域(112)の設定により、前記リソグラフィビーム(060)の前記第2領域(071)を遮るステップと、前記リソグラフィビーム(060)の前記第1領域(070)の所望の強度分布が、前記体積要素(040)の前記中心点(041)の近傍において発生するように、前記ビーム成形ユニット(110)の第1部分領域(111)の設定を決定するステップと、を含む、請求項11記載の方法。
- 前記ターゲット構造(030)が、内側部分領域(037)および近表面部分領域(038)に分解され、前記リソグラフィビーム(060)に対する前記少なくとも1つの補正パラメータを決定することが、前記近表面部分領域および前記内側部分領域(037)に対して相互に異なる補正パラメータが決定されるように実行される、請求項1〜12のいずれか1項に記載の方法。
- 生成される前記ターゲット構造(030)が、その屈折光学素子、回折光学素子、光導波路またはこれらの組み合わせを含む群から選択される少なくとも1つの光学素子を有する、請求項1〜13のいずれか1項に記載の方法。
- 前記非平面初期構造(010)が、少なくとも1つの導光性コアを有する光ファイバ、端面放射型集積光チップ、半導体レーザーまたはこれらの組み合わせを含む群から選択される少なくとも1つの光学素子を有する、請求項1〜14のいずれか1項に記載の方法。
- 請求項1〜15のいずれか1項に記載の方法により、少なくとも1つのリソグラフィビーム(060)を用いてフォトレジスト(100)を露光させることによって非平面初期構造(010)上にターゲット構造(030)をリソグラフィ生成するための装置であって、
− フォトレジスト(100)内で、前記リソグラフィビーム(060)を発生させ、前記リソグラフィビーム(060)を位置決めするためのリソグラフィユニット(600)、
− 前記リソグラフィビーム(060)の振幅および/または位相分布に影響を与えるように構成されたビーム成形ユニット(110)、および
− 前記リソグラフィユニット(600)と前記ビーム成形ユニット(110)を駆動するように構成されたデータ処理ユニット(610)であって、生成されるべき前記ターゲット構造(030)の構造データと、前記リソグラフィビーム(060)の前記非平面初期構造(010)との相互作用によって生じる前記リソグラフィビーム(060)の変化を補正するためのデータとを保存するようにさらに構成されたデータ処理ユニット(610)
を少なくとも備える、装置。 - − 前記非平面初期構造(010)の前記トポグラフィ(020)を検出するように構成された光学測定ユニット(900)、および/または
− 前記フォトレジスト(110)からのルミネセンス放射(940)を検出するように構成されたルミネセンス検出ユニット(960)
をさらに備える請求項16記載の装置。 - 前記ビーム成形ユニット(110)は、次のユニット:
− 空間光変調器(SLM)
− 液晶ベースの変調器
− 音響−光学変調器(AOM)
− 電気光学変調器(EOM)
− 駆動可能なダイヤフラム、および/または
− マイクロミラーアレイ
のうちの少なくとも1つを含む、請求項16または17記載の装置。
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