JP2019523447A - 光学製品の永久的可視マーキングの方法及びマーキングされた光学製品 - Google Patents
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Abstract
Description
マーキングマシンは、電磁ビーム、好ましくはレーザビームでマーキングするマーキングマシンであり、前記マーキングマシンは、マーキング波長と呼ばれる設定放射波長を有するビームを発するように構成された電磁波源、好ましくはレーザ源を含み、
光学製品は、干渉コーティングで被覆された主要面を有する基板を含む光学製品であり、前記干渉コーティングは、内層及び外層と呼ばれる少なくとも2つの重ね合わされた層を含み、内層は、基板と外層との間にあり、干渉コーティングは、それが可視領域(380〜780nm)において反射係数Reを有するようなものであり、
使用は、少なくとも、マーキングスポットと呼ばれるあるスポットにおいて、マーキング波長のレーザビームを内層に照射して、マーキングスポットにおいて、内層の厚さの少なくとも一部にわたる内層と、電磁波源と内層との間にある任意の層とを除去することを含み、且つ除去された領域が可視領域(380〜780nm)において反射係数Rmを有するようなものであり、Rmは、Reと少なくとも1%だけ異なり、
内層は、電磁波源と内層との間にある任意の層よりも多くマーキング波長を吸収する、方法である。
干渉コーティングの表面上にマーキングパターンを含み、マーキングパターンは、複数の実質的に同一のマーキングスポットによって形成され、各マーキングスポットは、内層及び前記表面と内層との間にある任意の層が局所的に存在しないことに対応し、除去された領域は、可視領域(380〜780nm)において反射係数Rmを有し、それにより、Reは、Rmと少なくとも1%だけ異なり、マーキングパターンは、好ましくは、連続している、光学製品である。好ましくは、このような光学製品は、本発明によるマーキング方法を用いて得られる。
− 200〜400nm、好ましくは200〜300nmの区間に含まれる放射波長、
− 0.5〜5nsの区間に含まれるパルス持続時間、及び
− 0.1〜10μJの区間に含まれる、好ましくは0.5〜3μJの区間に含まれる1パルスあたりのエネルギー、及び
マーキングスポットにおける、5〜50μmの区間に含まれるビーム径
を有するパルス状紫外レーザ放射の焦点ビームを発することによって実行される。
眼鏡レンズ(1)は、基板(6)であって、その上に(クロム、「Cr1」の)第一の金属層(5)、二酸化錫SnO2の内層(4)、(クロム、「Cr2」の)第二の金属層(3)又は吸光層、及び一酸化シリコンSiOの外層(2)が重ねられる基板(6)からなる。基板(6)は、ここで、Mithril(登録商標)という商標の傷防止コーティングを含む偏光又は着色基板である。
眼鏡レンズ(20)は、Mithril(登録商標)という商標の傷防止コーティングを含む、Essilor International(登録商標)によるインデックス1.5のレンズである基板(21)と、その上に重ねられた、基板上に存在するニスから開始して連続的に、酸化ジルコニウムZrO2の第一の層(18)、二酸化シリコンSiO2の第一の層(17)、二酸化ジルコニウムZrO2の第二の層(16)、二酸化錫SnO2の層(15)又は内層、二酸化シリコンSiO2の第二の層(14)又は外層、(疎水性及び/又は撥油性の)汚れ防止層(13)、厚さ37nmの二フッ化マグネシウムMgF2の層(12)、及び厚さ数ナノメートルの酸化マグネシウムMgOの層(11)を含むコーティングからなる干渉コーティングとからなる。
図6〜9は、本発明によるマーキング方法のこの第三の例示的な実施形態を概略的に示しており、層(19)の性質のみが第二の例示的な実施形態に関して変更されている。
Claims (15)
- 光学製品(1、20)をマーキングする方法であって、前記光学製品(1、20)上でマーキングマシンを使用する少なくとも1つのステップを有し、
前記マーキングマシンは、電磁ビーム(23)、好ましくはレーザビームでマーキングするマーキングマシンであり、前記マーキングマシンは、マーキング波長と呼ばれる設定放射波長を有するビームを発するように構成された電磁波源、好ましくはレーザ源を有し、
前記光学製品は、干渉コーティング(2、3、4、5;14、15、16、17、18、19)で被覆された主要面を有する基板(6、21)を有する光学製品(1、20)であり、前記干渉コーティングは、内層(4、15)及び外層(2、14)と呼ばれる少なくとも2つの重ね合わされた層を有し、前記内層は、前記基板と前記外層との間にあり、前記干渉コーティングは、前記干渉コーティングが可視領域(380〜780nm)において反射係数Reを有するようなものであり、
前記使用は、少なくとも、マーキングスポット(25、P)と呼ばれる所与のスポットにおいて、前記マーキング波長の前記レーザビームを前記内層(4、15)に照射して、前記マーキングスポットにおいて、前記内層の厚さの少なくとも一部にわたる前記内層と前記電磁波源と前記内層との間にある任意の層とを除去することを有し、且つ前記除去された領域が前記可視領域(380〜780nm)において反射係数Rmを有するようなものであり、Rmは、Reと少なくとも1%だけ異なり、
前記内層は、前記電磁波源と前記内層との間にある任意の層よりも多く前記マーキング波長を吸収する、マーキング方法。 - RmとReとの間の差は、絶対値で3%より大きく、さらにより好ましくは5%より大きいようなものである、請求項1に記載のマーキング方法。
- 前記照射することは、少なくとも以下のパラメータの
− 200〜400nm、好ましくは200〜300nmの区間に含まれる放射波長、及び
− 0.1〜5nsの区間に含まれるパルス持続時間、及び
− 0.1〜10μJの区間に含まれる、好ましくは0.5〜3μJの区間に含まれる1パルスあたりのエネルギー、及び
− 前記マーキングスポット(24、P)における、5〜50μmの区間に含まれるビーム径、を有するパルス状紫外レーザ放射の焦点ビームを発することによって実行されるようなものである、請求項1又は2に記載のマーキング方法。 - 前記照射することを実行する前記パルス状紫外レーザ放射のビームの放射波長が200〜300nmの区間に含まれる場合、前記内層(4、15)は、好ましくは基本的に錫からなり、好ましくは酸化錫、さらにより好ましくは二酸化錫SnO2を主成分とするようなものである、請求項1〜3の何れか一項に記載のマーキング方法。
- 前記内層(4、15)は、1〜100nm、好ましくは2〜25nm、さらにより好ましくは4〜15nmの区間に含まれる厚さを有し、前記内層(4、15)及び前記外層(2、14)の厚さの合計は、5〜300nm、好ましくは45〜175nmに含まれるようなものである、請求項1〜4の何れか一項に記載のマーキング方法。
- 前記干渉コーティング(2、3、4、5)は、少なくとも1つの吸光層(3)を有するようなものである、請求項1〜5の何れか一項に記載のマーキング方法。
- 前記内層から前記外層までカウントされる層のすべては、透過された可視光の少なくとも0.5%を共同で吸収し、且つReとRmとの間の前記差の絶対値の0.5〜1.5倍、好ましくは0.9〜1.1倍の区間に含まれる吸光度を有するようなものである、請求項6に記載のマーキング方法。
- 前記除去された領域及び除去されていない領域によって透過される光の量の間の差は、−0.5×(Rm−Re)〜0.5×(Rm−Re)に含まれ、(Rm−Re)は、ReとRmとの間の前記差の前記絶対値を表すと理解されるようなものである、請求項1〜7の何れか一項に記載のマーキング方法。
- 前記干渉コーティングは、反射防止コーティング(14、15、16、17、18)であり、且つ前記基板の表面又は前記基板上に存在するニスから外側に、厚さ5〜40nmのZrO2の層(18)、厚さ10〜55nmのSiO2の層(17)、厚さ20〜150nmのZrO2の層(16)、厚さ4〜15nmのSnO2の内層(15)、及び厚さ50〜120nmのSiO2の外層(14)を有するようなものである、請求項1〜8の何れか一項に記載のマーキング方法。
- 前記干渉コーティングは、それ自体が撥水コーティング、曇り防止コーティング、汚れ防止コーティング及び/又は保護材料の少なくとも1つの層等の表面コーティング(13、12、11)で被覆されるようなものである、請求項1〜9の何れか一項に記載のマーキング方法。
- 前記照射することは、複数のマーキングスポットによって前記光学製品の前記基板の前記主要面の領域を局所的にマーキングするために必要な数のマーキングスポットで実行され、前記領域は、マーキングパターンと呼ばれる所定のパターンを形成するようなものである、請求項1〜10の何れか一項に記載のマーキング方法。
- 前記マーキングパターンを形成する前記領域を画定する前記マーキングスポット間に連続性があり、前記領域は、好ましくは、前記除去された層からの単位面積あたり1%未満の残留部分を有するようなものである、請求項11に記載のマーキング方法。
- 前記マーキングは、前記マーキングスポットの寸法以下である寸法のピッチで実行されるようなものである、請求項11又は12に記載のマーキング方法。
- 前記マーキングスポットにおける反射は、前記除去されていない領域の前記反射のものと彩度及び/又は色相において異なる色を有するようなものである、請求項1〜13の何れか一項に記載のマーキング方法。
- 干渉コーティング(14、15、16、17、18)で被覆された主要面を有する基板(21)を有し、前記干渉コーティングは、内層(15)及び外層(14)と呼ばれる少なくとも2つの重ね合わされた材料層を有し、前記内層は、前記基板と前記外層との間にあり、前記干渉コーティングは、前記干渉コーティングが可視領域(380〜780nm)において反射係数Reを有するようなものである、光学製品(30)であって、
前記干渉コーティングの表面上にマーキングパターン(22)を有し、前記マーキングパターン(22)は、複数の実質的に同一のマーキングスポット(P)によって形成され、各マーキングスポットは、前記内層(15)の厚さの少なくとも一部及び前記表面と前記内層との間にある任意の層(14、13、12、11)が局所的に存在しないことに対応し、除去された領域は、前記可視領域(380〜780nm)において反射係数Rmを有し、Reは、Rmと少なくとも1%だけ異なるようなものであり、前記マーキングパターン(22)は、好ましくは、連続している、光学製品(30)。
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