JP2019523367A - 閉鎖装置、閉鎖装置付き真空システム、及び閉鎖装置の操作方法 - Google Patents

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Abstract

閉鎖装置(100、200)、具体的には真空チャンバの開口を閉鎖するための閉鎖装置が設けられる。閉鎖装置は、真空チャンバに設けられ且つ開口(112)を含むフランジ(110)、開口(112)を閉鎖するように構成された封鎖装置(120、220)、封鎖装置の少なくとも一部を開放位置(I)から閉鎖位置(II)へと移行させるため、フランジ(110)と封鎖装置(120)との間に磁気閉鎖力を生成するように構成された第1の磁気装置(130)、及び封鎖装置(120)をフランジ(110)と平行な第1の方向(T)にガイド構造に沿って非接触式で移送するように構成された磁気浮上システム(150)であって、第1の方向(T)を横切る第2の方向(X)に封鎖装置(120)を安定化するように構成された第2の磁気装置(160)を含む、磁気浮上システム(150)を含む。【選択図】図1A

Description

本開示の実施形態は、閉鎖装置、具体的には第1の圧力領域と第2の圧力領域の間で、開口を真空気密に閉鎖するための閉鎖装置に関する。より具体的には、真空チャンバの開口を閉鎖するための閉鎖装置が記載される。実施形態はさらに、真空チャンバ及び、真空チャンバの開口を真空気密に閉鎖するための閉鎖装置を備える、真空システムに関する。実施形態はさらに、閉鎖装置を操作する方法、具体的には真空チャンバの開口を閉鎖する方法に関する。
真空チャンバを大気環境に対して真空気密に閉鎖するため、または異なる圧力下にある真空システムの各領域を互いから分離するために、ロックバルブ、ゲートバルブ、ゲート、及び他の閉鎖装置が使用され得る。例えば、閉鎖装置が開放位置にあるときに、真空チャンバの中にか、真空チャンバから外にか、または真空システムの2つの領域間で、基板または他の物体を移送するために、ゲートバルブまたは別の閉鎖装置が、真空チャンバの閉鎖可能なドアとして、または2つの真空領域間の閉鎖可能な通路として使用され得る。この閉鎖装置の閉鎖位置では、異なる圧力下にある2つの領域が、蓋、パドル、または閉鎖装置の閉鎖プレートといった封鎖装置によって、互いから分離されている。
閉鎖装置は、典型的には真空チャンバの壁に接続されているかまたは真空チャンバの壁と一体的に形成されている固定構成要素であるフランジであって、フランジ壁に囲まれた開口が設けられている、フランジを含んでいてよい。閉鎖装置はさらに、フランジの開口を真空気密に閉鎖するように構成された蓋といった、可動の封鎖装置を含んでいてよい。蓋は、その閉鎖位置では、開口を取り囲んでいるフランジのシール面上に載っていてよく、それによってこの開口は封止される。蓋の開口位置では、開口は、その中を通って基板やマスクと言った構成要素を移送するために使用されてよい。
ディスプレイ、及び/またはOLED装置といった、例えば光学用途、電子用途、または光電子用途用の基板のサイズは、持続的に大きくなってきている。したがって、開放位置では大面積基板が中を通って移送されるように構成された、大きな開口部を有する閉鎖装置を設けることが、有益であるだろう。例えば、閉鎖装置の開口部は、0.5m以上の面積を有していてよい。
閉鎖装置の関連要因の一つは、例えば閉鎖装置の閉鎖状態にあるフランジのシール面に対して蓋が押し付けられたときの、蓋及びフランジの変形である。変形の結果、蓋とフランジの間に不均一な圧力が、具体的には封止要素上に不均一な圧力が、生じ得る。その結果高い閉鎖力が必要とされ得るが、これは例えばフランジと蓋との間の摩擦力によって、真空システム内に粒子が生成されることにつながり得る。粒子の生成は、真空の質に負の影響を与え得る。さらに、真空堆積システム内の小さい粒子によって、堆積結果に負の影響が生じ得る。なぜならば、粒子のうちの一部が、基板に付着し得るからである。
同様に、蓋の閉鎖動作中の弾性封止要素と蓋との間の相対的な動きも、粒子の生成につながり得る。
したがって、大型の開口をも確実に閉鎖する一方で、真空チャンバ内の摩擦力による粒子の生成を低減するように構成された真空チャンバ用の閉鎖装置を設けることが、有益であるだろう。
上記の観点から、閉鎖装置、真空システム、及び閉鎖装置の操作方法が、提供される。
本開示の一態様に従って、閉鎖装置が設けられる。閉鎖装置は、真空チャンバに設けられ且つ開口を含むフランジ、開口を閉鎖するように構成された封鎖装置、封鎖装置または封鎖装置の一部を開放位置から閉鎖位置へと移行させるため、フランジと封鎖装置との間に磁気閉鎖力を生成するように構成された第1の磁気装置、及び封鎖装置をフランジと平行な第1の方向にガイド構造に沿って非接触式で移送するように構成された磁気浮上システムであって、第1の方向を横切る第2の方向に封鎖装置を安定化するように構成された第2の磁気装置を含む、磁気浮上システムを含む。
ある実施形態では、開口付きフランジは、真空チャンバと一体的に形成されているか、または真空チャンバに接続されていてよい。したがって、フランジの開口部は真空チャンバの内壁または外壁内の開口を構成していてよい。
本開示のさらなる一態様に従って、真空システムが設けられる。真空システムは、真空チャンバ、真空チャンバの内壁または外壁に設けられ且つ開口を含むフランジ、開口を閉鎖するように構成された封鎖装置、封鎖装置または封鎖装置の一部を開放位置から閉鎖位置へと移行させるため、フランジと封鎖装置との間に磁気閉鎖力を生成するように構成された第1の磁気装置、及び封鎖装置をフランジと平行な第1の方向に非接触式で移送するように構成された磁気浮上システムであって、第1の方向を横切る第2の方向に封鎖装置を安定化するように構成された第2の磁気装置を含む、磁気浮上システムを含む。
ある実施形態では、真空システムは、真空システム内で大気圧より低い状態で1つ以上の層を基板上に堆積するように構成された、蒸気源といった少なくとも1つの堆積源を含んでいてよい。
本明細書に記載のさらなる態様にしたがって、閉鎖装置の操作方法が提供される。方法は、封鎖装置を、真空チャンバに設けられ且つ開口を含むフランジと平行な第1の方向に非接触式で移送することと、第2の磁気装置で、封鎖装置を第1の方向を横切る第2の方向に磁気によって安定化させることと、封鎖装置または封鎖装置の一部を、開放位置から封鎖装置が開口を封止する閉鎖位置へと移行するため、第1の磁気装置によってフランジと封鎖装置との間に磁気閉鎖力を生成することと、を含む。
本開示のさらなる態様、利点及び特徴は、明細書、及び添付の図面から明らかとなる。
本開示の上記の特徴を詳細に理解することができるように、実施形態を参照することで、上で簡単に概説した本開示のより具体的な説明が得られてよい。添付の図面は、本開示の実施形態に関するものであり、以下で説明される。典型的な実施形態を図面に示し、以下の記載で詳説する。
開放位置(I)にある、本明細書に記載の実施形態による閉鎖装置の概略断面図である。 封鎖装置がフランジの開口を封止する閉鎖位置(II)にある、図1Aの閉鎖装置の概略断面図である。 封鎖装置が開口から離れた位置に移送されている、図1Aの閉鎖装置の概略正面図である。 封鎖装置が開口の前に配設されている、図1Aの閉鎖装置の概略正面図である。 閉鎖位置(II)にある、本明細書に記載の実施形態による閉鎖装置の概略正面図である。 封鎖装置が開口から離れて移送されている、図3Aの閉鎖装置の概略正面図である。 頭部と底部が追加で拡大図で描かれている、図3Aの閉鎖装置の概略断面図である。 本明細書に記載の実施形態による閉鎖装置の概略断面図である。 本明細書に記載の実施形態による閉鎖装置の操作方法を示すフロー図である。
ここで、様々な実施形態を詳細に参照し、それらの1つ以上の実施例を図面に示す。各実施例は説明用として提示されており、限定を意味するものではない。例えば、一実施形態の一部として図示または説明される特徴は、他の任意の実施形態で使用して、または他の任意の実施形態と併せて使用して、さらに別の実施形態を生み出すことが可能である。本開示は、こうした修正形態及び変形形態を含むことが意図されている。
図面に関する以下の説明中、同じ参照番号は、同一または同様の構成要素を指している。個々の実施形態に関しては、相違点のみが説明される。別様に明記されていない限り、一実施形態の一部分または一態様の説明は、別の実施形態の対応する一部分または一態様にも当てはまる。
図1Aは、開放位置(I)にある、本明細書に記載の実施形態による閉鎖装置100の概略断面図である。開放位置(I)では、閉鎖装置120はフランジ110の開口112の前に配設されているが、開口112を真空気密に閉鎖してはいない。図1Bは、閉鎖位置(II)にある、図1Aの閉鎖装置100の概略断面図である。閉鎖位置(II)では、封鎖装置120が開口112を真空気密に封止している。
「閉鎖装置」とは、本明細書で使用する場合、例えば真空チャンバの内部空間と周囲環境といった、異なる圧力に維持される2つの領域間の開口を、開放及び閉鎖するように構成された設備、即ち限定しないが例として、真空システムのゲートバルブ、ロックバルブ、ゲートロック、またはスライドドアといったドアといった設備として理解されてよい。
「封鎖装置」とは、本明細書で使用する場合、開口を真空気密に閉鎖するために使用される、可動構成要素として理解されてよい。例えば、封鎖装置は、可動プレート、蓋、またはパドルとして構成されていてよいか、またはこれらを含んでいてよい。
フランジ110は、封鎖装置120用の相手プレート(counterplate)を含んでいてよい。具体的には、フランジ110は、開口112を取り囲むシール面を有していてよく、封鎖装置120は、閉鎖装置の閉鎖位置(II)で、フランジ110のシール面に向かって引き寄せられ得る。閉鎖位置(II)では、弾性封止材といった封止要素が、封鎖装置120とフランジ110の間で作用し得る。
例えば、フランジ110のシール面に、少なくとも1つの封止要素が設けられていてよく、少なくとも1つの封止要素は、開口112を取り囲む封止リングを含んでいてよい。封鎖要素120がフランジのシール面に向かって動かされるとき、少なくとも1つの封止要素は、封鎖要素120の表面に対して押し付けられてよく、それによって開口112が封止される(図1B参照)。ある実施形態では、フランジのシール面の方を向いている封鎖装置のシール面内に、少なくとも1つの封止要素が設けられてよい。
フランジ110は、フランジ110の開口によって真空チャンバの外壁または内壁に開口が設けられるようにして、真空チャンバ(図1Aでは図示せず)に取り付けられていてよい。ある実施形態では、フランジ110は、真空チャンバと一体的に形成されていてよい。例えば、フランジは、真空チャンバ内の開口を取り囲む、真空チャンバの壁部分であってよい。
閉鎖装置100は、フランジ110に対して可動である封鎖装置120を含む。具体的には、封鎖装置120は、図1Aに示す開放位置(I)と図1Bに示す閉鎖位置(II)との間で移送され得る。閉鎖位置(II)では、封鎖装置は開口を真空気密に封止する。開放位置から閉鎖位置への封鎖装置の動きは、フランジと垂直の方向、例えばフランジのシール面と垂直な方向であってよい。具体的には、封鎖装置はシール面に向かって閉鎖位置へと動き得るが、一方で封鎖装置とフランジは互いに平行に配向されている。その結果、封止要素はフランジと垂直な方向に均等に押圧されることができ、それによって、フランジと封鎖装置との間の摩擦接触の下での相対的な動きによる粒子の生成が、削減または防止され得る。
封鎖装置120は、基本的に垂直に配向されていてよい。言い換えれば、封鎖装置120の主な方向は、基本的に垂直の方向であってよい。「基本的に垂直」は、重力軸から+/−20°の逸脱を含んでいてよい。したがって、フランジ110もまた基本的に垂直に配向されていてよい。例えば、開口112は、真空チャンバの側壁内の開口であってよい。他の実施形態では、封鎖装置120及びフランジ110は、基本的に水平に配向されていてよい。例えば、開口112は、真空チャンバの頂壁内の開口であってよい。
閉鎖装置100はさらに、封鎖装置120(または封鎖装置の少なくとも一部)を図1Aの開放位置から図1Bの閉鎖位置へと移行するため、フランジ110と封鎖装置120との間に磁力を生成するように構成された、第1の磁気装置130を含む。フランジ110と封鎖装置120との間の磁力は、封鎖装置をフランジのシール面に向かって引き寄せる、磁気吸引力であってよい。
ある実施形態では、第1の磁気装置130は、1つ以上の磁石、具体的には電磁石を含む。この磁石は、この1つ以上の磁石が生成し得る磁気閉鎖力によって、封鎖装置120がフランジのシール面に向かって引き寄せられ得るようにして、フランジ110に設けられていてよい。磁気閉鎖力の方向は、図1Bの2本の左向きの矢印によって表されている。具体的には、第1の磁気装置130は、フランジ110に配設され、開口の周囲に分布する位置に設けられた、複数の磁石を含んでいてよい。例えば、開口に近接したフランジに、それぞれ、4つ以上の磁石が配設されてよい。
第1の磁気装置130は、制御可能な磁気閉鎖力を生成するように構成された、制御可能な磁気装置であってよい。例えば、アクティブ制御される磁気装置が設けられてよい。具体的には、第1の磁気装置によって生成される磁場の強さは、例えば、封鎖装置とフランジの間の距離に応じて、及び/または封鎖装置の両側の圧力差に応じて、可変であってよい。ある実施形態では、第1の磁気装置130は、封鎖装置とフランジの間に吸引力または反発力を選択的に生成し、それによって封鎖装置が第1の磁気装置130によって選択的に開放及び閉鎖され得るように構成されていてよい。他の実施形態では、第1の磁気装置130は、封鎖装置とフランジの間に、封鎖装置を閉鎖するための吸引力のみを提供するように構成されていてよい。
磁気閉鎖力は、フランジに対して基本的に垂直な方向、即ちフランジのシール面に対して垂直な方向に作用し得る。この方向は、以下では第2の方向(X)とも呼ばれている。図1Aに示す開放位置(I)では、封鎖装置とフランジの間の距離は、例えば1cm以下、具体的には5mm以下といった、小さい距離であってよい。第1の磁気装置130は、封鎖装置または封鎖装置の一部を、1cm以下、具体的には5mm以下といった前記の距離にわたって、開放位置から閉鎖位置へと移行させるように構成されていてよい。封鎖装置とフランジの間に作用し得る封止要素の均一な変形が実現され得、摩擦力による粒子の生成が低減され得る。
第2の方向(X)は、典型的には水平方向であり、フランジは、典型的には基本的に垂直に配向されている。しかし、水平に配向されたフランジを、開放位置と閉鎖位置との間で基本的に垂直な方向に動く封鎖装置によって閉鎖することも、また可能である。
封鎖装置120は、フランジのシール面に対して押圧するように構成された閉鎖プレートを含んでいてよい。閉鎖プレートは、少なくとも部分的には、鉄、特に鋼を含む金属といった、磁性材料でできていてよい。さらに、閉鎖プレートは、閉鎖位置(II)における封鎖装置の変形を低減するため、剛性で剛直な構成要素であってよい。
閉鎖装置100は、封鎖装置120をフランジ110と平行な第1の方向(T)にガイド構造に沿って非接触式で移送するように構成された、磁気浮上システム150をさらに含む。磁気浮上システムは、封鎖装置120を、第1の方向(T)を横切る、具体的には第1の方向(T)と垂直な、第2の方向(X)に安定化するように構成された、第2の磁気装置160を含む。第1の方向(X)及び第2の方向(T)は、典型的には、どちらも基本的に水平な方向である。しかし、他の実施形態も可能である。
したがって、封鎖装置120は少なくとも2つの方向に可動である。封鎖装置は、フランジから遠ざかる方向、即ちフランジと垂直な方向に、閉鎖位置(II)と開放位置(I)との間で移行することができ、また封鎖装置は、基本的にフランジと平行な第2の方向に、磁気浮上システムによって非接触式で移送することができる。封鎖装置の第2の方向(T)への移送は、スライドドア状の態様で実施されてよい。
図2A及び図2Bは、図1A及び図1Bの閉鎖装置100の、右側から見た概略正面図を示す。図2Aでは、封鎖装置120が、磁気浮上システム150によって、側方に向けて第1の方向(T)に、フランジ110に対して移送されている。その結果、フランジ110の開口112はもはや封鎖装置120によって覆われておらず、それによって、開口112を通って物体が邪魔されることなく移動し得る。例えば、基板またはマスクといった物体が、開口112を通って真空チャンバの内部に、または真空チャンバの外部へ、搬入出され得る。したがって、図2Aに示す位置は、「搬入出位置」とも呼ばれ得る。
図2Bでは、封鎖装置120は、開口112の前に配設されており、開口を封鎖している。したがって、図2Bに示す位置は、「封鎖位置」と呼ばれ得る。図1A及び図1Bの断面図は、封鎖位置にある閉鎖装置100を示している。
ガイド構造は、封鎖装置120を第1の方向(T)に非接触式でガイドするための、いくつかの軌道またはレールを含んでいてよい。第1の方向(T)は、図1Aの紙面に垂直な方向であり、図2Aの紙面に平行な方向である。例えば、封鎖装置120の上方に、少なくとも部分的に、頂部レール182が設けられていてよく、封鎖装置の両側面に、少なくとも1つの側面ガイドレール、例えば上部側面ガイドレール及び下部側面ガイドレールが設けられていてよい。少なくとも1つの側面ガイドレールに沿って、第2の磁気装置160が設けられていてよく、封鎖装置を保持するため、頂部レールに第3の磁気装置が設けられていてよい。頂部レール182及び/または少なくとも1つの側面ガイドレールは、第1の方向(T)に、第1の方向(T)への開口112の幅よりも長い、具体的には50cmよりも長い、さらに具体的には75cmよりも長い、長さを有していてよい。例えば、封鎖装置120は、第1の方向(T)に、ガイド構造に沿って、20cm以上、具体的には30cm以上の距離を移送され得る。図2Bに示す位置では、開口112は完全に封鎖解除されていてよい。
磁気浮上システム150は、ガイド構造において封鎖装置を非接触式で保持し、封鎖装置をガイド構造に沿って第2の方向(T)、即ちフランジ110と平行に非接触式で移送するように構成されている。例えば、図1Aでは、封鎖装置120はガイド構造において、即ち頂部レール182の下方、且つ側面ガイドレール間で、非接触式で保持されている。したがって、封鎖装置120が第2の方向(T)に移送されているとき、封鎖装置は、ガイド構造及び/または真空チャンバの別の固定構成要素と機械的接触を全く有しておらず、それによって、封鎖装置の摩擦接触による粒子の生成は、さらに低減され得る。封鎖装置の非接触式による移送は、封鎖装置が真空システム内部の通路、例えば2つの真空チャンバ間の通路を閉鎖するように構成されている場合に、特に有益である。
第2の磁気装置160は、第1の方向(T)に垂直に延びていてよい第2の方向(X)に、封鎖装置120を安定化するように構成されていてよい。言い換えれば、第2の磁気装置160は、封鎖装置120の移送方向に垂直な方向に、封鎖装置120を安定化するように構成されていてよい。
封鎖装置を、第2の磁気装置160によって移送方向に垂直な第2の方向(X)に安定化することは、いくつかの利点を提供し得る。例えば、封鎖装置の移送中、非接触式の搬送を可能にする一方で、封鎖装置とフランジの間の距離が、適切に維持され得る。さらに、封鎖装置の側面を安定化することによって、フランジのシール面に対する、封鎖装置の平行な配向が得られてよく、維持されてよい。封鎖装置の側面を非接触式で磁気によって安定化することは、さらに有益である。なぜならば、粒子の生成が低減され得るし、位置決めの高度な正確性が実現し得るからである。
ある実施形態では、第2の磁気装置160は、第1の方向(T)への移送中、フランジから所定の距離のところで封鎖装置を保持するように構成されていてよい。例えば、第2の磁気装置160は、2側面における安定化を提供してよい。言い換えれば、封鎖装置が移送中にフランジから離れる傾向がある場合には、第2の磁気装置は封鎖装置がフランジの方向に戻るように促してよく、封鎖装置が移送中にフランジに接近しすぎる傾向がある場合には、第2の磁気装置は、封鎖装置が図1Aに示す均衡位置に向かってフランジから離れるように促してよい。第2の磁気装置160は、磁力を介して封鎖装置に作用するように構成されていてよい。
ある実施形態では、第2の磁気装置160は、複数の磁石、例えば電磁石、及び/または永久磁石を含む。永久磁石が便利であり得る。なぜならば、電力が一切必要とされないからである。例えば、永久磁石は、ガイド構造に沿った移送中に、封鎖装置を図1Aに示す均衡位置で安定化するため、2つの対向する側面から封鎖装置に作用し得る。
本明細書に記載の他の実施形態と組み合わされてよいある実施形態では、第2の磁気装置160はパッシブ(passive:受動的な)磁気安定化装置を含む。パッシブ磁気安定化装置は、アクティブ制御を受けない磁気装置であるとして理解されてよい。例えば、距離といった入力パラメータに応じて制御される、電流といった出力パラメータは、全く存在しない。むしろ、パッシブ磁気安定化装置は、フィードバック制御を全く受けることなしに、封鎖装置を所定の位置で安定化してよい。
ある実施形態では、第2の磁気装置160は、封鎖装置120の少なくとも1つの側面に固定された第1の複数の永久磁石165と、ガイド構造、例えばガイド構造の側面ガイド部分に固定された第2の複数の永久磁石166とを含んでいてよい。封鎖装置上の第1の複数の永久磁石165は、側面ガイド部分上の第2の複数の永久磁石166の方に面していてよく、その結果、例えば第1の複数の永久磁石165と第2の複数の永久磁石166との間に反発力が生成される。具体的には、第1の複数の永久磁石及び第2の複数の永久磁石の、同じ極性を持つ極(N極またはS極)同士は、互いに向き合っていてよく、それによって例えば反発力が生じる。
ある実施形態では、ガイド構造は、封鎖装置120の第1の側面上に配設された第1の側面ガイド部168と、封鎖装置の、第1の側面とは反対側の第2の側面上に配設された第2の側面ガイド部169とを備えていてよく、第2の複数の永久磁石166の永久磁石は、第1の側面ガイド部168と第2の側面ガイド部169の両方に取り付けられている。さらに、第1の複数の永久磁石165の永久磁石は、封鎖装置120の背向する両面に取り付けられていてよい。その結果、封鎖装置120は、封鎖装置の両面に作用する対向する磁力によって、第1の側面ガイド部168と第2の側面ガイド部169の間の均衡位置へと促されてよい。
図1Aでは、1つの極性を持つ極(例えばS極)が横線の網掛けで表され、反対の極性を持つ極(例えばN極)が縦線の網掛けで表されている。図1Aから分かるように、封鎖装置の第1の側面では同じ極性の極同士が互いに向き合っており、それによって、封鎖装置が第1の側面ガイド部168から離れるように促され、封鎖装置の第2面でも同じ極性の極同士が互いに向き合っており、それによって、封鎖装置が第2の側面ガイド部169からも離れるように促される。その結果、封鎖部は、第1の側面ガイド部と第2の側面ガイド部との間の中央位置で安定化されてよい。
本明細書に記載の他の実施形態と組み合わされてよいある実施形態では、第2の磁気装置160は、封鎖装置120の下部を安定化するための下部磁気安定化装置162を含み得る。例えば、封鎖装置120の底部端は、図1Aに概略的に示されているように、ガイド構造のU字形のガイドレール167内に突き出していてよい。U字形のガイドレールは、封鎖装置の第1面に面する永久磁石を有する第1の側面ガイド部168と、封鎖装置の第2面に面する永久磁石を有する第2の側面ガイド部169を含んでいてよい。封鎖装置の両面に配設された永久磁石によって、封鎖装置は均衡位置へと促される。均衡位置は、第1の側面ガイド部168と第2の側面ガイド部169との間の、U字形ガイドレール167の中央位置に相当し得る。
代わりに、またはさらに、封鎖装置120の上部を第2の方向(X)に安定化するための上部磁気安定化装置161が設けられてもよい。下部磁気安定化装置162と同様に、上部磁気安定化装置161は、第1の側面ガイド部168及び第2の側面ガイド部169を含んでいてよく、封鎖装置120は、第1の側面ガイド部168と第2の側面ガイド部169の間に配設されて、両面からの磁力が封鎖装置120に作用することによって、均衡位置へと促されてよい。
上部磁気安定化装置と下部磁気安定化装置を設けることによって、封鎖装置120の配向が必要に応じて正確にセットされ得る。例えば、封鎖装置の垂直の配向が確保され得る。
本明細書に記載の他の実施形態と組み合わされてよいある実施形態では、第1の複数の永久磁石165及び第2の複数の永久磁石166は、封鎖装置120の両面上に配置されていてよく、その結果、例えば垂直上方に作用する磁力効果が生成されてよい。前記磁力効果は、封鎖装置120の重量の一部が第2の磁力装置160によって担われ得るように、封鎖装置120を上方に促してよい。簡潔に言うと、両側から第1の側面ガイド部168と第2の側面ガイド部169との間の均衡位置に促される封鎖装置120は、垂直方向上方に上がることによって、上記の対向して作用する磁力から逃れようと試みるのである。
第2の磁力装置160の垂直に作用する力の効果は、ガイド構造に固定された第2の永久磁石の第2の高さとは異なる第1の高さで、封鎖装置120に固定された第1の永久磁石を設けることによって、増大されてよい。例えば、図1Aに概略的に示されているとおり、封鎖装置120に固定された第1の永久磁石は、垂直方向上方に作用する磁力を得るために、ガイド構造に固定された第2の永久磁石よりもわずかに高い位置に配設されている。
ある実施形態では、下部磁気安定化装置162と上部磁気安定化装置161の両方が、図1Aに概略的に示されているとおり、垂直力効果を提供してよい。
ある実施形態では、第2の磁力装置160は、封鎖装置120に作用する垂直磁力を生成するように構成されていてよい。この力は、封鎖装置120の重量の10%以上、具体的には20%以上、より具体的には50%以上を担い得る。例えば、第2の磁気装置160は、封鎖装置120の重量のうちの20kg以上、具体的には50kg以上を担うように構成されていてよい。封鎖装置の重量の少なくとも一部を担う永久磁石を設けることは、有益であり得る。なぜならば、この永久磁石には、電力の供給が全く不要であるからである。
第1の磁力装置130の磁気閉鎖力は、封鎖装置120を図1Aに示す均衡位置から、フランジ110に向かって引き離し、図1Bに示す閉鎖位置(II)へと引き寄せ得る。
本明細書に記載の他の実施形態と組み合わされてよいある実施形態では、第2の磁気装置160は、封鎖装置を閉鎖位置(II)から開放位置(I)へと移行させるように構成されていてよい。具体的には、第1の磁気装置130は、封鎖装置を閉鎖するための磁気閉鎖力を生成するように構成されていてよく、第2の磁気装置160は、封鎖装置を開放するための磁力を生成するように構成されていてよい。封鎖装置120を閉鎖位置(II)から開放位置(I)へと移行させるために、第1の磁気装置130の磁気閉鎖力が低減されるかスイッチオフされてよく、それによって、第2の磁気装置160の磁気安定化力が封鎖装置をフランジ110から離して、図1Aに示す均衡位置へと動かしてよい。図1Aに示す均衡位置は、開放位置(I)に相当する。
第2の磁力装置160は永久磁石を含むパッシブ磁気装置であり得るので、封鎖装置を開放するためにさらなる力は不要であってよい。むしろ、封鎖装置を開放するためには、磁気閉鎖装置を低減するか、スイッチオフすれば十分であり得る。
本明細書に記載の他の実施形態と組み合わされてよいある実施形態では、磁気浮上システム150は、ガイド構造において封鎖装置を非接触式で保持するように構成された、第3の磁気装置180を含んでいてよい。第3の磁気装置180は、少なくとも部分的に、封鎖装置120の上に配設されていてよく、封鎖装置120を上方に吸引し得る垂直磁力を生成してよい。具体的には、封鎖装置120は、ガイド構造の頂部レール182の下に、第3の磁気装置180によって生成された磁気吸引力で懸吊されていてよい。
第3の磁気装置180は、複数のアクティブ(active:能動的な)磁気ベアリング184を含んでいてよい。例えば、アクティブ磁気ベアリング184のコイルが封鎖装置120に一体化されているか、及び/または、アクティブ磁気ベアリング184のコイルがガイド構造、例えばガイド構造の頂部レール182内に一体化されていてよい。
図1A及び図1Bの実施形態では、アクティブ磁気ベアリング184は、ガイド構造に一体化されている。アクティブ磁気ベアリング184の下方に配設されている封鎖装置120の頭部が、アクティブ磁気ベアリング184に向かって引き寄せられてよい。第3の磁気装置180は、封鎖装置の重量の少なくとも一部を担ってよい。既に上記したとおり、封鎖装置の重量のさらなる部分が、第2の磁気装置160によって生成される垂直磁力効果によって担われてよい。他の実施形態では、封鎖装置120の全重量が、第3の磁気装置180によって担われてよい。
アクティブ磁気ベアリング184は、アクティブ制御される磁気アクチュエータであるとして理解されてよい。例えば、アクティブ磁気ベアリングに印加される電流といった出力パラメータは、距離、例えば封鎖装置120とガイド構造との間の距離といった、入力パラメータに応じて制御され得る。具体的には、頂部レール182と封鎖装置120との間の距離は、距離センサによって測定されてよく、アクティブ磁気ベアリングの磁場強度は、測定された距離に応じてセットされてよい。磁場強度は、所定の閾値を上回る距離の場合には増大されてよく、所定の閾値を下回る距離の場合には低減されてよい。アクティブ磁気ベアリング184は、閉ループ制御またはフィードバック制御で制御されてよい。封鎖装置120の上部に、頂部レール182内のアクティブ磁気ベアリング184によって引き寄せられる、対応するこちら側の磁石(magnetic counterpart)が取り付けられてよい。
こうして、封鎖装置120は、非接触式の浮上状態でガイド装置に保持され移送されることができ、これは有益なことである。なぜならば、真空システム内で、粒子生成といった汚染が低減され得るか、回避され得るからである。
ある実施形態では、各アクティブ磁気ベアリング184は、磁気アクチュエータ、及び、封鎖装置とガイド構造との間の距離を測定するための距離センサを含んでいてよく、磁気アクチュエータは、具体的には制御ループまたはフィードバックループで、測定された距離に応じて制御されてよい。
封鎖装置120が極端に硬い方向、具体的には基本的に垂直の方向に、アクティブ磁気ベアリング184が作用するときには、アクティブ制御によって誘発され得るブロック装置120の振動は低減され得る。一方で、封鎖装置は、第2の方向(X)、即ち横方向にもっと可撓性があってよい。しかし、横方向への振動の誘発は、封鎖装置の側面安定化を提供する第2の磁気装置160がパッシブ磁気安定化装置として構成されているときに、低減され得るかまたは回避され得る。その結果として、振動誘発のリスクがない、正確な非接触式の封鎖装置の移送が可能になる。
図2A及び図2Bに概略的に示すように、第1の方向(T)にガイド構造に沿って、複数のアクティブ磁気ベアリング184が設けられてよい。例えば、3個、5個、10個、またはそれよりも多くのアクティブ磁気ベアリングが設けられてよい。ある実施形態では、2つの隣接するアクティブ磁気ベアリングの間の距離は、封鎖装置120の第1の方向(T)の幅の寸法よりも小さくてよい。それによって、少なくとも2つのアクティブ磁気ベアリングが、移送中の任意の時点で封鎖装置と係合していてよい。
ある実施形態では、封鎖装置120は、ガイド構造の頂部レール182から下方に非接触式に懸吊されている閉鎖プレートとして構成されている。頂部レール182には、複数のアクティブ磁気ベアリング184が取り付けられている。具体的には、封鎖装置120自体は、純粋にパッシブな構成要素であってよく、即ち、封鎖装置120への電気といった媒体の供給なしに、移送可能であってよい。例えば、図1Aに示すように、第1の磁気装置130と第3の磁気装置180のアクティブ構成要素は、それぞれフランジ110内とガイド構造内に一体化されていてよく、封鎖装置120は、第1の複数の永久磁石165といった、純粋にパッシブな構成要素を含んでいてよい。可動の封鎖装置をパッシブ構成要素として設けることは、有益である。なぜならば、制動チェーンといった、封鎖装置用の可動の媒体供給装置が一切不要であり得るからである。
磁気浮上システム150は、封鎖装置全体を開放位置(I)から閉鎖位置(II)へと移行するように構成されていてよい。具体的には、封鎖装置120は、開放位置(I)と閉鎖位置(II)の間をまとまって移行し得る、また磁気浮上システム150によって第1の方向(T)にまとまって移送され得る、金属プレートまたは金属パドルといった、1つのモノリシックなまたは剛性の部品として形成されてよい。
他の実施形態では、封鎖装置120は、互いに対して可動であってよい、いくつかの部品を含み得る。これらの部品のうちの一部は、封鎖装置120の一部が開放位置と閉鎖位置の間を動いている間、静止したままであってよい。例えば、封鎖装置は、フレームまたはカートといったキャリアに対して可動に保持されている、閉鎖プレートを含んでいてよい。キャリアと閉鎖プレートは、磁気浮上システム150によって、組み合わされて第1の方向(T)に移送されてよいが、閉鎖プレートは、第1の磁気装置130によって、キャリアなしで第2の方向(X)に移送されてもよい。
本明細書に記載の他の実施形態と組み合わされてよいある実施形態では、磁気浮上システム150は、ガイド構造に沿って第1の方向(T)に封鎖装置120を動かすための、駆動装置(drive)170をさらに含んでいてよい。駆動装置は、封鎖装置120を駆動構造に沿って非接触式に移動させ得る、リニアモータであってよい。さらに、または代わりに、他の非接触式駆動装置を設けることもできる。
図2Aは、図1Aの閉鎖装置100を概略正面図で示す。封鎖装置120は、スライドドアの態様で、フランジ110の開口112に対して左側に移送されており、それによって開口112が、物体が開口112を通って搬入出され得る搬入出位置になっている。図2Bは、図1Aの閉鎖装置100を示す。閉鎖装置100は開口112の前に配設されており、開口を覆っている。
封鎖装置120を第1の方向(T)に非接触式で搬送するために、磁気浮上システムが設けられる。磁気浮上システムは、第3の磁気装置180、及び第2の磁気装置160を含む。第2の磁気装置160は、封鎖装置120を第2の方向(X)に安定化するための、パッシブ磁気安定化装置を含んでいてよい。第2の磁気装置160は、オプションで、上部磁気安定化装置161及び下部磁気安定化装置162を含んでいてよい。第3の磁気装置180は、封鎖装置120の垂直位置をアクティブに安定化させるように構成されていてよい。第3の磁気装置は、少なくとも部分的に、封鎖装置の上方に配列されていてよい。第3の磁気装置180は、封鎖装置120の重量の少なくとも一部を担い、且つ封鎖装置120の所定の垂直位置を維持するように構成されていてよい。
さらに、封鎖装置120を移送方向(T)に移動するための駆動装置170が、図2A及び図2Bに示されている。駆動装置170は、封鎖装置120の一側面に配置されていてよい。代わりに、駆動装置170は、封鎖装置120の上方または下方に配設されていてもよい。例えば、頂部レール182か、またはガイド構造の底部レールと一体化されていてよい。
図3Aは、本明細書に記載の実施形態による閉鎖装置200の概略前面図であり、封鎖装置220が閉鎖されてフランジ110の開口112(図3Aでは破線で示す)を封止している、閉鎖位置にある。図3Bは、図3Aの閉鎖装置200の概略正面図である。封鎖装置220は、開口112を通って物体が搬入出され得る、搬入出位置へと移送されている。
図4は、図3Aの閉鎖装置200の断面図である。閉鎖装置200の上部と閉鎖装置200の下部が、それぞれ拡大図で示されている。
閉鎖装置200は、図1A及び1Bに示す閉鎖装置100と同様であり、それによって上記の説明(ここでは繰り返さない)を参照することが可能である。
具体的には、封鎖装置220は、磁気浮上システムによって図3Aの位置と図3Bの位置の間を第1の方向(T)に移送されるように構成されている。磁気浮上システムは、封鎖装置220を、第1の方向(T)を横切る第2の方向(X)に安定化するように構成された第2の磁気装置160と、封鎖装置を保持するように構成された第3の磁気装置180とを含む。ある実施形態では、第3の磁気装置180は、少なくとも部分的に、封鎖装置220の上方に配設されており、それによって封鎖装置が、第3の磁気装置180の下で磁気保持力によって非接触式に保持され得る。ある実施形態では、第2の磁気装置160は、封鎖装置220の背向する両面上に配設されている。その結果、例えば第2の方向(X)への、磁気による封鎖装置の側面安定化がもたらされる。第2の方向(X)は、第1の方向(T)に垂直な水平方向であってよい。
第3の磁気装置180は、アクティブ制御装置として構成されていてよく、具体的には、フィードバックループで制御されるアクティブ磁気ベアリング184を含んでいてよい。それによって、封鎖装置220の所定の垂直位置が維持され得る。
第2の磁気装置160は、パッシブ磁気安定化装置としてか、アクティブ磁気安定化装置としてか、またはアクティブとパッシブ混合式の磁気安定化装置として構成されていてよい。例えば、封鎖装置120の下部を安定化するためにパッシブ磁気安定化装置が設けられてよく、封鎖装置120の頭部を第2の方向(X)に安定化するためにアクティブ磁気安定化装置が設けられてよく、この逆でもよい。他の実施形態では、例えば、封鎖装置120の下部を安定化するためにパッシブ磁気安定化装置が設けられてよく、図1Aに示す実施形態と同様に、封鎖装置120の頭部を第2の方向(X)に安定化するためにさらなるパッシブ磁気安定化装置が設けられてよい。
ある実施形態では、第3の磁気装置180のアクティブ磁気ベアリング184は、封鎖装置と、具体的には封鎖装置220の頭部222と一体化されていてよい。頂部レール182は、アクティブ制御される磁気アクチュエータなしの単純な金属の軌道といった、純粋にパッシブな軌道として構成されていてよい。具体的には、第3の磁気装置180のアクティブ構成要素は、封鎖装置220と、具体的には封鎖装置の頭部222と一体化されていてよい。
封鎖装置の頭部222に、電気、制御信号、及び/または冷却流体といった供給媒体を供給するための媒体供給装置が設けられてよい。媒体供給装置は、制動チェーンとして構成されていてよい。
ある実施形態では、封鎖装置は、第1の方向(T)に、20cm以上、または1m以下の距離を移送され得る。移送経路の長さが制限されているため、移送中に封鎖装置に供給媒体を供給するための制動チェーンといった媒体供給装置を設けることは可能であり得、その複雑さは許容可能なものである。
ある実施形態では、アクティブ磁気側面安定化装置のアクティブ磁気ベアリング228は、封鎖装置と、具体的には封鎖装置220の頭部222と、一体化されていてよい。例えば、図4に概略的に示されているように、封鎖装置の頭部222は、垂直方向の保持力を提供する第3の磁気装置のアクティブ磁気ベアリング184と、水平方向のアクティブ側面安定化を提供する第2の磁気装置160のアクティブ磁気ベアリング228を含んでいてよい。
ある実施形態では、封鎖装置220の頭部222は、頭部222が誘発された振動の影響を受ける受けやすさが、複数の方向で軽減されるような形状をしていてよい。例えば、頭部は、例えば垂直方向と少なくとも1つの横方向といった少なくとも2つの方向に5cm以上、具体的には10cm以上の厚さを有する、大きな金属の構成要素であってよい。例えば、頭部222の断面形状は、最低5cmの厚さを有する、長方形または基本的に正方形の形状であってよい。
具体的には、頭部222の位置は、アクティブ磁気ベアリング184によって垂直方向に、且つアクティブ磁気ベアリング228によって第2の方向(X)に、アクティブに安定化されてよい。頭部222の厚さは、垂直方向と第2の方向のどちらにも、5cm以上であってよい。前記アクティブな安定化による振動の誘発は、低減され得る。
ある実施形態では、封鎖装置を第1の方向(T)に移動するためのアクティブ磁気ベアリング184の駆動用電子装置といった駆動用電子装置、及び/または駆動装置170の駆動用電子装置は、封鎖装置、具体的には封鎖装置の頭部222に一体化されていてよい。頂部レール182は、例えば単純な金属レールといったパッシブ構成要素であってよい。
具体的には、図4に示すように、ガイド構造に沿って第1の方向(T)に封鎖装置220を移動するために、直線駆動装置170が設けられていてよい。駆動装置170のコイルユニットは頭部222に一体化されていてよく、頂部レール182の磁気レール内でガイドされていてよい。具体的には、磁気レールが、第1の方向(T)に沿って配設された永久磁石を含んでいてよい。
本明細書に記載の他の実施形態と組み合わされてよいある実施形態では、封鎖装置220は、下部221と頭部222を含んでいてよく、これらは互いに対して可動であってよい。下部221は、頭部222の下方に配設されてよく、機械的接続によって頭部222から懸吊されていてよい。頭部222と下部221は、例えばヒンジ接続といった可撓接続部225を介して接続されていてよい。その結果、頭部222は下部221から振動的に切り離されていてよく、それによって、頭部のアクティブな安定化による頭部の振動の可能性が下部に与える影響は、低減され得る。
磁気浮上システムは、図3A及び図3Bに示すように、頭部222と下部221の両方を揃って第1の方向(T)に移送するように構成されていてよい。一方で、封鎖装置220をフランジ110に向けて開放位置(I)から閉鎖位置(II)へと移行させることは、封鎖装置の下部221を頭部222なしでフランジ110に向けて動かすことを含んでいてよい。例えば、頭部が元の位置に留まり、下部221のみが第1の磁気装置130によってフランジ110に向けて吸引されてよい。頭部222と下部221の間の可撓接続部225によって、下部221のフランジに向けた開放位置(I)と閉鎖位置(II)の間の移行が可能になってよい。
図4に示す第2の磁気装置160は、図1Aの下部磁気安定化装置162と同様であってよい下部磁気安定化装置162を含んでいてよく、それによって上記の実施形態(ここでは繰り返さない)を参照することが可能である。
本明細書に記載のさらなる実施形態によれば、真空システム300が設けられる。本明細書に記載の実施形態による真空システム300が、図5に概略的に示されている。真空システム300は、真空チャンバ101(部分的に示されている)、具体的には、互いに接続されていてよい複数の真空チャンバまたは真空モジュールを含んでいる。いくつかの真空チャンバ間に、または真空チャンバと大気環境との間に、閉鎖可能な通路またはゲートロック通路が設けられていてよい。本明細書に示すあらゆる実施形態による閉鎖装置は、真空システムの前記通路、運送路(transit)、ゲートロック、または他の開口のうちの1つ以上を閉鎖するために設けられていてよい。図5は、例示的な真空システムの真空チャンバ101の壁の一部を概略的に示す。
真空システム300の真空チャンバのうちの少なくとも1つの中に、堆積源、具体的には、蒸気源、スパッタ源、及びCVD源のうちの1つ以上が、配設されていてよい。被覆される基板は、例えば堆積源を収容しているある真空チャンバと隣接する真空チャンバとの間を、真空システムを通って移送されてよい。本明細書に記載の実施形態による1つ以上の閉鎖装置を有する真空システムを設けることによって、真空システム内の粒子生成を低減することができ、堆積結果を向上することができる。
真空チャンバ101の内壁または外壁に、開口112付きのフランジ110が設けられる。フランジ110は、真空チャンバに固定されていてよい。さらに、開口112を閉鎖するように構成された、蓋またはパドルといった封鎖装置120が設けられる。封鎖装置120は、図5に示す開放位置と、封鎖装置が開口を封止する閉鎖位置との間を、第1の磁気装置130によって移行され得る。第1の磁気装置130は、封鎖装置または封鎖装置の一部を開放位置から閉鎖位置へと移行させるため、フランジ110と封鎖装置120との間に磁気閉鎖力を生成するように構成されている。さらに、封鎖装置120を、フランジ110と平行な第1の方向(T)に非接触式で移送するように構成された、磁気浮上システム150が設けられる。第1の方向(T)は、図5の紙面と垂直な方向であってよい。磁気浮上システムは、封鎖装置を、磁気浮上システムによる移送中に第1の方向(T)を横切る第2の方向(X)に安定化するように構成された、第2の磁気装置160を含む。
図5に示す実施形態の閉鎖装置は、図1Aの閉鎖装置100及び/または図3Aの閉鎖装置200の、いくつかの特徴または全ての特徴を含んでいてよく、それによって上記の実施形態(ここでは繰り返さない)を参照することが可能である。
図5は、第1の磁気装置130及びフランジ110をより詳細に示す。フランジ110は、シール面114を含んでいてよい。シール面114には、弾性封止要素115が設けられていてよい。例えば、弾性封止要素115は、シール面114内に形成された溝の中に設けられた封止リングであってよい。封鎖装置120は、閉鎖位置では、開口112を取り囲んでいてよい弾性封止要素115に押圧されている。
シール面114は、基本的に平坦な面であってよい。開放位置では、基本的に平坦な封鎖装置120の対向面は、シール面114に接近した距離に配設されていてよい。第2の方向(X)は、シール面114に基本的に垂直であってよい。封鎖装置120の対向面内に弾性封止要素を設けることも、また可能である。
第1の磁気装置130の複数の磁石131によって生成される磁気閉鎖力は、第2の方向(X)、即ちシール面114と垂直な方向に作用してよい。封鎖要素120は、対応するこちら側の磁気部品(magnetic counterpart)132、例えば、鉄もしくは鋼の部分、または永久磁石の部分を含んでいてよく、この対応するこちら側の磁気部品132は、磁気閉鎖力によってフランジ110に向かって引き寄せられてよい。代わりに、封鎖装置120の閉鎖プレート全体が、鋼といった磁気材料からできていてもよい。複数の磁石131は、電磁石、具体的にはコイルを含んでいてよい。必要に応じて、即ち測定された圧力差に応じて、または測定された距離に応じて、コイルを通って流れる電流を調整することで、磁気閉鎖力を適合させ得る。
ある実施形態では、第1の磁気装置130は、フランジ110と封鎖装置120の間の距離を測定する距離センサ135を含む。その結果、磁気閉鎖力は、距離センサ135によって測定された距離に応じて制御され得る。フランジ110のシール面114と、閉鎖位置にある封鎖装置120との間の距離は、例えば、真空チャンバの排気中などの、フランジと閉鎖位置にある封鎖装置との間の直接的な金属接触を回避するために、正確に制御され得る。
複数の磁石131と1つ以上の距離センサとを連結する、1つ以上の制御ループ136が設けられてよい。制御ループ136は、距離センサ135に接続された、設定点生成器137を含んでいてよい。設定点生成器137は、測定された距離を、中央制御装置によってセットされていてよい所定の距離設定点と比較する。制御装置139に、増幅器138経由で複数の磁石131に対して供給される制御信号を生成する、各比較信号が供給されてよい。増幅された制御信号は、封鎖装置120とフランジ110の間の所定の距離が、複数の磁石131によって生成された磁気閉鎖力によって維持されるようにして、構成されている。制御ループ136の電子素子は、例えば単一のボード上に設けられた集積回路として構成されていてよい。第1の磁気装置130の空間要件が、削減され得る。
封鎖装置120とフランジ110との間の距離が、開口112の周囲の複数の位置において正確にセットされ得るように、複数の制御ループ136が設けられてよい。粒子の生成を低減し、弾性封止要素115の均一な押圧を実現することができる。
ある実施形態では、電磁石としてフランジに設けられた複数の磁石131が、封鎖装置120とフランジ110の間に可変吸引力を生成するように構成されてよい。封鎖装置120とフランジ110の間の反発力は、第2の磁気装置160によって生成された磁気安定化力であってよい。第2の磁気装置160は、各側部ガイドレールに沿って、第1の搬送方向(T)に沿って配設された永久磁石を含む、パッシブな磁気安定化装置であってよい。第2の磁気装置160の永久磁石が、封鎖装置を2つの対向する側から図5に示す均衡位置へと促してよい。第2の磁気装置160は、封鎖装置を均衡位置に促すように構成された、上部磁気安定化装置161及び下部磁気安定化装置162を含んでいてよい。
図6は、本明細書に記載の実施形態による閉鎖装置の操作方法を示すフロー図である。
ボックス610では、封鎖装置120はフランジ110と平行な第1の方向(T)に非接触式で移送されている。フランジは、真空チャンバに設けられており、開口を含んでいる。封鎖装置120は移送中、第2の磁気装置160で、第1の方向(T)を横切る、具体的には第1の方向(T)に垂直な第2の方向(X)に、磁気によって安定化されている。移送中、封鎖装置は基本的に垂直の配向を有していてよい。
封鎖装置120は、封鎖装置120が開口を封鎖しない搬入出位置から、封鎖装置が開口の前に、フランジのシール面から接近した距離で配設される封鎖位置まで、スライドドア状の態様で移送されてよい。搬入出位置では、基板といった物体が開口を通って搬入出されてよい。封止位置では、封止装置は、フランジの配向に平行な配向、具体的には垂直な配向で、開口の前に1mm以下の接近した距離で配設されていてよい。
ボックス620では、第1の磁気装置130によってフランジ110と封鎖装置120の間に、封鎖装置または封鎖装置の一部を開放位置(I)から封鎖装置が開口を封止する閉鎖位置(II)まで移行する、磁気閉鎖力が生成される。
具体的には、封鎖装置120が開口の前の封鎖位置に移送されているときには、第1の磁気装置130が作動していてよく、それによって封鎖装置がフランジのシール面に向かって引き寄せられて、開口を真空気密に封止していてよい。
オプションのボックス630では、封鎖装置を閉鎖位置(II)から元の開放位置(I)へと移行することによって、閉鎖装置が開放される。封鎖装置120は、第2の磁気装置160によって生成された磁気安定化力によって、開放位置へと移行されてよい。
具体的には、封鎖装置120は、第1の磁気装置130の磁気閉鎖力を低減するかスイッチオフし、それによって第2の磁気装置160の磁気安定化力が、フランジに垂直な方向に、封鎖装置が第2の磁気装置160によって保持される均衡位置へと、封鎖装置を移動し得ることによって、閉鎖位置から開放位置へと動かされてよい。
次に、封鎖装置120はオプションで、フランジに平行な第1の方向(T)に、物体が開口を通って供給され得る搬入出位置へと、磁気浮上システムによって非接触式で移送されてよい。
第2の磁気装置160は、アクティブ制御及び/または電力がまったく不要であり得る、パッシブ磁気安定化装置であってよいか、パッシブ磁気安定化装置を含んでいてよい。
その結果、本明細書に記載の実施形態に従って磁気ゲートバルブが設けられる。バルブの封鎖装置の、第1の方向(T)及び第2の方向(X)への動きはどちらも、完全に非接触式であってよく、したがって無摩擦であってよい。封鎖装置の固定構造物との唯一の接点は、閉鎖位置におけるフランジ、具体的にはフランジの弾性封止要素との接点であってよい。
ある実施形態では、封鎖装置は、垂直方向に1m以上、具体的には1.5m以上の高さを有していてよい。ある実施形態では、遮断装置は、第1の方向(T)に、30cm以上、具体的には40cm以上の幅を有していてよい。フランジの開口は、0.5m以上、具体的には1m以上の断面積を有していてよい。
封鎖装置120は、少なくとも部分的に金属でできている、閉鎖プレートを含んでいてよい。閉鎖プレートの重量を削減するため、閉鎖プレートは少なくとも部分的にアルミニウムでできていてよい。閉鎖プレートは、磁気装置のうちの1つ以上と相互作用する磁性材料として、鉄、具体的には鋼を含んでいてよい。例えば、閉鎖装置は、第1の磁気装置130、第2の磁気装置160、第3の磁気装置180、及び/または駆動装置170と相互作用する鋼の部分を有する、アルミニウムプレートであってよい。
第2の磁気装置160が永久磁石ベースのパッシブ磁気ガイドを含んでいるときには特に、次の目的のうちの1つ以上のために、第2の磁気装置160が利用されてよい。(i)移送方向と垂直の第2の方向への、封鎖装置の側面の安定化(ii)封鎖装置が潜在的に多数の固有振動数を有している方向への、封鎖装置の振動誘発の低減(iii)垂直方向への磁力効果を生成することによる、封鎖装置の重量の部分的な補償(iv)第2の磁気装置によって生成された、封鎖装置を開放するための磁気安定化力の使用。
封鎖装置を第1の方向(T)にガイド構造に沿って滑り運動で移動するために、直線駆動装置が設けられていてよい。直線駆動装置は、ガイド構造に取り付けられた駆動用コイル(driving coil)と、封鎖装置と共に移動する永久磁石とを含んでいてよい。
以上の説明は本開示の実施形態を対象としているが、本開示の基本的な範囲を逸脱することなく本開示の他のさらなる実施形態を考案することができ、本開示の範囲は、以下の特許請求の範囲によって定められる。

Claims (15)

  1. 真空チャンバ(101)に設けられ且つ開口(112)を含むフランジ(110)、
    前記開口(112)を閉鎖するように構成された封鎖装置(120、220)、
    前記封鎖装置または前記封鎖装置の一部を開放位置(I)から閉鎖位置(II)へと移行させるため、前記フランジ(110)と前記封鎖装置(120)との間に磁気閉鎖力を生成するように構成された第1の磁気装置(130)、及び
    前記封鎖装置(120)を前記フランジ(110)と平行な第1の方向(T)にガイド構造に沿って非接触式で移送するように構成された磁気浮上システム(150)であって、前記第1の方向(T)を横切る第2の方向(X)に前記封鎖装置(120)を安定化するように構成された第2の磁気装置(160)を含む、磁気浮上システム(150)
    を含む、閉鎖装置(100、200)。
  2. 前記第2の磁気装置(160)はパッシブ磁気安定化装置を備える、請求項1に記載の閉鎖装置。
  3. 前記第2の磁気装置(160)は、前記封鎖装置(120)の少なくとも1つの側面に固定された第1の複数の永久磁石(165)と、前記ガイド構造に固定された第2の複数の永久磁石(166)とを備える、請求項1または2に記載の閉鎖装置。
  4. 前記第2の磁気装置(160)は、前記封鎖装置の上部を安定化するための上部磁気安定化装置(161)と、前記封鎖装置の下部を安定化するための下部磁気安定化装置(162)のうちの少なくとも1つを備える、請求項1から3のいずれか一項に記載の閉鎖装置。
  5. 前記第2の磁気装置(160)は、前記封鎖装置を前記閉鎖位置(II)から前記開放位置(I)へと移行するように構成される、請求項1から4のいずれか一項に記載の閉鎖装置。
  6. 前記磁気浮上システム(150)は、前記封鎖装置を前記ガイド構造において非接触式で保持するように構成された第3の磁気装置(180)を備え、具体的には前記第3の磁気装置(180)が複数のアクティブ磁気ベアリング(184)を備える、請求項1から5のいずれか一項に記載の閉鎖装置。
  7. 前記第3の磁気装置(180)は、磁気アクチュエータ、及び前記封鎖装置(120)と前記ガイド構造との間の距離を測定するための距離センサを備え、前記磁気アクチュエータは制御ループで制御される、請求項6に記載の閉鎖装置。
  8. 前記封鎖装置(120)は、前記ガイド構造の頂部レール(182)の下方に懸吊されるように構成され、前記頂部レール(182)に前記複数のアクティブ磁気ベアリング(184)が取り付けられている、請求項6または7に記載の閉鎖装置。
  9. 前記複数のアクティブ磁気ベアリング(184)は、前記封鎖装置(220)、具体的には前記封鎖装置の頭部(222)に一体化されている、請求項6または7に記載の閉鎖装置。
  10. 前記磁気浮上システムは、前記封鎖装置(120)を前記ガイド構造に沿って前記第1の方向(T)に動かすための駆動装置(170)、具体的にはリニアモータをさらに備える、請求項1から9のいずれか一項に記載の閉鎖装置。
  11. 前記第1の磁気装置(160)は、前記封鎖装置(120)全体を前記開放位置(I)から前記閉鎖位置(II)へと移行するように構成され、具体的には前記封鎖装置(120)は1つの剛性部品として形成されている、請求項1から10のいずれか一項に記載の閉鎖装置。
  12. 前記封鎖装置(220)は、具体的には可撓接続部(225)を介して互いに対して可動な下部(221)と頭部(222)を備え、前記封鎖装置(220)を前記開放位置(I)から前記閉鎖位置(II)に移行することは、前記頭部(222)なしで、前記下部(221)を前記フランジ(110)に向けて動かすことを含む、請求項1から10のいずれか一項に記載の閉鎖装置。
  13. 真空チャンバ(101)、
    前記真空チャンバ(101)の内壁または外壁に設けられ且つ開口(112)を含むフランジ(110)、
    前記開口(112)を閉鎖するように構成された封鎖装置(120)、
    前記封鎖装置(120)または前記封鎖装置の一部を開放位置(I)から閉鎖位置(II)へと移行させるため、前記フランジ(110)と前記封鎖装置(120)との間に磁気閉鎖力を生成するように構成された第1の磁気装置(130)、及び
    前記封鎖装置(120)を前記フランジ(110)と平行な第1の方向(T)に非接触式で移送するように構成された磁気浮上システム(150)であって、前記第1の方向(T)を横切る第2の方向(X)に前記封鎖装置を安定化するように構成された第2の磁気装置(160)を備える、磁気浮上システム(150)
    を備える、真空システム。
  14. 閉鎖装置(100、200)を操作する方法であって、
    封鎖装置(120)を、真空チャンバ(101)に設けられ且つ開口(112)を含むフランジ(110)と平行な第1の方向(T)に非接触式で移送することと、
    第2の磁気装置(160)によって、前記第1の方向(T)を横切る第2の方向(X)に前記封鎖装置(120)を磁気によって安定化させることと、
    前記封鎖装置または前記封鎖装置の一部を、開放位置(I)から前記封鎖装置が前記開口を封止する閉鎖位置(II)へと移行させるため、第1の磁気装置(130)によって前記フランジ(110)と前記封鎖装置(120)との間に磁気閉鎖力を生成することと、
    を含む、方法。
  15. 封鎖装置を、前記第2の磁気装置(160)によって生成された磁力によって、閉鎖位置(II)から開放位置(I)へと移行すること
    をさらに含む、請求項14に記載の方法。
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