JP2019522865A - 光抽出層の製造方法、発光ダイオード表示装置及び発光ダイオード表示基板 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2016年5月27日に提出した中国特許出願No.201610365849.8の優先権を主張し、その内容が全て本出願に援用される。
Claims (21)
- 透明性光学材料を用いて透明性光学材料層を形成する工程と、
モールディングプレートの表面に複数の凹部を含むモールディングプレートを用いて、前記透明性光学材料層の表面に、前記複数の凹部とそれぞれ略相補的である複数の凸部を形成する工程と、
を含む、凹凸面を有する光抽出層の製造方法。 - 前記複数の凸部を形成する工程は、前記モールディングプレートと前記透明性光学材料層とを互いに押し付けて前記透明性光学材料層を変形させることで、前記透明性光学材料層の前記表面に複数の第1凸部を形成する工程を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記透明性光学材料層を変形させる前に、
前記透明性光学材料層を加熱して溶媒容量を減少させる工程をさらに含む、請求項2に記載の方法。 - 前記透明性光学材料層を変形させた後、
前記透明性光学材料層を硬化して前記複数の第1凸部の表面を修正する工程をさらに含み、
前記透明性光学材料は硬化材料である、請求項2に記載の方法。 - 前記複数の第1凸部の前記表面を修正した後、
前記モールディングプレートと前記透明性光学材料層とを少なくとも1回互いに再押し付ける工程をさらに含む、請求項4に記載の方法。 - 前記モールディングプレートと前記透明性光学材料層とを互いに再押し付ける工程を繰り返した後、毎回前記透明性光学材料層を再硬化する工程をさらに含む、請求項5に記載の方法。
- 前記透明性光学材料層を変形させる前に、
前記透明性光学材料層を加熱して溶媒容量を減少させる工程をさらに含み、
前記方法は、前記透明性光学材料層を変形させた後に、
前記透明性光学材料層を硬化して前記複数の第1凸部の表面を修正する工程と、
前記複数の第1凸部の前記表面を修正する工程の後に、前記モールディングプレートと 前記透明性光学材料層とを互いに再押し付ける工程と、
修正及び押し付け工程を少なくとも1回繰り返す工程と、
をさらに含む請求項2に記載の方法。 - 前記透明性光学材料層を焼成して、前記凹凸面を有し、前記複数の凸部を含む前記光抽出層を形成する工程をさらに含む、請求項2に記載の方法。
- 前記複数の凹部は略アール面を有するように形成される、請求項1に記載の方法。
- 前記モールディングプレートと前記透明性光学材料層とを互いに押し付ける工程は、約1.5気圧から約2.5気圧の圧力範囲で、持続時間約15秒から約3分の範囲において行う、請求項2に記載の方法。
- 前記透明性光学材料層を加熱する工程は、約10度から約135度の温度範囲で、持続時間約50秒から約10分の範囲において行う、請求項3に記載の方法。
- 前記透明性光学材料層を硬化する工程は、約30度から約140度の温度範囲で、持続時間約1分から約10分の範囲において行う、請求項4に記載の方法。
- 前記モールディングプレートと前記透明性光学材料層を少なくとも1回互いに再押し付ける工程は、約1.0気圧から約1.5気圧の圧力範囲で、持続時間約50秒から約20分の範囲において行う、請求項5に記載の方法。
- 前記透明性光学材料層を再硬化する工程は、約30度から約140度の温度範囲で、持続時間約1分から約10分の範囲において行う、請求項6に記載の方法。
- 前記透明性光学材料層を焼成する工程は、約70度から約190度の温度範囲で、持続時間約1分から約30分の範囲において行う、請求項8に記載の方法。
- 前記透明性光学材料層を形成する工程は、
前記透明性光学材料を添加剤と混ぜて混合物を作る工程と、
前記混合物を用いて前記透明性光学材料層を形成する工程と、を含み、
前記添加剤は、前記透明性光学材料層の厚みを均一にしやすいものである、請求項1に記載の方法。 - 請求項1〜16のいずれか一項に記載の方法により製造される前記光抽出層を有する発光ダイオード表示装置。
- 凹凸面を有する光抽出層を有し、
前記光抽出層は、略アール面を有する複数の凸部を含む、発光ダイオード表示装置。 - 前記光抽出層は屈折率が1.5以上である、請求項18に記載の発光ダイオード表示基板。
- 凹凸面を有する光抽出層を含み、
前記光抽出層は、略アール面を有する複数の凸部を含む、発光ダイオードベース基板。 - 前記光抽出層は屈折率が1.5以上である、請求項20に記載の発光ダイオードベース基板。
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