JP2019518338A - 高温で処理チャンバ内のホウ素―炭素残留物を除去するための洗浄プロセス - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (15)
- 処理チャンバの表面からホウ素―炭素層を除去するための方法であって、
堆積したホウ素―炭素層を、
シャワーヘッドから第1の距離を隔てて、ペデスタルを位置付けることと、
位置付けられた前記ペデスタルの上方に配置されている前記シャワーヘッドをバイアスすることによって、水蒸気及び第1キャリアガスを含むプラズマを生成することとを含む、第1プラズマプロセスに暴露すること、及び、
前記堆積したホウ素―炭素層を、
前記シャワーヘッドから第2の距離を隔てて、前記ペデスタルを位置付けることと、
前記シャワーヘッドをバイアスすること、及び前記シャワーヘッドに対して側部電極をバイアスすることによって、水蒸気及び第2キャリアガスを含むプラズマを生成することとを含む、第2プラズマプロセスに暴露することを含む、方法。 - 前記堆積したホウ素―炭素層を、第3プラズマプロセスであって、前記シャワーヘッドから第3の距離を隔てて、前記ペデスタルを位置付けることと、前記シャワーヘッドをバイアスすること、及び前記シャワーヘッドに対して底部電極をバイアスすることによって、水蒸気及び第3キャリアガスを含むプラズマを生成することとを含む、第3プラズマプロセスに暴露することを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 前記堆積したホウ素―炭素層を、第4プラズマプロセスであって、前記ペデスタルの上方に配置されている前記シャワーヘッドをバイアスすることによって、実質的に酸素及び第4キャリアガスからなるプラズマを生成することを含む、第4プラズマプロセスに暴露することを更に含む、請求項2に記載の方法。
- 前記堆積したホウ素―炭素層を前記第4プラズマプロセスに暴露することが、前記第1プラズマプロセスと前記第2プラズマプロセスとの間、及び第2プラズマプロセスと第3プラズマプロセスとの間、のうちの一又は複数で提供される、請求項3に記載の方法。
- 前記第2プラズマを生成することが、前記シャワーヘッドに対して底部電極をバイアスすることを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記水蒸気が液体蒸発器によって生成され、前記液体蒸発器は、最大10SLM以上の大流量の水を気化させるための加熱ユニットを備える、請求項1に記載の方法。
- 処理チャンバの中のチャンバ部品の表面からホウ素―炭素膜を除去するための方法であって、
前記処理チャンバの中の前記チャンバ部品の表面に堆積したホウ素―炭素膜を、
シャワーヘッドから第1の距離を隔てて、ペデスタルを位置付けることと、
位置付けられた前記ペデスタルの上方に配置されている前記シャワーヘッドをバイアスすることによって、水蒸気及び第1キャリアガスを含むプラズマを生成することとを含む、第1プラズマプロセスに暴露すること、及び、
前記堆積したホウ素―炭素膜を、
前記シャワーヘッドから第2の距離を隔てて、前記ペデスタルを位置付けることと、
前記シャワーヘッドをバイアスすること、及び前記シャワーヘッドに対して側部電極をバイアスすることによって、水蒸気及び第2キャリアガスを含むプラズマを生成することとを含む、第2プラズマプロセスに暴露することを含む、方法。 - 前記堆積したホウ素―炭素膜を、第3プラズマプロセスであって、前記シャワーヘッドから第3の距離を隔てて、前記ペデスタルを位置付けることと、前記シャワーヘッドをバイアスすること、及び前記シャワーヘッドに対して底部電極をバイアスすることによって、水蒸気及び第3キャリアガスを含むプラズマを生成することとを含む、第3プラズマプロセスに暴露することを更に含む、請求項7に記載の方法。
- 前記堆積したホウ素―炭素膜を、第4プラズマプロセスであって、前記ペデスタルの上方に配置されている前記シャワーヘッドをバイアスすることによって、実質的に酸素及び第4キャリアガスからなるプラズマを生成することを含む、第4プラズマプロセスに暴露することを更に含む、請求項8に記載の方法。
- 前記堆積したホウ素―炭素膜を前記第4プラズマプロセスに暴露することが、前記第1プラズマプロセスと前記第2プラズマプロセスとの間、及び第2プラズマプロセスと第3プラズマプロセスとの間、のうちの一又は複数で提供される、請求項9に記載の方法。
- 前記第2プラズマを生成することが、前記シャワーヘッドに対して底部電極をバイアスすることを含む、請求項7に記載の方法。
- 前記水蒸気が液体蒸発器によって生成され、前記液体蒸発器は、最大10SLM以上の大流量の水を気化させるための加熱ユニットを備える、請求項7に記載の方法。
- 処理チャンバの中のチャンバ部品の表面から膜を除去するための方法であって、
前記処理チャンバの中の前記チャンバ部品の表面に堆積したホウ素―炭素膜を、
シャワーヘッドから第1の距離を隔てて、ペデスタルを位置付けることと、
位置付けられた前記ペデスタルの上方に配置されている前記シャワーヘッドをバイアスすることによって、水蒸気及び第1キャリアガスを含むプラズマを生成することとを含む、第1プラズマプロセスに暴露すること、及び、
前記堆積したホウ素―炭素膜を、
前記シャワーヘッドから第2の距離を隔てて、前記ペデスタルを位置付けることと、
前記シャワーヘッドをバイアスすること、並びに、前記シャワーヘッドに対して底部電極及び側部電極をバイアスすることによって、水蒸気及び第2キャリアガスを含むプラズマを生成することとを含む、第2プラズマプロセスに暴露することを含む、方法。 - 前記側部電極をバイアスすることにより、前記底部電極を通って流れる電流と比べて前記側部電極を通って流れる電流の方が大きくなる、請求項13に記載の方法。
- 前記側部電極をバイアスすることにより、前記底部電極を通って流れる電流と比べて前記側部電極を通って流れる電流の方が小さくなる、請求項13に記載の方法。
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