JP2019517944A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. フレキソ印刷版を作成する方法、あるいはフレキソ印刷版を製造するマスクを作成する方法であって、前記方法は、
   （ａ）前記印刷版のインク担持部分及び非インク担持部分に対応する画像情報を提供するステップであって、前記インク担持部分は、複数のインク担持要素を備える、ステップと、
   （ｂ）前記画像情報に従って、前記印刷版又はマスクを露光又は除去するステップであって、
   （ｉ）前記画像情報に均等寸法のスポットの基本パターンを重ね合わせるステップであって、各スポットは、前記印刷版又はマスク上に表される結像個別要素又は非結像個別要素に対応しており、前記基本パターンにて結像個別要素に対応する各スポットは、非結像個別要素に対応する８つのスポットによって囲まれ、前記結像要素及び非結像要素に対応する前記スポットは、結像装置の結像解像度によって形成されるグリッドに位置合わせされる、ステップ、及び、
   （ｉｉ）４つの隣接する結像個別要素の各組がその中心に未露光領域又は未除去領域を有するように、各結像個別要素を露光又は除去するサイズを選択するステップであって、前記未露光領域又は未除去領域は、最上レベルの下であるが非印刷レベルの上のレベルを有する前記印刷版の表面上の領域に分解され、前記４つの隣接する結像個別要素のそれぞれが前記最上レベルに分解される、ステップ、によって、
   前記印刷版又はマスクを露光又は除去するステップと、
   を含む方法。
2. 前記基本パターンの各スポットは、前記印刷版又はマスクにて結像又は除去される最小の個別要素のサイズに対応するサイズを有する、請求項１に記載の方法。
3. 露光又は除去される結像個別要素のそれぞれは、マスク上の前記結像個別要素を露光又は除去するのに用いられるレーザビームの空間分解能に対応する、請求項２に記載の方法であって、前記方法は、前記レーザビームによって前記マスクに結像するステップを含む、方法。
4. 前記レーザビームによって前記マスクに結像するステップは、非孤立画素を結像するのに用いられる前記レーザビームの出力に対して各孤立画素を結像するのに用いられる前記レーザビームの出力を増強するステップを含む、請求項３に記載の方法。
5. （ａ）第１の複数の画素を含む第１のスクリーニングスーパーセルを形成するステップであって、各画素が中実又は空の画素値を有する、ステップと、
   （ｂ）前記第１のスクリーニングスーパーセルの（Ｘ，Ｙ）に位置する中実画素値を有する各画素に対して、第１の数式
   Ｘ′＝ｆｘ（Ｘ，Ｙ）
   Ｙ′＝ｆｙ（Ｘ，Ｙ）
   を適用することによって、中実又は空の画素値をそれぞれが有する第２の複数の画素を含む第２のスーパーセルに位置（Ｘ′，Ｙ′）を割り当てるステップと、
   （ｃ）前記第１の数式によって設定された値を有していない画素が空の画素値に設定されるように、前記第２のスーパーセルの前記複数の画素に対して画素値を設定するステップであって、
   前記第１の数式は、（ｉ）Ｘ′及びＹ′が整数であり、（ｉｉ）前記第１のスーパーセルのどの２つの画素も前記第２のスーパーセル内の同じ画素に変換されず、（ｉｉｉ）中実の値を有する全画素（Ｘ′，Ｙ′）が、前記数式によって設定されていない空の値を有する少なくとも８つの空の画素が中実の値を有する各画素（Ｘ′，Ｙ′）を包囲するスポットの前記基本パターンを形成するという、一連の規則を順守する、ステップと、を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
6. 請求項１〜５のいずれか１項の方法によって製造される、フレキソ印刷版又はフレキソ印刷版を作成するためのマスク。
7. フレキソ印刷版を作成するマスクを製造する結像システムであって、前記結像システムは、
   結像データファイルにて特定される均等寸法のスポットに対応する個別結像要素に対応する放射線にマスクの一部を露光させるように構成されるレーザ源であって、前記レーザ源は、前記マスクにて前記結像要素を露光する前記レーザビームのサイズを調節する調整可能なレーザ出力を有する、レーザ源と、
   結像データを受け取り、前記レーザ源に対する操作命令に変換するように構成されたプロセッサを備えるコントローラであって、前記結像データは、前記印刷版のインク担持部分及び非インク担持部分に対応する画像情報を含む結像データを含み、前記インク担持部分は複数のインク担持要素を備え、前記結像データは、前記画像情報に重ね合わせた前記スポットから構成される基本パターンを含み、各スポットは、前記マスク上に表される結像個別要素又は非結像個別要素に対応する、コントローラにおいて、
   前記基本パターンの結像個別要素に対応する各スポットは、非結像個別要素に対応する８つのスポットによって包囲され、
   前記結像要素及び非結像要素に対応する前記スポットは、結像装置の結像分解能によって形成されるグリッドに位置合わせされ、前記コントローラは、前記印刷版の非ベタ色調領域に対応する前記マスクの少なくとも一部にて、前記レーザビームによって各結像個別要素を露光又は除去することによって、前記マスクを作成するように構成され、前記レーザビームの前記サイズは、４つの隣接結像個別要素の各セットが、その間の中心に未露光領域又は未除去領域を有するようにし、
   前記未露光領域又は未除去領域は、最上レベルより下であるが非印刷レベルより上であるレベルを有する前記印刷版の表面上の領域に分解され、前記４つの隣接結像個別要素それぞれが前記最上レベルに分解される、コントローラと、を具備する結像システム。
8. 前記コントローラは、孤立スポットとしての非結像個別要素に対応する前記８つのスポットによって包囲される前記基本パターンの前記結像個別要素に対応する各スポットを識別するように構成され、
   レーザ源に、前記結像データの孤立スポットに対応しない結像個別要素を露光又は除去する出力よりも比較的大きな出力を前記結像データの前記孤立スポットに対応する前記結像個別要素を露光又は除去するために使用するように命令するように構成される、請求項７に記載の結像システム。
9. ４つの隣接結像個別要素の前記セットの前記露光又は除去される結像個別要素の前記セットのそれぞれは、４つのセットの別の露光又は除去される結像個別要素の周辺部に全体的には重複しない円形周辺部を有する、請求項７に記載の結像システム。
10. 前記結像システムは、前記マスクに対応するパターンにて印刷版をＵＶ放射線によって露光するＵＶ露光システムであって、前記ＵＶ露光システムはフラットトップドットを製造するように構成される、ＵＶ露光システムをさらに具備する、請求項７〜９のいずれか１項に記載の結像システム。