JP2019516250A - エラストマーシール - Google Patents

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Abstract

本発明は、半導体製造装置に使用するためのエラストマーシールである。そのエラストマーシールは、上面の少なくとも一部にインクを含む。そのインクは、バリア材料を含む。バリア材料は、紫外線(UV)放射からエラストマーシールの劣化を防止または低減するように動作可能である。【選択図】図2

Description

本発明は、エラストマーシールに関する。特に、本発明は、例えば、半導体製造装置におけるシーリング用途での使用に適した(特に、紫外線(UV)放射が使用されるシーリング用途に適した)、被覆されたインクを有するエラストマーシールに関する。これにより、UV放射によって引き起こされる劣化に対する保護を提供する。
エラストマーシールのようなシーリング要素は、本技術分野でよく知られている。種々のエラストマーシールは、多くの異なる産業において、シーリング用途で使用するために開発されている。シールは、システムおよび/または機械(mechanisms)を共に接合すること、流体またはガスの経路(通路)をブロックすることによるリークを防止すること、システム内に圧力を含ませることおよび/または汚染を排除することによって、シーリング性を提供するのに有用である。そのようなエラストマーシールは、特定の性質(例えば、高いシーリング効率、低い表面透過性および高い耐久性)を有する必要がる。加えて、シールは、優れた機械的特性(例えば、高い弾性係数、高い強度、および高い柔軟性)を示さなければならない。特定の用途に使用される場合、エラストマーシールは、特定の追加の性質を有する必要がある。例えば、石油産業やガス産業において、シールは、特定のガス(例えば、酸性ガス)に対する耐性に加え、広範囲の温度に耐えるのに適した性質を示す必要がある。半導体用途において、シールは、UV放射およびエッチングプロセス(例えば、プラズマおよび強酸を伴うプロセス)の両方に対する耐性を追加的に示さなければならない。
エラストマーシールは、空気または他のプロセスガスが装置に侵入および/または流出することを防止するために、半導体製造装置において、高性能シーリング要素として、しばしば利用される。そのようなエラストマーシールは、利用される条件に耐えるのに適していなければならない。具体的に、シールは、ウエハ処理用途(例えば、UV放射にエラストマーシールを暴露する低誘電層堆積および架橋剤のUV硬化)に利用される。そのような用途において、シーリング要素として現在利用されるエラストマーシールの多くは、使用されるUV放射に対して限られた保護を示す。その結果、シールの露出表面は、光吸収の結果として損傷し、シーリング性を喪失する。したがって、半導体製造装置で使用される公知のエラストマーシールの多くは、限られた寿命を示し、しばしば交換を余儀なくされる。それにより、装置の動作効率が著しく低減し、コストは大幅に上昇する。
したがって、UV放射にさらされた時(特に、半導体製造装置に利用される時)、寿命が延長したエラストマーシールを製造することが求められている。
本発明の第1の目的によれば、半導体製造装置に使用するためのエラストマーシールを提供することにある。そのエラストマーシールは、上面の少なくとも一部にインクを含む。インクは、バリア材料を含む。そのバリア材料は、紫外線(UV)放射からエラストマーシールの劣化を防止または低減するように動作可能である。
好ましくは、本発明によるエラストマーシールは、ほぼ長尺状で、好ましくは、チャネルに嵌合可能な連続ループを含む。好ましくは、エラストマーシールは、その長さに沿った長手方向軸(longitudinal axis)を含む。好ましくは、エラストマーシールは、内側エッジと、外側エッジとを含む。
好ましくは、エラストマーシールは、下部(lower portion)と、好ましくは上部(upper portion)とを含む。好ましくは、下部は、チャネルに嵌合可能である。好ましくは、下部は、摩擦嵌め(friction fit)によってチャネルに嵌合する。好ましくは、エラストマーシールの上部は、下部が嵌合可能であるチャネルから突出する。好ましくは、上部は、上面を含む。上面は、使用時にUV放射にさらされる。
好ましくは、チャネルの寸法は、エラストマーシールの寸法と形状に対応する。好ましくは、チャネルの寸法は、エラストマーシールの下部の形状および寸法に対応する。一実施形態において、チャネルは、エラストマーシールの連続ループにほぼ対応する連続ループを形成する。
エラストマーシールは、ほぼ円柱状である。エラストマーシールは、長手方向軸に直交する断面において、概ね円形である。長手方向軸に直交するシールの断面は、チャネルの幅にほぼ対応する、幅または円形である場合は直径を有する。チャネルにおいて、シールの下部は、嵌合可能である。長手方向軸に直交するエラストマーシールの略円形断面は、幅または円形である場合は直径を有する。それは、約0.3〜28mm、適切には約1〜20mm、例えば約1.5〜10mm、例えば約1.78〜6.99mmである。
エラストマーシールの下部は、シールの長手方向軸に直交する断面において、概ね楕円形または一部楕円形である。エラストマーシールの下部は、内側エッジと、外側エッジとを含む。エラストマーシールの上部は、シールの長手方向軸に直交する断面で概ね矩形であり、結合された形状を作るために下部の上にあるように動作可能である。上部は、上面を含む。上面は、概ね矩形の上部の少なくとも2つの角部を含む。シールの概ね矩形の上部の少なくとも2つの角部は、湾曲している。エラストマーシールの上部は、内側エッジと、外側エッジとを含む。エラストマーシールの上部の幅は、エラストマーシールの下部の幅よりも幅広である。エラストマーシールの下部と上部との間の連結点(point of attachment)は、エラストマーシールの下部の幅よりも狭い。長手方向軸に直交するエラストマーシールの下部の断面は、下部が嵌合可能であるチャネルの幅にほぼ対応する幅を有する。上部の幅は、エラストマーシールの下部が嵌合可能であるチャネルの幅よりも幅広である。エラストマーシールの上部の内側エッジと、外側エッジとは、下部が嵌合可能であるチャネルのエッジと重なるように動作可能である。長手方向軸に直交なエラストマーシールの略楕円形の断面または一部楕円形の断面は、約0.3〜28mmの幅、適切には約1〜20mmの幅、例えば約1.5〜10mmの幅、例えば、1.78〜6.99mmの幅を有する。長手方向軸に直交なエラストマーシールの上部の略矩形の断面は、約0.5〜30mmの幅、適切には約1〜20mmの幅、約1.5〜10mmの幅、例えば、2〜7mmの幅を有する。適切には、約0.5〜2mmの幅、例えば約7〜30mmの幅を有する。厚さは、約1〜5mm、適切には約0.5〜1mm、例えば約5〜20mmである。
エラストマーシールは、面シール、リップシール、D−シール、Xシール、T−シール、キャップシール、ワイパーシール、通電リップシールまたはスプリングシールおよびエラストマー部品(例えば、エンドエフェクターパッドまたは吸盤)を取り扱うウエハであってもよい。
エラストマーシールは、任意の適切なエラストマー材料で形成されている。好ましくは、そのようなエラストマー材料は、高分子材料を含む。そのような高分子材料は、好ましくは、1以上のホモポリマー、または、フッ素を含むモノマーと、任意に他の適切な追加のモノマーとの組み合わせから得られるコポリマーを含むフッ素ポリマー材料を含む。フッ素を含む適切なモノマーは、特に限定されないが、フッ化ビニリデン(VDF)、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)、テトラフルオロエチレン(TFE)、パーフルオロメチルビニルエーテル(PMVE)またはそれらの組み合わせ含む。適切な追加のモノマーの例は、特に限定されないが、エチレン、プロピレンまたはそれらの組み合わせを含む。
好ましくは、高分子材料は、テトラフルオロエチレンパーフルオロメチルビニルエーテル(FFKM)、または任意の他のフッ素化エラストマー材料または十分にフッ素化されたエラストマー材料を含む。使用されるエラストマーは、プレシジョン ポリマー エンジニアリングから入手可能な、Perlast(登録商標)G67P、Perlast(登録商標)G75P、Perlast(登録商標)G70H、Perlast(登録商標)G75H、Perlast(登録商標)G67G、Perlast(登録商標)G70F、Perlast(登録商標)G74S、Perlast(登録商標)G75B、Perlast(登録商標)G75TP、Perlast(登録商標)G75TX、Perlast(登録商標)G76W、Perlast(登録商標)G80A、Perlast(登録商標)G80D、Perlast(登録商標)G90DM、Perlast(登録商標)G90LT、Perlast(登録商標)G92E、Perlast(登録商標)G100XT、Perlast(登録商標)G70A、Perlast(登録商標)G76G、Perlast(登録商標)G79Gである。他の市販のパーフルオロエラストマーも含む。使用される非フッ素化エラストマー材料は、プレシジョン ポリマー エンジニアリングから入手可能なNanofluor(登録商標)Y75G、Nanofluor(登録商標)Y75N、Nanofluor(登録商標)Y80G、V75SC、V90DM、V75Jである。他の市販のパーフルオロエラストマーも含む。
高分子材料は、任意の適切な量でエラストマー材料に存在する。ある実施形態において、エラストマー材料は、エラストマー材料の全固体重量に基づいて、高分子材料の約40〜100wt%、適切に80〜95wt%、または、90〜98wt%を含む。
好ましくは、エラストマー材料は、1以上の架橋剤をさらに含む。適切な架橋剤は、当業者によく知られている。
ある実施形態において、架橋剤は、過酸化物硬化システムまたは窒素硬化システムを含む。
架橋剤は、任意の適切なエラストマー材料に存在する。ある実施形態において、エラストマー材料は、エラストマー材料の全固体重量に基づいて、架橋剤の約0.2〜5.0wt%、適切に0.5〜1.2wt%、または、0.7〜2.0wt%を含む。
好ましくは、エラストマー材料は、フィラーと、他のプロセス添加剤とさらに含む。エラストマー化合物製剤に使用されるフィラーは、二酸化ケイ素、二酸化アルミニウム、二酸化チタン、およびカオリンであってもよい。フィラーの粒径は、約1〜5000nm、適切には10〜200nm、または5〜35nmである。エラストマー化合物製剤に使用される他の添加剤は、顔料、プロセス油などであってもよい。成分は、任意の適切な量でエラストマー材料に存在する。
エラストマー材料は、任意の適切な硬度を有する。ある実施形態において、エラストマー材料は、約30〜90ショアA、適切に60〜75ショアAまたは75〜85ショアAの硬度を有する。
硬度は、任意の適切な方法によって測定される。硬度を測定する技術は、当業者によく知られている。ここで与えられる硬度の値と範囲は、国際標準の「ISO48−ゴム、加硫または熱可塑性―押し込み硬さの測定―パート1:デュロメータ法(ショア硬度)」または「ゴム性質−デュロメータ硬度用ASTM D2240標準試験法」にリストされた方法によって測定される。
エラストマー材料は、任意の適切な引っ張り強度を有する。ある実施形態において、エラストマー材料は、約3〜30メガパスカル(MPa)、適切に約10〜15MPaまたは約12〜20MPaの引っ張り強度を有する。
引っ張り強度は、任意の適切な方法によって測定される。引っ張り強度を測定する技術は、当業者によく知られている。ここで与えられる引っ張り強度の値と範囲は、国際標準の「ISO37−ゴム、加硫または熱可塑性―引っ張り強度−ひずみ特性の測定」または「加硫ゴムおよび熱可塑性エラストマー−張力用ASTM D412標準試験法」にリストされた方法によって測定される。
エラストマー材料は、任意の適切な弾性率を有する。ある実施形態において、エラストマー材料は、100%伸長で、約0.5〜15メガパスカル(MPa)、適切に約2〜8MPaまたは約3〜5MPaの弾性率を有する。
弾性率は、任意の適切な方法によって測定される。弾性率を測定する技術は、当業者によく知られている。ここで与えられる弾性率の値と範囲は、国際標準の「ISO37−ゴム、加硫処理または熱可塑性―引っ張り強度−ひずみ特性の測定」または「加硫ゴムおよび熱可塑性エラストマー−張力用ASTM D412標準試験法」にリストされた方法によって測定される。
エラストマー材料は、任意の適切な圧縮永久ひずみを有する。ある実施形態において、エラストマー材料は、200℃で24時間後、25%偏差(たわみ)で、約5〜10%、例えば約15〜25%または約8〜14%の圧縮永久ひずみを有する。
圧縮永久ひずみは、任意の適切な方法によって測定される。圧縮永久ひずみを測定する技術は、当業者によく知られている。ここで与えられる圧縮永久ひずみの値と範囲は、「ISO815−1−ゴム、加硫または熱可塑性―圧縮永久ひずみの測定−パート1:周囲温度または高温で」または「ゴム性質−圧縮永久ひずみ用ASTM D395標準試験法」によって測定される。
エラストマー材料は、市販のエラストマー材料を含む。市販されているエラストマー材料の適切な例は、限定されないが、プレシジョン ポリマー エンジニアリングから入手可能である、Perlast(登録商標)G67P、Perlast(登録商標)G75P、Perlast(登録商標)G70H、Perlast(登録商標)G75H、Perlast(登録商標)G67G、Perlast(登録商標)G70F、Perlast(登録商標)G74S、Perlast(登録商標)G75B、Perlast(登録商標)G75TP、Perlast(登録商標)G7STX、Perlast(登録商標)G76W、Perlast(登録商標)G80A、Perlast(登録商標)G80D、Perlast(登録商標)G90DM、Perlast(登録商標)G90LT、Perlast(登録商標)G92E、Perlast(登録商標)G1OOXT、Perlast(登録商標)G70A、Perlast(登録商標)G76G、Perlast(登録商標)G79G(市場で入手可能な他のパーフルオロエラストマーに限定されない)を含む。使用される非フッ素化エラストマー材料は、プレシジョン ポリマー エンジニアリングから入手可能な、Nanofluor(登録商標)Y75G、Nanofluor(登録商標)Y75N、Nanofluor(登録商標)Y80G、V75SC、V90DM、V75J(市場で入手可能な他のフルオロエラストマーまたはそれらの組み合わせに限定されない)である。
好ましくは、エラストマーシールの上面の少なくとも一部のインクは、UV放射からエラストマーシールの劣化を防止または低減するように動作可能なバリア材料を含む。好ましくは、インクは、バリア材料、バインダー、および任意に溶媒を含む。
バリア材料は、金属粒子を含む。適切な金属粒子の例には、アルミニウム、銀、ニッケル、チタン、亜鉛、金、銅またはこれらの組み合わせが含まれるが、これらに限定されない。金属粒子は、フレーク(flakes)の形態でインクに組み込まれる。好ましくは、金属粒子は、アルミニウムである
金属粒子は、任意の適切な平均粒径を有している。特定の実施形態において、金属粒子は、約0.5〜75ミクロン、好適には約15〜40ミクロンの平均粒径を有する。
平均粒径は、任意の適切な方法によって測定される。平均粒径を測定する技術は、当業者に周知である。本明細書に示される平均粒径の値および範囲は、走査型電子顕微鏡によって決定される。
バリア材料は、顔料である無機化合物を含む。適切な無機化合物の例としては、二酸化チタン、二酸化アルミニウム、カーボンブラックまたはそれらの組み合わせが挙げられるが、これらに限定されない。無機化合物は、粉末としてインク中に組み込まれていても、溶媒中に適量で分散されていてもよい。
無機化合物は、任意の適切な平均粒径を有する。特定の実施形態では、無機化合物は、約0.1〜10ミクロン、好適には約2〜8ミクロン、またはさらには約2〜5ミクロンの平均粒径を有する。
当業者であれば、金属粒子の平均粒径を測定するために使用される方法を用いて、無機化合物の平均粒径を測定することもできることを理解する。
好ましくは、バインダーは、樹脂キャリアを含む。適切な樹脂キャリアの例は、Sartomer(登録商標)Arkema、Lucite International(登録商標)または他の任意の製造業者から入手可能な、熱硬化性アクリレートおよびエポキシアクリレートタイプの低および中粘度樹脂を含む。
必要に応じて、インクは溶媒をさらに含んでいてもよい。適切な溶媒の例には、トルエン、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、ヘキサン、キシレン、塩化メチレン、テトラクロロメタンが含まれる。好ましくは、インクは、溶液または懸濁液である。好ましくは、溶媒は、トルエンとアセトンの1:1(重量)混合物である。
バリア材料は、任意の適切な量でインク中に存在する。特定の実施形態において、インクは、約10〜75重量%、例えば約10〜25重量%を構成する。
樹脂バインダーは、任意の適切な量でインク中に存在する。特定の実施形態では、インクは、樹脂の約0〜25重量%、例えば約5〜20重量%を構成する。
特定の実施形態において、コーティング組成物の固形組成物含量は、少なくとも25%、好適には85%未満である。
好ましくは、インクは、エラストマーシール上に(適切にはその上面の一部上に)、任意の好適な乾燥膜厚で塗布される。特定の実施形態において、インクは、約0.1nm〜500μm(ミクロン)、例えば約1nm〜100nm、またはさらには約5μm〜50μmの乾燥膜厚に堆積される。特定の実施形態において、インクは、約5μm〜100μm、好適には約5μm〜10μmの乾燥膜厚に堆積される。
インクは、任意の適切な方法によって、エラストマーシールに塗布される。インクを塗布する方法は、当業者に周知である。適切な塗布方法には、スクリーン印刷、インクジェット印刷、スプレー印刷、またはそれらの組み合わせが含まれるが、これらに限定されない。好ましくは、上面の全部または一部を覆うことができる。
インクは、単一層として、または多層システムの一部として、エラストマーシールに塗布される。特定の実施形態では、インクは、プライマーの上に、またはプライマー層自体として、付与される。インクは、トップコート層を形成する。インクは、エラストマーシールの上面に1回または複数回塗布される。
特定の実施形態では、インクは、熱硬化プロセスによって、エラストマーシール上で硬化される。適切には、インク組成物は、約50〜250℃、例えば約175〜250℃の温度で硬化される。好ましくは、インク組成物は、約15分〜24時間の間、熱硬化される。
好ましくは、インクは、紫外線(UV)放射からシールの劣化を防止または低減するように動作可能である。好ましくは、インクは、短波紫外線(UV)放射から、シールの劣化を防止または低減するように動作可能である。
好ましくは、上面の少なくとも一部に堆積したインクを含む本発明によるエラストマーシールは、半導体製造装置および半導体製造プロセスにおける使用に適している。
本発明の第2の態様によれば、半導体製造装置に使用するためのエラストマーシールを形成する方法が提供される。この方法は、その上面の少なくとも一部上にインクを堆積する工程を含む。インクは、バリア材料を含む。バリア材料は、紫外線(UV)放射からシールの劣化を防止または低減するように動作可能である。
本発明のさらなる態様によれば、紫外線(UV)放射によるエラストマーシールの劣化を防止または低減する方法が提供される。その方法は、前記エラストマーシールの上面の少なくとも一部にインクを堆積させる工程を含む。インクは、バリア材料を含む。バリア材料は、紫外線(UV)放射からエラストマーシールの劣化を防止または低減するように動作可能である。
本明細書で使用される用語「紫外線(UV)放射」は、10〜400nmの範囲の波長を有する紫外線放射を意味する。
本明細書における用語「短波紫外線(UV)放射」は、一般にUVCおよびUVBとして知られている、100〜280nmおよび280〜315nmの領域の波長を有するUV放射を意味する。
本明細書中で使用されるように、特に断らない限り、単数は複数を含み、複数は単数を含む。例えば、単数形、すなわち「a」または「an」の使用は、「1つまたは複数」を含む。さらに、本明細書で使用されるように、「または」の使用は、「および/または」が特定の場合に明示的に使用されていたとしても、特に断らない限り、「および/または」を意味する。
本明細書に含まれるすべての特徴は、上記の態様のいずれかと、および任意の組み合わせで組み合わせることができる。
本発明をよりよく理解するために、上記の実施形態がどのように実施されるかを示すために、例として、添付の概略図を参照する。
図1は、上面にインクを有するエラストマーシールの斜視図を示す。
図2は、上面にインクを有するエラストマーシールの長手方向軸に垂直な円形の断面図を示す。
図3は、上部の上面にインクを有するエラストマーシールの長手方向軸に垂直な断面図を示す。
図1を参照すると、長さに沿った長手方向軸を含む、長尺状のエラストマーシール102が提供される。エラストマーシール102は、摩擦嵌めによって、チャネル(図示せず)に嵌合する連続ループを含む。エラストマーシール102は、内側エッジ104と、外側エッジ106とを含む。エラストマーシール102は、下部(図示せず)と、上部(図示せず)とを含む。下部は、摩擦嵌めによってチャネル(図示せず)に嵌合する。上部(図示せず)は、下部が嵌め込まれたチャネルから突出する。チャネルの寸法は、エラストマーシール(図示せず)の下部の寸法および形状に対応する。
エラストマーシール102は、FFKMから形成される。しかし、エラストマーシール102を形成するために使用されるエラストマー材料は、変更可能であることが当業者には理解される。
上部(図示せず)は、上面108を含む。その上面108は、エラストマーシールが半導体製造装置(図示せず)に利用されるとき、紫外線(UV)放射に曝される。インク110は、エラストマーシール102の上面108上にある。
図2を参照すると、エラストマーシール204の長手方向軸(図示せず)に垂直なエラストマーシール204の断面202が設けられている。エラストマーシール204は、摩擦嵌めによって、チャネル206に嵌合する。エラストマーシール204は、内側エッジ208と、外側エッジ210とを含む。エラストマーシール204は、下部212と、上部214とを含む。下部212は、摩擦嵌めによってチャネル206に嵌合する。上部214は、下部212が嵌合するチャネル206から突出する。チャネル206の寸法は、エラストマーシールの下部212の寸法および形状に対応する。上部214は、上面216を含む。上面は、エラストマーシールが半導体製造装置(図示せず)に利用されるとき、紫外線(UV)放射にさらされる。インク218は、エラストマーシール204の上部214の上面216上にある。
エラストマーシールの長手方向軸(図示せず)に垂直なエラストマーシール204の断面202は、円形である。エラストマーシール204は、円柱形(図示せず)である。エラストマーシール204の断面202は、エラストマーシール204の下部212が嵌合するチャネル206の幅に対応する直径を有する。
エラストマーシール204は、FFKMから形成される。しかし、エラストマーシール204を形成するために使用されるエラストマー材料は変更可能であることが当業者には理解される。
図3を参照すると、エラストマーシール304の長手方向軸(図示せず)に垂直なエラストマーシール304の断面302が提供される。エラストマーシール304は、摩擦嵌めによってチャネル306に嵌合する。エラストマーシール304は、下部308と、上部310とを含む。下部308は、摩擦嵌めによってチャネルに嵌合する。上部310は、下部308が嵌合するチャネル306から突出する。チャネル306の寸法は、エラストマーシール304の下部308の寸法および形状に対応する。上部310は、上面312を含む。上面312は、エラストマーシール304が半導体製造装置(図示せず)に利用されるとき、紫外線(UV)放射にさらされる。インク314は、エラストマーシール304の上部310の上面312上にある。
エラストマーシール304の下部308は、エラストマーシール304の長手方向軸(図示せず)に垂直な断面において、一部楕円形である。下部308は、内側エッジ316と、外側エッジ318とを含む。
エラストマーシール304の上部310は、エラストマーシール304の長手方向軸(図示せず)に垂直な断面において、矩形である。上面312は、上部310の湾曲している2つの角部を含む。上部310は、下部308の上に位置して、連結された形状を形成する。上部310は、内側エッジ320と、外側エッジ322とを含む。
エラストマーシール304の上部310の幅は、エラストマーシール304の下部308の幅よりも大きい。エラストマーシール304の下部308と上部310との間の連結点324は、エラストマーシール304の下部308の幅よりも小さい。エラストマーシール304の下部308は、下部308が嵌め込まれるチャネル306の幅に対応する断面を有する。上部310の幅は、下部308が嵌め込まれるチャネル306の幅よりも大きい。エラストマーシール304の上部310の内側エッジ320および外側エッジ322は、下部308が嵌め込まれるチャネル306のエッジと重なる。
エラストマーシール304は、FFKMから形成される。しかし、エラストマーシール304を形成するために使用されるエラストマー材料は、変更可能であることが当業者には理解される。
本発明をより良く理解するために、上記実施形態がどのように実施されるかを示すために、以下の実験データを例として参照する。
インク組成物
インク組成物(組成物1および組成物2)を、表1の配合に従って調製した。
表1 インク組成物
Figure 2019516250

*:Sartomer(登録商標)CN152の脂肪族エポキシアクリレート
**:Sartomer(登録商標)SR306のトリプロピレングリコールジアクリレート(TPGDA)
堆積されたインク組成物(コーティング組成物1および2)を有するエラストマーシールの性質と、堆積されたインク組成物を有さない比較のエラストマーシールの性質とを、以下の方法によって試験した。
試験基材の調製:
表2に示すように、組成物1および2を、厚さ50ミクロンのエラストマー材料の20×10×2mmのシートに塗布した。
表2 試験基材
Figure 2019516250
同じエラストマー材料は、インク組成物1および2を塗布しないで、同じ条件で暴露された。これにより、比較例1〜3を形成した。
シートは、75℃で1100時間、UV放射(185〜254nm)にさらされ、600ワットのUV光源下、2cmの距離のUV放射にさらされた。そのUV光源は、閉/換気されたチャンバで、185nmおよび254nmの波長の光を生成する。
試料は、以下の手順に従って、紫外線放射に暴露した前後の重量、色、表面および硬度の変化について試験し、評価した。
重量変化:サンプルの重量変化は、以下の式に従って計算した。
重量変化率(%)=((初期重量−最終重量)/初期重量)×100
色の変化:色の変化は、塗布されたインクを有する同じエラストマー材料の新しい試料に対して評価した。蛍光白色光下で、変化を分析した。
表面の変化:表面の変化は、クラックの程度に応じて評価した。この変化は、低倍率の光学顕微鏡を用いて30倍および97倍の倍率で分析し、1から5の等級を使用して分析した。5が最も劣化していないことを示す。
硬度の変化:硬度の変化は、ショアAデュロメータを用いて、ASTM D2240に従って、評価した。
結果を以下の表3に示す。
表3 テスト結果
Figure 2019516250
表面の変化:
5:変更なし
4:わずかな変化
3:中程度の変化
2:中程度/重度の変化
1:重大な変化
結果は、上面の少なくとも一部に印刷されたアルミニウム系インクを含む本発明によるエラストマーシールは、シールの特性の変化が少ないことを示した。これにより、非コーティングエラストマーシールよりも、短波紫外線(UV)放射の曝露時の劣化に対する耐性が増大することを実証した。したがって、本発明によるエラストマーシールは、半導体処理装置およびプロセスにおいて利用される場合、より長い寿命を有する。
本願と関連して本明細書と同時にまたは前に提出され、かつ本明細書による公衆の閲覧に供されるすべての書類および資料に注意が向けられる。そのような書類および資料のすべての内容は、参照により本明細書に組み込まれる。
本明細書(添付の特許請求の範囲、要約書および図面を含む)で開示された全ての特徴、および/またはそのように開示された方法またはプロセスのすべての工程は、そのような特徴および/または工程の少なくともいくつかが相互に排他的である組合せを除いて、任意の組合せで組み合わされてもよい。
本明細書(添付の特許請求の範囲、要約書及び図面を含む)に開示された各特徴は、他に明示的に記載されていない限り、同じ、等価又は類似の目的を果たす代替の特徴によって置き換えられる。したがって、特に断りのない限り、開示された各特徴は、同等または類似の特徴の一般的なシリーズの一例に過ぎない。
本発明は、前述の実施形態の詳細に限定されない。本発明は、本明細書(添付の特許請求の範囲、要約書または図面を含む)に開示された、新規のものまたは特徴の任意の新規な組合せ、または、そのように開示された任意の方法またはプロセスの新規なものまたは工程の任意の新規な組み合わせにまで及ぶ。

Claims (15)

  1. 半導体製造装置に使用するためのエラストマーシールであって、
    前記エラストマーシールの上面の少なくとも一部にインクを含み、
    前記インクは、バリア材料を含み、
    前記バリア材料は、紫外線(UV)放射から前記エラストマーシールの劣化を防止または低減するように動作可能であることを特徴とするエラストマーシール。
  2. 前記シールは、長尺状で、チャネルに嵌合可能な連続ループを含む請求項1に記載のエラストマーシール。
  3. 前記エラストマーシールは、下部と、上部とを含み、
    前記下部は、摩擦嵌めによって前記チャネルに嵌合するように動作可能である請求項2に記載のエラストマーシール。
  4. 前記エラストマーシールの前記上部は、前記下部が嵌合可能である前記チャネルから突出し、
    前記上面は、使用時に、前記UV放射に曝される請求項3に記載のエラストマーシール。
  5. 前記エラストマーシールは、単純な、O−リング、フェースシール、リップシール、D−シール、Xシール、T−シール、キャップシール、ワイパーシール、通電リップシールまたはスプリングシール、またはエンドエフェクターパッドまたは吸盤のようなエラストマー部品を取り扱うウエハである請求項1ないし4のいずれかに記載のエラストマーシール。
  6. 前記エラストマーシールは、高分子材料から形成され、
    前記高分子材料は、1つ以上のフッ素ポリマー材料を含み、
    前記フッ素ポリマー材料は、1つ以上のホモポリマー、または、フッ素を含むモノマーの組み合わせから誘導される1つ以上のコポリマーを含む請求項1ないし5のいずれかに記載のエラストマーシール。
  7. 前記バリア材料は、金属粒子を含む請求項1ないし6のいずれかに記載のエラストマーシール。
  8. 前記金属粒子は、アルミニウム、銀、ニッケル、チタン、亜鉛、金および銅の1または複数を含む請求項7に記載のエラストマーシール。
  9. 前記金属粒子は、フレークの形態で、前記インクに組み込まれる請求項7または8に記載のエラストマーシール。
  10. 前記金属粒子は、0.5〜75ミクロンの平均粒径を有する請求項7ないし9のいずれかに記載のエラストマーシール。
  11. 前記バリア材料は、無機化合物を含む請求項1ないし10のいずれかに記載のエラストマーシール。
  12. 前記無機化合物は、二酸化チタン、二酸化アルミニウム、カーボンブラックの1または複数を含む請求項11に記載のエラストマーシール。
  13. 前記無機化合物は、約0.1〜10ミクロンの平均粒径を有する請求項11または12に記載のエラストマーシール。
  14. 半導体製造装置に使用するためのエラストマーシールを形成する方法であって、
    前記エラストマーシールの上面の少なくとも一部にインクを堆積させる工程を含み、
    前記インクは、バリア材料を含み、
    前記バリア材料は、紫外線(UV)放射から前記シールの劣化を防止または低減するように動作可能であることを特徴とするエラストマーシールを形成する方法。
  15. 紫外線(UV)放射によるエラストマーシールの劣化を防止または低減する方法であって、前記方法は、
    前記エラストマーシールの上面の少なくとも一部にインクを堆積させる工程を含み、
    前記インクは、バリア材料を含み、
    前記バリア材料は、前記紫外線(UV)放射から前記エラストマーシールの劣化を防止または低減するように動作可能であることを特徴とするエラストマーシールの劣化を防止または低減する方法。
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