JP2019511107A - 浮体金属構造を非導電基板上に結像させる帯電制御方法およびシステム - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、米国特許法第119条(e)に基づき優先権主張するものであり、Arjun Hegde,Luca Grellla,Cristopher Searsを発明者とする2016年4月4日出願の米国仮特許出願第62/318,078号「CHARGE CONTROL METHODS FOR IMAGING FLOATING METAL STRUCTURES ON NON−CONDUCTING SUBSTRATES USING SCANNING ELECTRON MICROSCOPE」の正規(通常)特許出願を構成しており、その全文を本明細書に引用している。
Claims (54)
- 絶縁材料の上に配置された1個以上の導電構造を含む試料を固定すべく構成された試料台と、
一次電子ビームを生成すべく構成された電子源と、前記一次電子ビームの少なくとも一部を前記試料の一部分へ誘導すべく構成された電子光学素子の組とを含む電子光学鏡筒と、
前記試料の表面から放出される電子を検出すべく構成された検出器アセンブリと、
前記検出器アセンブリに通信可能に接続されたコントローラであって、メモリに保持されたプログラム命令を実行すべく構成された1個以上のプロセッサを含むコントローラとを含み、前記プログラム命令が、前記1個以上のプロセッサに、
前記電子光学鏡筒に対して、前記一次電子ビームを用いて前記試料の前記部分の一連の結像走査と塗りつぶし走査を交互に実行し、前記塗りつぶし走査の各々を1回以上の前記結像走査に続いて実行するよう指示させるべく構成されている走査電子顕微鏡検査装置。 - 前記一連の結像走査が、最終画像の形成に用いられる、請求項1に記載の装置。
- 前記一連の塗りつぶし走査が廃棄される、請求項1に記載の装置。
- 1個以上の結像フレームが第1の衝突エネルギーで取得される、請求項1に記載の装置。
- 1個以上の塗りつぶしフレームが追加的な衝突エネルギーで取得される、請求項1に記載の装置。
- 前記電子光学素子の組がコンデンサレンズを含んでいる、請求項1に記載の装置。
- 前記電子光学素子の組が対物レンズを含んでいる、請求項1に記載の装置。
- 前記電子光学素子の組が走査素子の組を含んでいる、請求項1に記載の装置。
- 前記電子源が1個以上の電子銃を含んでいる、請求項1に記載の装置。
- 前記検出器アセンブリが第2の電子検出器または後方散乱電子検出器の少なくとも一方を含んでいる、請求項1に記載の装置。
- 前記試料台の偏りを制御すべく構成された偏り制御回路を更に含んでいる、請求項1に記載の装置。
- 前記コントローラが、結像走査および塗りつぶし走査の少なくとも一方を実行すべく、前記電子光学鏡筒または前記偏り制御回路の1個以上の要素のうち少なくとも1個を調整すべく構成されている、請求項1に記載の装置。
- 真空システムを更に含んでいる、請求項1に記載の装置。
- 絶縁材料の上に配置された1個以上の導電構造を含む試料を固定すべく構成された試料台と、
一次電子ビームを生成すべく構成された電子源と、前記一次電子ビームの少なくとも一部を前記試料の一部分へ誘導すべく構成された電子光学素子の組とを含む電子光学鏡筒と、
前記試料の表面から放出される電子を検出すべく構成された検出器アセンブリと、
前記検出器アセンブリに通信可能に接続されたコントローラであって、メモリに保持されたプログラム命令を実行すべく構成された1個以上のプロセッサを含むコントローラとを含み、前記プログラム命令が、前記1個以上のプロセッサに、
前記電子光学鏡筒に対して、前記一次電子ビームを用いて前記試料の前記部分の一連の露光を交互に実行するよう指示させるべく構成されており、前記一連の交互の露光が、第1の電子衝突エネルギーで実行される第1の露光の組と、前記第1の衝突エネルギーよりも小さい追加的な衝突エネルギーで実行される追加的な露光の組とを含み、前記追加的な露光の組の各々の露光が、前記第1の露光の組の1回以上の露光に続いて実行される走査電子顕微鏡検査装置。 - 前記試料の前記部分の一連の交互の露光が、前記第1の電子衝突エネルギーと前記追加的な電子衝突エネルギーの間で交替する一連のN回の露光を含んでいる、請求項14に記載の装置。
- 前記試料の前記部分の一連の交互の露光が、前記試料の表面において表面帯電中性化を生じさせる、請求項14に記載の装置。
- 前記第1の衝突エネルギーが50eV以上である、請求項14に記載の装置。
- 前記追加的な衝突エネルギーが1eV未満である、請求項14に記載の装置。
- 前記コントローラが、前記電子光学鏡筒に対し、前記試料を前記電子源の陰極の電圧よりも少なくとも5kV高い電圧に維持することにより、前記一次電子ビームの前記第1の衝突エネルギーを実現するよう指示する、請求項14に記載の装置。
- 前記コントローラが、前記電子光学鏡筒に対し、前記試料を前記電子源の陰極の電圧よりも10V未満高い電圧に維持することにより、前記一次電子ビームの前記追加的な衝突エネルギーを実現するよう指示する、請求項14に記載の装置。
- 1個以上の結像フレームが前記第1の衝突エネルギーで取得される、請求項14に記載の装置。
- 1個以上の塗りつぶしフレームが前記追加的な衝突エネルギーで取得される、請求項14に記載の装置。
- 前記電子源の単一陰極が、前記第1の衝突エネルギーを有する前記一次電子ビーム、および前記追加的な衝突エネルギーを有する前記一次電子ビームを生成する、請求項14に記載の装置。
- 前記電子源の単一陰極が、前記第1の衝突エネルギーを有する一次電子ビーム、および前記追加的な衝突エネルギーを有する一次電子ビームを生成する、請求項14に記載の装置。
- 前記電子光学素子の組がコンデンサレンズを含んでいる、請求項14に記載の装置。
- 前記電子光学素子の組が対物レンズを含んでいる、請求項14に記載の装置。
- 前記電子光学素子の組が走査素子の組を含んでいる、請求項14に記載の装置。
- 前記電子源が1個以上の電子銃を含んでいる、請求項14に記載の装置。
- 前記検出器アセンブリが第2の電子検出器または後方散乱電子検出器の少なくとも一方を含んでいる、請求項14に記載の装置。
- 前記試料台の偏りを制御すべく構成された偏り制御回路を更に含んでいる、請求項14に記載の装置。
- 前記コントローラが、前記第1の衝突エネルギーまたは前記追加的な衝突エネルギーの少なくとも一方を確定すべく、前記電子光学鏡筒または前記偏り制御回路の1個以上の要素のうち少なくとも1個を調整すべく構成されている、請求項14に記載の装置。
- 真空システムを更に含んでいる、請求項14に記載の装置。
- 絶縁材料の上に配置された1個以上の導電構造を含む試料を固定すべく構成された試料台と、
一次電子ビームを生成すべく構成された電子源と、前記一次電子ビームの少なくとも一部を前記試料の一部分へ誘導すべく構成された電子光学素子の組とを含む電子光学鏡筒と、
前記試料の表面から放出される電子を検出すべく構成された検出器アセンブリと、
前記検出器アセンブリに通信可能に接続されたコントローラであって、メモリに保持されたプログラム命令を実行すべく構成された1個以上のプロセッサを含むコントローラとを含み、前記プログラム命令が、前記1個以上のプロセッサに、
前記電子光学鏡筒に対して、前記一次電子ビームを用いて前記試料の前記部分の一連の露光を交互に実行するよう指示させるべく構成されており、前記一連の交互の露光が、第1の電子抽出場で実行される第1の露光の組と、追加的な電子抽出場で実行される追加的な露光の組とを含み、前記追加的な露光の組の各々の露光が、前記第1の露光の組の1回以上の露光に続いて実行される走査電子顕微鏡検査装置。 - 前記試料の前記部分の一連の交互の露光が、前記第1の電子抽出場と前記追加的な電子抽出場の間で交替する一連のN回の露光を含んでいる、請求項33に記載の装置。
- 画像を取得する間、衝突エネルギーが一定の状態に保たれる、請求項33に記載の装置。
- 前記試料の前記部分の一連の交互の露光が、前記試料の表面において表面帯電中性化を生じさせる、請求項33に記載の装置。
- 前記第1の電子抽出場が前記追加的な電子抽出場よりも大きい、請求項33に記載の装置。
- 前記第1の電子抽出場が100〜3000ボルト/mmの範囲にある、請求項37に記載の装置。
- 前記追加的な電子抽出場が0ボルト/mm未満である、請求項37に記載の装置。
- 前記第1の電子抽出場が、前記電子光学鏡筒の対物レンズを前記試料の電圧よりも実質的に高い電圧に維持することにより確定される、請求項33に記載の装置。
- 前記追加的な電子抽出場が、前記電子光学鏡筒の対物レンズを前記試料の電圧よりも負側に高い電圧に維持することにより確定される、請求項33に記載の装置。
- 前記試料の電圧よりも負側に高い電圧に維持された前記対物レンズによりはね返された電子が、前記対物レンズからの電子をはね返し、前記試料の表面電荷中性化を生じさせる、請求項41に記載の装置。
- 前記第1の電子抽出場で1個以上の結像フレームが取得される、請求項33に記載の装置。
- 前記追加的な電子抽出場で1個以上の塗りつぶしフレームが取得される、請求項33に記載の装置。
- 前記電子光学素子の組がコンデンサレンズを含んでいる、請求項33の装置。
- 前記電子光学素子の組が対物レンズを含んでいる、請求項33の装置。
- 前記電子光学素子の組が走査素子の組を含んでいる、請求項33の装置。
- 前記電子ビーム源が1個以上の電子銃を含んでいる、請求項33の装置。
- 前記検出器アセンブリが第2の電子検出器または後方散乱電子検出器の少なくとも一方を含んでいる、請求項33の装置。
- 前記試料台の偏りを制御すべく構成された偏り制御回路を更に含んでいる、請求項33の装置。
- 真空システムを更に含んでいる、請求項33の装置。
- 電子ビームを用いて試料の一部分に対し一連の結像走査と塗りつぶし走査を交互に実行するステップにおいて、前記塗りつぶし走査の各々を1回以上の前記結像走査に続いて実行するステップを含む方法。
- 電子ビームを用いて試料の一部分に対し一連の露光を交互に実行するステップを含み、前記一連の交互の露光が、第1の電子衝突エネルギーで実行される第1の露光の組と、前記第1の衝突エネルギーよりも小さい追加的な衝突エネルギーで実行される追加的な露光の組とを含み、前記追加的な露光の組の各々の露光が、前記第1の露光の組の1回以上の露光に続いて実行される方法。
- 電子ビームを用いて試料の一部分に対し一連の露光を交互に実行するステップを含み、前記一連の交互の露光が、第1の電子抽出場で実行される第1の露光の組と、追加的な電子抽出場で実行される追加的な露光の組とを含み、前記追加的な露光の組の各々の露光が、前記第1の露光の組の1回以上の露光に続いて実行される方法。
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