JP2019503431A - 基板上に材料を堆積する装置、基板上に1つ以上の層を堆積するシステム、及び真空堆積システムをモニタする方法 - Google Patents
基板上に材料を堆積する装置、基板上に1つ以上の層を堆積するシステム、及び真空堆積システムをモニタする方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019503431A JP2019503431A JP2017560166A JP2017560166A JP2019503431A JP 2019503431 A JP2019503431 A JP 2019503431A JP 2017560166 A JP2017560166 A JP 2017560166A JP 2017560166 A JP2017560166 A JP 2017560166A JP 2019503431 A JP2019503431 A JP 2019503431A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- vacuum chamber
- molding device
- camera device
- deposition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 131
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 124
- 238000000151 deposition Methods 0.000 title claims abstract description 96
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 29
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims description 20
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 title claims description 12
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 70
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims abstract description 65
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 46
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 45
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 claims description 35
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 32
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 24
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 16
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 16
- 238000012806 monitoring device Methods 0.000 claims description 15
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 9
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 2
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 1
- 239000012809 cooling fluid Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000013070 direct material Substances 0.000 description 1
- -1 etc.) Substances 0.000 description 1
- 230000003203 everyday effect Effects 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/542—Controlling the film thickness or evaporation rate
- C23C14/545—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material
- C23C14/547—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material using optical methods
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
- C23C14/566—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases using a load-lock chamber
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
- G01B11/0625—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating with measurement of absorption or reflection
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
- G01B11/0683—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating measurement during deposition or removal of the layer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
Description
Claims (15)
- 基板上に材料を堆積する装置であって、
真空チャンバ、
前記真空チャンバ内の少なくとも1つの堆積源、
前記少なくとも1つの堆積源にある成形デバイスであって、前記少なくとも1つの堆積源から放出される前記材料の少なくとも一部をブロックするように構成されている成形デバイス、及び
前記真空チャンバ内のカメラデバイスであって、前記成形デバイス上への材料蓄積をモニタするように構成されているカメラデバイス
を備える、装置。 - 前記成形デバイスの少なくとも一部は、前記成形デバイス上への前記材料蓄積をモニタするため、前記カメラデバイスの視野内に配設されている、請求項1に記載の装置。
- 前記カメラデバイスは、前記基板によって提供される前記成形デバイスの反射に基づいて前記成形デバイス上への前記材料蓄積をモニタするように構成されている、請求項1に記載の装置。
- 前記カメラデバイスは、前記基板の少なくとも一部が前記カメラデバイスの視野内に配設されるようにして、前記真空チャンバ内に位置している、請求項3に記載の装置。
- 前記真空チャンバ内に設置された反射デバイスをさらに含み、前記反射デバイスの少なくとも一部は、前記反射デバイスによって提供される前記成形デバイスの反射に基づいて前記成形デバイス上への前記材料蓄積をモニタするため、前記カメラデバイスの視野内に配設されている、請求項1に記載の装置。
- 前記カメラデバイスは、前記少なくとも1つの堆積源上に装着されている、請求項1から5のいずれか一項に記載の装置。
- 前記カメラデバイスは、前記少なくとも1つの堆積源から放出される前記材料の放出方向に対して向きを合わせられている、請求項1から6のいずれか一項に記載の装置。
- 無線リンクまたはケーブルによって前記カメラデバイスに接続されたモニタリングデバイスをさらに含み、前記モニタリングデバイスは、前記成形デバイス上の前記材料蓄積を測定するように構成されている、請求項1から7のいずれか一項に記載の装置。
- 前記成形デバイス上に蓄積した前記材料を除去するため、前記成形デバイスを加熱するように構成された加熱デバイスをさらに備える、請求項1から8のいずれか一項に記載の装置。
- 前記装置は、前記材料蓄積に基づいて、前記成形デバイスを加熱するための1つ以上の処理パラメータを調整するように構成されている、請求項9に記載の装置。
- 前記1つ以上の処理パラメータは、加熱開始時間、最高加熱温度、温度ランプ速度、加熱時間、及びこれらの任意の組み合わせからなる群から選択される、請求項10に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの堆積源は蒸発源であり、前記成形デバイスは、前記蒸発源によって蒸発した前記材料の分配円錐の範囲を定めるように構成されている、請求項1から11のいずれか一項に記載の装置。
- 基板上に1つ以上の層を堆積するシステムであって、
請求項1から12のいずれか一項に記載の装置と、
前記基板を真空チャンバ内にロードするために前記真空チャンバに接続されたロードロックチャンバと、
その上に堆積された前記1つ以上の層を有する前記基板を前記真空チャンバからアンロードするために前記真空チャンバに接続されたアンロードロックチャンバと、
を含む、システム。 - 蒸発源を使用して基板上に堆積する材料を蒸発させることと、
真空チャンバ内に設置されたカメラデバイスを使用して、前記蒸発源から放出された前記材料の少なくとも一部をブロックするように構成された成形デバイス上への材料蓄積を、モニタすることと
を含む、真空堆積システムをモニタする方法。 - モニタされた前記材料蓄積に基づいて、加熱デバイス用の1つ以上の処理パラメータを決定することと、
決定された前記1つ以上の処理パラメータを用いて、前記加熱デバイスで前記成形デバイスを加熱することと
をさらに含む、請求項14に記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/EP2016/080666 WO2018108241A1 (en) | 2016-12-12 | 2016-12-12 | Apparatus for deposition of a material on a substrate, system for depositing one or more layers on a substrate, and method for monitoring a vacuum deposition system |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019503431A true JP2019503431A (ja) | 2019-02-07 |
Family
ID=57539267
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017560166A Ceased JP2019503431A (ja) | 2016-12-12 | 2016-12-12 | 基板上に材料を堆積する装置、基板上に1つ以上の層を堆積するシステム、及び真空堆積システムをモニタする方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2019503431A (ja) |
KR (2) | KR20200049915A (ja) |
CN (1) | CN108431294A (ja) |
TW (1) | TW201828368A (ja) |
WO (1) | WO2018108241A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110923634A (zh) * | 2019-12-23 | 2020-03-27 | 江苏集萃有机光电技术研究所有限公司 | 蒸镀腔室内的监视装置、蒸镀机及监视方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08134644A (ja) * | 1994-11-10 | 1996-05-28 | Nissin Electric Co Ltd | 成膜装置 |
JP2003007462A (ja) * | 2001-04-20 | 2003-01-10 | Eastman Kodak Co | 有機層蒸着装置 |
JP2005314730A (ja) * | 2004-04-28 | 2005-11-10 | Ulvac Japan Ltd | 有機薄膜製造方法、有機薄膜製造装置 |
JP2014091865A (ja) * | 2012-11-05 | 2014-05-19 | Samsung Display Co Ltd | 薄膜蒸着装置及びそれを利用した薄膜蒸着方法 |
JP2017509794A (ja) * | 2014-03-21 | 2017-04-06 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 有機材料用の蒸発源 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG114589A1 (en) * | 2001-12-12 | 2005-09-28 | Semiconductor Energy Lab | Film formation apparatus and film formation method and cleaning method |
JP3878091B2 (ja) * | 2002-08-30 | 2007-02-07 | 月島機械株式会社 | 真空成膜装置 |
JP2004103269A (ja) * | 2002-09-05 | 2004-04-02 | Sanyo Electric Co Ltd | 有機el表示装置の製造方法 |
US9899635B2 (en) * | 2014-02-04 | 2018-02-20 | Applied Materials, Inc. | System for depositing one or more layers on a substrate supported by a carrier and method using the same |
-
2016
- 2016-12-12 JP JP2017560166A patent/JP2019503431A/ja not_active Ceased
- 2016-12-12 KR KR1020207012867A patent/KR20200049915A/ko active Application Filing
- 2016-12-12 KR KR1020177035412A patent/KR20180086125A/ko active Application Filing
- 2016-12-12 WO PCT/EP2016/080666 patent/WO2018108241A1/en active Application Filing
- 2016-12-12 CN CN201680071483.1A patent/CN108431294A/zh active Pending
-
2017
- 2017-11-16 TW TW106139753A patent/TW201828368A/zh unknown
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08134644A (ja) * | 1994-11-10 | 1996-05-28 | Nissin Electric Co Ltd | 成膜装置 |
JP2003007462A (ja) * | 2001-04-20 | 2003-01-10 | Eastman Kodak Co | 有機層蒸着装置 |
JP2005314730A (ja) * | 2004-04-28 | 2005-11-10 | Ulvac Japan Ltd | 有機薄膜製造方法、有機薄膜製造装置 |
JP2014091865A (ja) * | 2012-11-05 | 2014-05-19 | Samsung Display Co Ltd | 薄膜蒸着装置及びそれを利用した薄膜蒸着方法 |
JP2017509794A (ja) * | 2014-03-21 | 2017-04-06 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 有機材料用の蒸発源 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20180086125A (ko) | 2018-07-30 |
TW201828368A (zh) | 2018-08-01 |
WO2018108241A1 (en) | 2018-06-21 |
CN108431294A (zh) | 2018-08-21 |
KR20200049915A (ko) | 2020-05-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6815390B2 (ja) | 堆積装置を操作する方法、蒸発した源材料を基板に堆積する方法、及び堆積装置 | |
JP6941564B2 (ja) | 蒸発した材料を堆積させるための蒸発源、及び蒸発した材料を堆積させるための方法 | |
JP6633185B2 (ja) | 材料堆積装置、真空堆積システム及びそのための方法 | |
JP2018530664A (ja) | 有機材料のための蒸発源、有機材料のための蒸発源を有する装置、及び有機材料を堆積させるための方法。 | |
KR102030683B1 (ko) | 재료 증착 어레인지먼트, 진공 증착 시스템 및 이를 위한 방법 | |
TWI664303B (zh) | 沈積系統、沈積設備、及操作一沈積系統之方法 | |
JP2023002518A (ja) | 蒸発した材料を堆積させるための蒸発源、及び蒸発した材料を堆積させるための方法 | |
JP6594986B2 (ja) | 真空堆積のための材料源アレンジメント及び材料分配アレンジメント | |
WO2019063061A1 (en) | MATERIAL DEPOSITION ARRANGEMENT, VACUUM DEPOSITION SYSTEM, AND ASSOCIATED METHODS | |
JP2019503431A (ja) | 基板上に材料を堆積する装置、基板上に1つ以上の層を堆積するシステム、及び真空堆積システムをモニタする方法 | |
JP2020023750A (ja) | 堆積装置を操作する方法、蒸発した源材料を基板に堆積する方法、及び堆積装置 | |
CN111344433A (zh) | 冷却沉积源的方法、用于冷却沉积源的腔室和沉积系统 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180115 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180115 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190305 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190605 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20191001 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200203 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20200210 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200422 |
|
A045 | Written measure of dismissal of application [lapsed due to lack of payment] |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045 Effective date: 20200901 |