JP2019502025A5

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Info

Publication number: JP2019502025A5
Application number: JP2018532098A
Authority: JP
Filing date: 2015-12-21
Publication date: 2019-04-25
Anticipated expiration: 2035-12-21

Claims

基板上で薄膜を処理するための装置であって、
ハウジング、後部壁、及び取り外し可能な閉鎖プレートを備える、真空チャンバと、
前記真空チャンバの内部の前記後部壁と前記取り外し可能な閉鎖プレートとの間に配置されている処理ドラムであって、少なくとも部分的に処理領域によって取り囲まれている、処理ドラムと、
前記取り外し可能な閉鎖プレートに取り付けられた、第１のプロセス分離壁部と、
前記ハウジング又は前記後部壁に取り付けられた、第２のプロセス分離壁部と
を備え、前記取り外し可能な閉鎖プレートが閉鎖位置にある時に、前記第２のプロセス分離壁部が、前記処理ドラムと前記第１のプロセス分離壁部との間のスペース内に配置され、前記第１のプロセス分離壁部と前記第２のプロセス分離壁部とが共に、前記処理領域を隣接する複数の処理区域に分けるプロセス分離壁を提供する、装置。
前記第１のプロセス分離壁部が、シールを備える、請求項１に記載の装置。
前記第１のプロセス分離壁部が、膨張可能シールを備える、請求項１に記載の装置。
前記シールが、前記第１のプロセス分離壁部と前記第２のプロセス分離壁部との間のシールを提供する、請求項２に記載の装置。
前記シールが、前記第１のプロセス分離壁部と前記第２のプロセス分離壁部との間、及び、前記第１のプロセス分離壁部と前記ハウジングとの間のシールを提供する、請求項２に記載の装置。
前記第２のプロセス分離壁部は、前記処理ドラムまで予め選択された距離に保たれ、前記第２のプロセス分離壁部から前記処理ドラムまでの前記距離が、間隙を画定する、請求項１から５のいずれか一項に記載の装置。
前記間隙が、１：１００の、隣接する処理区域同士の間のガス分離係数を提供するよう構成される、請求項６に記載の装置。
前記取り外し可能な閉鎖プレートに取り付けられている少なくとも１つの処理ユニットを更に備える、請求項１から７のいずれか一項に記載の装置。
少なくとも１つのガイドローラであって、前記少なくとも１つのガイドローラ及び前記処理ドラムの、前記取り外し可能な閉鎖プレートの方に面する端部が、軸受によって、前記ハウジングに接続された支持プレートに取り付けられる、少なくとも１つのガイドローラを更に備える、請求項１から５のいずれか一項に記載の装置。
前記真空チャンバの前記ハウジングが、凹部を有する上部壁を有し、少なくとも１つの真空ポンプが前記凹部の中に設けられる、請求項１から５のいずれか一項に記載の装置。
更なる第１のプロセス分離壁部を更に備え、前記第１のプロセス分離壁部と前記更なる第１のプロセス分離壁部とが補強要素で機械的に接続される、請求項１から５のいずれか一項に記載の装置。
前記第１のプロセス分離壁部に、前記少なくとも１つの処理ユニットの一端を支持する軸受プレートが設けられる、請求項１から５のいずれか一項に記載の装置。
前記ハウジング又は前記後部壁に固定的に取り付けられた単一部材として設けられた、更なるプロセス分離壁を更に備える、請求項１から５のいずれか一項に記載の装置。
前記更なるプロセス分離壁が、前記処理領域の上流側の一番端のプロセス分離壁、前記処理領域の下流側の別の一番端のプロセス分離壁、又は前記処理ドラムを支持するプロセス分離壁、のうちの１つである、請求項１３に記載の装置。
開放位置において、前記取り外し可能な閉鎖プレートと前記第１のプロセス分離壁部とがひとまとめに動かされる、請求項１から５のいずれか一項に記載の装置。
基板上で薄膜を処理するための装置であって、
ハウジング、後部壁、及び取り外し可能な閉鎖プレートを備える、真空チャンバと、
前記真空チャンバの内部の前記後部壁と前記取り外し可能な閉鎖プレートとの間に配置されている処理ドラムであって、少なくとも部分的に処理領域によって取り囲まれている、処理ドラムと、
前記取り外し可能な閉鎖プレートに取り付けられた、一又は複数の第１のプロセス分離壁部と、
前記ハウジング又は前記後部壁に取り付けられた、一又は複数の第２のプロセス分離壁部と、
前記取り外し可能な閉鎖プレートに取り付けられた、少なくとも１つの処理ユニットと
を備え、２つの隣り合った第１のプロセス分離壁部同士が、補強要素で機械的に接続され、前記一又は複数の第１のプロセス分離壁部と、前記一又は複数の第２のプロセス分離壁部とが共に、前記処理領域を少なくとも２つの隣接する処理区域に分ける一又は複数のプロセス分離壁を提供する、装置。
真空チャンバ内の隣接する処理区域同士の間に気密のプロセス分離壁を提供するための方法であって、
取り外し可能な閉鎖プレートで前記真空チャンバを閉鎖することによって、第１のプロセス分離壁部を前記真空チャンバ内へと動かし、前記真空チャンバの処理ドラムと前記第１のプロセス分離壁部との間のスペース内に、前記真空チャンバの第２のプロセス分離壁部が配置されることと、
前記第１のプロセス分離壁部と前記第２のプロセス分離壁部との間の気密シールを作動させることとを含む、方法。
前記気密シールを作動させることが、膨張可能ガスケットを加圧することによって実施される、請求項１７に記載の方法。