JP2019501425A - 反射防止フィルム - Google Patents
反射防止フィルム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019501425A JP2019501425A JP2018548637A JP2018548637A JP2019501425A JP 2019501425 A JP2019501425 A JP 2019501425A JP 2018548637 A JP2018548637 A JP 2018548637A JP 2018548637 A JP2018548637 A JP 2018548637A JP 2019501425 A JP2019501425 A JP 2019501425A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- antireflection film
- substituted
- group
- compound
- film according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J3/00—Processes of treating or compounding macromolecular substances
- C08J3/24—Crosslinking, e.g. vulcanising, of macromolecules
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/042—Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/0427—Coating with only one layer of a composition containing a polymer binder
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/044—Forming conductive coatings; Forming coatings having anti-static properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
- C08L33/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09D133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C09D133/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/006—Anti-reflective coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/66—Additives characterised by particle size
- C09D7/67—Particle size smaller than 100 nm
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/70—Additives characterised by shape, e.g. fibres, flakes or microspheres
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/045—Polysiloxanes containing less than 25 silicon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2301/00—Characterised by the use of cellulose, modified cellulose or cellulose derivatives
- C08J2301/08—Cellulose derivatives
- C08J2301/10—Esters of organic acids
- C08J2301/12—Cellulose acetate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2433/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
- C08J2433/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
- C08J2433/06—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing only carbon, hydrogen, and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C08J2433/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
- C08K3/36—Silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K7/00—Use of ingredients characterised by shape
- C08K7/22—Expanded, porous or hollow particles
- C08K7/24—Expanded, porous or hollow particles inorganic
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
Description
本出願は、2016年3月4日付の韓国特許出願第10−2016−0026376号および2017年3月2日付の韓国特許出願第10−2017−0027321号に基づく優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示されたすべての内容は本明細書の一部として含まれる。
製造例1:ハードコートフィルム1(HD1)の製造
ペンタエリスリトールトリアクリレート30g、高分子量共重合体(BEAMSET371、Arakawa社、Epoxy Acrylate、分子量40,000)2.5g、メチルエチルケトン20g、およびレベリング剤(Tego wet270)0.5gを均一に混合した後に、屈折率が1.525のアクリル−スチレン共重合体樹脂微粒子(体積平均粒径:2μm、製造会社:Sekisui Plastic)2gを添加して、ハードコート組成物を製造した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート30g、高分子量共重合体(BEAMSET371、Arakawa社、Epoxy Acrylate、分子量40,000)2.5g、メチルエチルケトン20g、およびレベリング剤(Tego wet270)0.5gを均一に混合した後に、屈折率が1.515のアクリル−スチレン共重合体樹脂微粒子(体積平均粒径:2μm、製造会社:Sekisui Plastic)2gを添加して、ハードコート組成物を製造した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート30g、高分子量共重合体(BEAMSET371、Arakawa社、Epoxy Acrylate、分子量40,000)2.5g、メチルエチルケトン20g、およびレベリング剤(Tego wet270)0.5gを均一に混合した後に、屈折率が1.544のアクリル−スチレン共重合体樹脂微粒子(体積平均粒径:2μm、製造会社:Sekisui Plastic)2gを添加して、ハードコート組成物を製造した。
KYOEISHA社の塩タイプの帯電防止ハードコート液(固形分50重量%、製品名:LJD−1000)をトリアセチルセルロースフィルムに#10mayer barでコーティングし、90℃で1分間乾燥した後、150mJ/cm2の紫外線を照射して、4μmの厚さを有するハードコートフィルム(HD4)を製造した。
(1)低屈折層製造用光重合性コーティング組成物の製造
下記表1の成分を混合し、MIBK(methyl isobutyl ketone)およびジアセトンアルコール(DAA)を1:1の重量比で混合した溶媒に、固形分が3重量%となるように希釈した。
2)RS907(DIC社製品):光反応性官能基を含み、ケイ素を微量含むフッ素系化合物、MIBK溶媒中の固形分30重量%に希釈する
3)MA0701:Hybrid Plastics社製品
4)AC−SQ−F:東亜合成社製品(シルセスキオキサン樹脂、官能基濃度678g/mol、無機分率15%、屈折率1.39)
下記表2に記載されたハードコートフィルム上に、前記表1でそれぞれ得られた光重合性コーティング組成物を#3mayer barでコーティングし、60℃で1分間乾燥した。そして、窒素パージング下、前記乾燥物に180mJ/cm2の紫外線を照射して、110nmの厚さを有する低屈折層を形成することによって、反射防止フィルムを製造した。
前記実施例および比較例で得られた反射防止フィルムに対して、次の項目の実験を行った。
蒸留水で10%に希釈した55℃のNaOH水溶液に、実施例および比較例で得られた反射防止フィルムそれぞれを30秒間浸漬してから水に流して洗浄した後、水気を拭き取った。
前記実施例および比較例で得られた反射防止フィルムに対して、前記前処理前後の時点でフィルムの裏面を暗色処理した後に、Solidspec3700(SHIMADZU)の100Tモードを用いて、380nm〜780nmの波長領域における平均反射率と色座標値(b*)を測定した。
前記前処理前後の時点で、スチールウール(#0000)に荷重をかけて24rpmの速度で10回往復し、実施例および比較例で得られた反射防止フィルムの表面を擦った。肉眼で観察される1cm以下のスクラッチ1個以下が観察される最大荷重を測定した。
前記実施例および比較例それぞれで得られた反射防止フィルムに対して、Murakami color Research LaboratoryのHAZEMETER HM−150装備を用いて、JIS K7105規定により3ヶ所のヘイズを測定して平均値を求めた。
(2)全体ヘイズは、前記反射防止フィルム自体に対してヘイズを測定
(3)内部ヘイズは、アルカリ処理をした反射防止フィルムの表面に平坦化層を8μmコーティングし、全体フィルムのヘイズを測定した。
(4)アルカリ処理:蒸留水で10%に希釈した30℃のNaOH水溶液に、実施例および比較例で得られた反射防止フィルムそれぞれを2分間浸漬してから水に流して洗浄した後、水気を拭き取ってから、50℃のオーブンにて1分間乾燥した。
(5)平坦化層コーティング:ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびEbecryl220(SK cytecのオリゴマー)を6:1の重量比で混合し、メチルエチルケトンおよびトルエン2:1の重量比の混合溶剤に固形分60重量%となるように希釈し、wire barを用いて乾燥膜厚さが8μmとなるように塗布し、乾燥および硬化した後に、表面の凹凸を平坦化した。
前記実施例および比較例それぞれで得られた反射防止フィルムに対して、楕円偏光法(ellipsometry)で偏極の楕円率を測定した。
Claims (17)
- 光重合性化合物および反応性官能基が1以上置換されたポリシルセスキオキサン(polysilsesquioxane)の間の架橋重合体を含むバインダー樹脂;および該バインダー樹脂に分散した無機微細粒子;を含む低屈折層とハードコート層を含み、
全体ヘイズ(Ha)に対する内部ヘイズ(Hi)の比率が97%以下であり、
アルカリ処理前後における色座標値(b*)の変移が0.7以下である、反射防止フィルム。 - 前記アルカリ処理前後における色座標値(b*)の変移は、前記反射防止フィルムを蒸留水で5〜50%に希釈したアルカリ水溶液に1秒〜100秒間浸漬するアルカリ前処理前後の色座標値をそれぞれ測定して決定される、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記低屈折層に対して楕円偏光法(ellipsometry)で測定した偏極の楕円率を下記一般式1のコーシーモデル(Cauchy model)で最適化(fitting)した時、
下記Aは1.20〜1.65、下記Bは0〜0.05、下記Cは0〜0.05の条件を満足する、請求項1に記載の反射防止フィルム:
- 前記ハードコート層に対して楕円偏光法(ellipsometry)で測定した偏極の楕円率を下記一般式1のコーシーモデル(Cauchy model)で最適化(fitting)した時、
下記Aは1.30〜1.75、下記Bは0〜0.05、下記Cは0〜0.005の条件を満足する、請求項1に記載の反射防止フィルム:
- 前記低屈折層は、1nm〜200nmの厚さを有し、前記ハードコート層は、0.1μm〜100μmの厚さを有する、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記低屈折層に含まれるバインダー樹脂中、光重合性化合物に由来する部分対比、前記反応性官能基が1以上置換されたポリシルセスキオキサン(polysilsesquioxane)に由来する部分の重量比率が0.005〜0.50である、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記ポリシルセスキオキサンに置換される反応性官能基は、アルコール、アミン、カルボン酸、エポキシド、イミド、(メタ)アクリレート、ニトリル、ノルボルネン、オレフィン、ポリエチレングリコール、チオール、およびビニル基からなる群より選択された1種以上の官能基を含む、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記反応性官能基が1以上置換されたポリシルセスキオキサンは、反応性官能基が1以上置換され、ケージ(cage)構造を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサン(Polyhedral Oligomeric Silsesquioxane)を含む、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記ケージ(cage)構造を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサンのシリコンのうちの少なくとも1個以上には反応性官能基が置換され、前記反応性官能基が置換されない残りのシリコンには非反応性官能基が置換される、請求項8に記載の反射防止フィルム。
- 前記光重合性化合物は、(メタ)アクリレートまたはビニル基を含む単量体またはオリゴマーを含む、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記バインダー樹脂は、光重合性化合物、光反応性官能基を含むフッ素系化合物、および反応性官能基が1以上置換されたポリシルセスキオキサン(polysilsesquioxane)の間の架橋重合体をさらに含む、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記フッ素系化合物に含まれる光反応性官能基は、(メタ)アクリレート基、エポキシド基、ビニル基(Vinyl)、およびチオール基(Thiol)からなる群より選択された1種以上である、請求項11に記載の反射防止フィルム。
- 前記光反応性官能基を含むフッ素系化合物は、1重量%〜60重量%のフッ素含有量を有する、請求項11に記載の反射防止フィルム。
- 前記光反応性官能基を含む含フッ素化合物は、i)1つ以上の光反応性官能基が置換され、少なくとも1つの炭素に1以上のフッ素が置換された脂肪族化合物または脂肪族環化合物;ii)1以上の光反応性官能基で置換され、少なくとも1つの水素がフッ素に置換され、1つ以上の炭素がケイ素に置換されたヘテロ(hetero)脂肪族化合物またはヘテロ(hetero)脂肪族環化合物;iii)1つ以上の光反応性官能基が置換され、少なくとも1つのシリコンに1以上のフッ素が置換されたポリジアルキルシロキサン系高分子;およびiv)1以上の光反応性官能基で置換され、少なくとも1つの水素がフッ素に置換されたポリエーテル化合物;からなる群より選択された1種以上を含む、請求項11に記載の反射防止フィルム。
- 前記光反応性官能基を含むフッ素系化合物は、2,000〜200,000の重量平均分子量を有する、請求項11に記載の反射防止フィルム。
- 前記無機微細粒子は、0.5〜100nmの直径を有するソリッド状無機ナノ粒子、および1〜200nmの直径を有する中空状無機ナノ粒子からなる群より選択された1種以上を含む、請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記ハードコートフィルムは、光重合性樹脂および重量平均分子量10,000以上の高分子量(共)重合体を含むバインダー樹脂、および該バインダー樹脂に分散した有機または無機微粒子;を含む、請求項1に記載の反射防止フィルム。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2016-0026376 | 2016-03-04 | ||
KR20160026376 | 2016-03-04 | ||
KR1020170027321A KR101959510B1 (ko) | 2016-03-04 | 2017-03-02 | 반사 방지 필름 |
KR10-2017-0027321 | 2017-03-02 | ||
PCT/KR2017/002332 WO2017150938A1 (ko) | 2016-03-04 | 2017-03-03 | 반사 방지 필름 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019501425A true JP2019501425A (ja) | 2019-01-17 |
Family
ID=59967717
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018548637A Withdrawn JP2019501425A (ja) | 2016-03-04 | 2017-03-03 | 反射防止フィルム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10768342B2 (ja) |
EP (1) | EP3378902B1 (ja) |
JP (1) | JP2019501425A (ja) |
KR (1) | KR101959510B1 (ja) |
CN (1) | CN108473791B (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3243884B1 (en) * | 2015-08-11 | 2020-10-28 | LG Chem, Ltd. | Radiation curable coating composition, low-refractive-index layer, and antireflective film |
KR101813707B1 (ko) * | 2015-11-04 | 2017-12-29 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법 |
KR101889956B1 (ko) * | 2016-03-09 | 2018-08-20 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름 |
EP3251832B1 (en) * | 2016-03-09 | 2020-12-16 | LG Chem, Ltd. | Anti-reflection film |
KR102257923B1 (ko) | 2018-01-24 | 2021-05-27 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치 |
KR102267594B1 (ko) | 2018-01-24 | 2021-06-18 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치 |
CN109321012A (zh) * | 2018-10-15 | 2019-02-12 | 湖北三江航天江北机械工程有限公司 | 陶瓷天线罩防潮用有机-无机涂层及其制备方法 |
KR102337211B1 (ko) * | 2019-03-12 | 2021-12-09 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치 |
CN111004506B (zh) * | 2019-12-23 | 2023-03-10 | 哈尔滨工业大学 | 一种具有抗紫外辐照特性的改性氰酸酯树脂制备方法 |
KR102621489B1 (ko) * | 2021-02-26 | 2024-01-09 | 율촌화학 주식회사 | 저반사 코팅층을 포함하는 저반사 필름 및 그 제조 방법 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009042351A (ja) * | 2007-08-07 | 2009-02-26 | Konica Minolta Opto Inc | 光学フィルム、偏光板及び表示装置 |
JP2015014735A (ja) * | 2013-07-05 | 2015-01-22 | 大日本印刷株式会社 | 防眩フィルム、偏光板、液晶パネル、および画像表示装置 |
KR20160002407A (ko) * | 2014-06-30 | 2016-01-07 | 삼성전자주식회사 | 저굴절률층을 갖는 광학 부재 |
KR20160019367A (ko) * | 2014-08-11 | 2016-02-19 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004255635A (ja) | 2003-02-25 | 2004-09-16 | Dainippon Printing Co Ltd | 透明積層フィルム、反射防止フィルム及びそれを用いた偏光板、液晶表示装置 |
JP2006047504A (ja) | 2004-08-02 | 2006-02-16 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止積層体 |
JP2007025078A (ja) * | 2005-07-13 | 2007-02-01 | Asahi Kasei Corp | 反射防止積層体 |
JP4924425B2 (ja) | 2005-07-19 | 2012-04-25 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 硬化性組成物、硬化膜及び積層体 |
JP5081479B2 (ja) | 2006-03-29 | 2012-11-28 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止積層体、偏光板、及び画像表示装置 |
US8163357B2 (en) | 2009-03-26 | 2012-04-24 | Signet Armorlite, Inc. | Scratch-resistant coatings with improved adhesion to inorganic thin film coatings |
TWI435922B (zh) | 2010-07-08 | 2014-05-01 | Lg Chemical Ltd | 抗反射膜及其製造方法 |
JP5810504B2 (ja) | 2010-10-18 | 2015-11-11 | Jnc株式会社 | 積層体およびその製造方法 |
KR101411023B1 (ko) * | 2012-04-19 | 2014-06-23 | 제일모직주식회사 | 윈도우 시트 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 |
CN104105598B (zh) | 2012-01-27 | 2017-04-26 | 三星Sdi株式会社 | 用于视窗片的层压板、包括它的视窗片和包括它的显示设备 |
WO2014092391A1 (ko) | 2012-12-13 | 2014-06-19 | 동우화인켐 주식회사 | 강화유리 대체용 하드코팅필름 |
KR102118904B1 (ko) * | 2013-05-23 | 2020-06-04 | 에스케이이노베이션 주식회사 | 반사방지용 코팅조성물 및 이를 이용한 광학 필름 |
JP6153093B2 (ja) | 2013-09-03 | 2017-06-28 | 株式会社豊田中央研究所 | 反射防止膜及びその製造方法 |
EP3243884B1 (en) * | 2015-08-11 | 2020-10-28 | LG Chem, Ltd. | Radiation curable coating composition, low-refractive-index layer, and antireflective film |
KR101807208B1 (ko) * | 2015-08-18 | 2017-12-08 | 주식회사 엘지화학 | 저굴절층 및 이를 포함하는 반사 방지 필름 |
KR101610871B1 (ko) | 2015-09-07 | 2016-04-20 | 주식회사 엘지화학 | 유기 발광 다이오드 디스플레이 |
KR102018287B1 (ko) * | 2015-09-11 | 2019-09-05 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름 및 디스플레이 장치 |
-
2017
- 2017-03-02 KR KR1020170027321A patent/KR101959510B1/ko active IP Right Grant
- 2017-03-03 JP JP2018548637A patent/JP2019501425A/ja not_active Withdrawn
- 2017-03-03 CN CN201780005502.5A patent/CN108473791B/zh active Active
- 2017-03-03 US US16/067,857 patent/US10768342B2/en active Active
- 2017-03-03 EP EP17760342.0A patent/EP3378902B1/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009042351A (ja) * | 2007-08-07 | 2009-02-26 | Konica Minolta Opto Inc | 光学フィルム、偏光板及び表示装置 |
JP2015014735A (ja) * | 2013-07-05 | 2015-01-22 | 大日本印刷株式会社 | 防眩フィルム、偏光板、液晶パネル、および画像表示装置 |
KR20160002407A (ko) * | 2014-06-30 | 2016-01-07 | 삼성전자주식회사 | 저굴절률층을 갖는 광학 부재 |
KR20160019367A (ko) * | 2014-08-11 | 2016-02-19 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10768342B2 (en) | 2020-09-08 |
CN108473791B (zh) | 2021-05-14 |
CN108473791A (zh) | 2018-08-31 |
KR20170103685A (ko) | 2017-09-13 |
US20190011602A1 (en) | 2019-01-10 |
EP3378902A4 (en) | 2019-01-09 |
KR101959510B1 (ko) | 2019-03-18 |
EP3378902B1 (en) | 2021-05-05 |
EP3378902A1 (en) | 2018-09-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6607510B2 (ja) | 光硬化性コーティング組成物、低屈折層および反射防止フィルム | |
JP6476347B2 (ja) | 反射防止フィルム | |
JP6789593B2 (ja) | 反射防止フィルム | |
CN108473791B (zh) | 抗反射膜 | |
JP6732015B2 (ja) | 反射防止フィルム | |
JP2018525667A (ja) | 反射防止フィルム | |
JP6727574B2 (ja) | 光硬化性コーティング組成物、低屈折層および反射防止フィルム | |
CN112219142B (zh) | 抗反射膜、偏光板和显示装置 | |
JP2019508753A (ja) | 反射防止フィルム | |
EP3809166B1 (en) | Anti-reflective film, polarizing plate, and display device | |
WO2017150938A1 (ko) | 반사 방지 필름 | |
KR102363875B1 (ko) | 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180606 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190412 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190507 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190726 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20200106 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20200430 |