JP2019208042A - Control method of backup unit and substrate processing apparatus - Google Patents

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Abstract

To avoid impact when lifting a substrate, while suppressing reduction of productivity.SOLUTION: When lifting a substrate P from a substrate stop position to a substrate processing position by means of a backup device 200, the substrate P is lifted by increasing the speed of a carrier member to an initial speed V1 set previously to the high speed side, in a separation section (H0-H1) until the carrier members (carrier members (203, 204)) of the backup device 200 abut against the lower surface of the substrate P. In a delivery section (H1-H2) from a moment in time when the carrier members come into contact with the substrate P until the substrate P separates upward of a conveyor 103, the substrate P is lifted by decreasing the speed of a delivery speed V1 carrier member previously set to the low speed side. In a section (H2-H3) where the carrier member lifts the substrate P over a delivery section T2, the substrate P is lifted by increasing the speed of the carrier member to a lift speed V2 set farther high speed side than the delivery speed V1.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、バックアップ装置の制御方法及び基板処理装置に関する。   The present invention relates to a backup device control method and a substrate processing apparatus.

生産ラインに基板を搬送し、当該生産ラインの搬送コンベアに設定される基板停止位置ごとに基板をリフトし(持ち上げ)て、基板停止位置の上方に設定された基板処理位置で所定の処理を実行する際、基板支持装置が用いられる。例えば、特許文献1に採用されている基板支持装置は、基板停止位置の下方に間隔を隔てて臨む高さと基板処理位置に基板をリフトする高さとの間で昇降可能な担持部材(バックアップピンやバックアッププレート等で構成されるユニットを単一の部材として総称したもの)を含むバックアップ装置を有する。バックアップ装置は、担持部材を所定速度で上昇し、基板停止位置の上方に設定される基板処理位置に基板を支持する。   The substrate is transported to the production line, the substrate is lifted (lifted) at each substrate stop position set on the transport conveyor of the production line, and predetermined processing is executed at the substrate processing position set above the substrate stop position. In doing so, a substrate support device is used. For example, the substrate support apparatus adopted in Patent Document 1 is a supporting member (such as a backup pin or the like) that can be moved up and down between a height that faces the substrate stop position at a distance and a height that lifts the substrate to the substrate processing position. A backup device including a unit composed of a backup plate or the like as a single member). The backup device raises the support member at a predetermined speed and supports the substrate at a substrate processing position set above the substrate stop position.

特許第4950530号公報Japanese Patent No. 4950530

基板には、フレキシブル基板等、比較的薄く、反りが生じやすいものも少なくない。そのような基板をバックアップ装置でリフトする際に、バックアップ装置の担持部材を基板に衝合させると、衝合時の衝撃で基板上に実装されている部品に悪影響を与える恐れがある。特に、ウエハからダイシングされたベアチップ(半導体チップ)が実装されている基板の場合、ベアチップのバンプが相当小さく(例えば、30μm〜50μm)、フラックスを塗布して止めていても、僅かな振動や衝撃で位置ずれ等を来す恐れがある。そのため、従来のバックアップ装置で基板をリフトした場合には、担持部材が基板に当接したときの衝撃等によってベアチップに悪影響を与えるおそれがあった。   Many of the substrates are relatively thin and easily warped, such as a flexible substrate. When such a substrate is lifted by the backup device, if the support member of the backup device is brought into contact with the substrate, there is a possibility that the components mounted on the substrate are adversely affected by the impact at the time of the contact. In particular, in the case of a substrate on which a bare chip (semiconductor chip) diced from a wafer is mounted, the bump of the bare chip is considerably small (for example, 30 μm to 50 μm), and even if a flux is applied and stopped, slight vibration or impact There is a risk of misalignment. Therefore, when the substrate is lifted by the conventional backup device, there is a possibility that the bare chip may be adversely affected by an impact or the like when the carrying member comes into contact with the substrate.

一方、衝撃を回避するためにバックアップ装置が基板をリフトする速度を下げれば、衝撃そのものは回避できるものの、タクトが長くなり、生産性が低下するおそれがあった。   On the other hand, if the speed at which the backup device lifts the substrate to reduce the impact is lowered, the impact itself can be avoided, but the tact time becomes longer and the productivity may be lowered.

本発明は、上述した課題に鑑みてなされたものであり、生産性の低減を抑制しつつ基板下降時の衝撃を回避することのできるバックアップ装置の制御方法及び基板処理装置を提供することを課題としている。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and it is an object of the present invention to provide a control method for a backup apparatus and a substrate processing apparatus capable of avoiding an impact when the substrate is lowered while suppressing a reduction in productivity. It is said.

本発明の一局面に係るバックアップ装置の制御方法は、基板を搬送する搬送コンベアの搬送経路上に設定される基板停止位置と前記基板停止位置の上方に設定された基板処理位置との間で当該基板を昇降可能な担持部材を含むバックアップ装置を用いて、前記基板処理位置にある前記基板を前記基板停止位置に降下させて当該搬送コンベアに受け渡す際のバックアップ装置の制御方法において、前記基板処理位置にある基板を担持している前記担持部材が降下し始めてから当該担持部材が担持している基板が前記搬送コンベアに着地する前までの初期降下区間では、高速側の降下速度まで前記担持部材が降下する速度を上げて当該基板を降下させるステップと、降下している基板が前記搬送コンベアに着地し始めてから前記担持部材が基板から離れるまでの受渡区間では、低速側の受渡速度に前記担持部材が降下する速度を下げて当該担持部材を降下させるステップと、降下している基板が前記搬送コンベアに着地し終えた後の離反区間では、高速側の復帰速度に前記担持部材が降下する速度を上げて当該担持部材を降下させるステップとを備えていることを特徴とする。   A control method for a backup device according to an aspect of the present invention includes a substrate stop position set on a transfer path of a transfer conveyor for transferring a substrate and a substrate processing position set above the substrate stop position. In the control method of a backup device when lowering the substrate at the substrate processing position to the substrate stop position and delivering it to the transfer conveyor using a backup device including a support member capable of moving the substrate up and down, the substrate processing In the initial descending section from when the carrying member carrying the substrate in position starts to descend until the substrate carried by the carrying member lands on the transfer conveyor, the carrying member reaches the lowering speed on the high speed side. The step of lowering the substrate by raising the speed at which the carrier descends, and whether the supporting member is a substrate after the descending substrate starts to land on the conveyor. In the delivery section until leaving, the step of lowering the speed at which the carrier member descends to the delivery speed on the low speed side and lowering the carrier member, and the separation section after the lowered substrate has landed on the conveyor Then, the step of raising the speed at which the carrying member descends to the return speed on the high speed side and lowering the carrying member is provided.

本発明の他の局面に係る基板処理装置は、基板を搬送する搬送経路に沿って基板を搬送する搬送コンベアと、前記搬送コンベアに設定される基板停止位置と前記基板停止位置の上方に設定された基板処理位置との間で当該基板を昇降可能な担持部材を含むバックアップ装置と、前記バックアップ装置を制御する制御装置であって、前記基板処理位置にある前記基板を前記基板停止位置に降下させて当該搬送コンベアに受け渡す際において、前記基板処理位置にある基板を担持している前記担持部材が降下し始めてから当該担持部材が担持している基板が前記搬送コンベアに着地する前までの初期降下区間では、高速側の降下速度まで前記担持部材が降下する速度を上げて当該基板を降下させ、降下している基板が前記搬送コンベアに着地し始めてから前記担持部材が基板から離れるまでの受渡区間では、低速側の受渡速度に前記担持部材が降下する速度を下げて当該担持部材を降下させ、降下している基板が前記搬送コンベアに着地し終えた後の離反区間では、高速側の復帰速度に前記担持部材が降下する速度を上げて当該担持部材を降下させるように前記バックアップ装置を制御する前記制御装置とを備えていることを特徴とする。   The substrate processing apparatus which concerns on the other situation of this invention is set above the conveyance conveyor which conveys a board | substrate along the conveyance path which conveys a board | substrate, the substrate stop position set to the said conveyance conveyor, and the said substrate stop position. A backup device including a supporting member capable of raising and lowering the substrate between the substrate processing position and a control device for controlling the backup device, wherein the substrate at the substrate processing position is lowered to the substrate stop position. When the substrate carrying the substrate at the substrate processing position begins to descend and before the substrate carried by the carrier member lands on the conveyor. In the descending section, the speed at which the supporting member descends is increased to the descending speed on the high speed side to lower the substrate, and the descending substrate starts to land on the transfer conveyor. In the delivery section until the carrier member is separated from the substrate, the carrier member is lowered by lowering the speed at which the carrier member descends to a low-speed delivery speed, and the lowered substrate is landed on the conveyor. The separation section after finishing comprises the control device for controlling the backup device so as to lower the carrying member by raising the speed at which the carrying member descends to the return speed on the high speed side. To do.

これらの態様では、基板処理位置から基板停止位置に基板を降下させる際に、基板が搬送コンベアと当接しない区間では、担持部材を可及的に高速で駆動して、処理時間の短縮を図ることができるとともに、基板が搬送コンベアに着地し、担持部材から搬送コンベアに基板を受け渡すときには、速度を低減して基板への衝撃を回避することが可能となる。よって、これらの態様においても、基板への衝撃を回避しつつ、可及的速やかに基板を基板処理位置に上昇することができる。   In these aspects, when the substrate is lowered from the substrate processing position to the substrate stop position, the supporting member is driven as fast as possible in a section where the substrate does not contact the transfer conveyor to shorten the processing time. In addition, when the substrate lands on the conveyor and passes the substrate from the carrying member to the conveyor, it is possible to reduce the speed and avoid the impact on the substrate. Therefore, also in these aspects, the substrate can be raised to the substrate processing position as quickly as possible while avoiding an impact on the substrate.

以上説明したように、本発明によれば、担持部材による基板の下降時において、基板への衝撃を回避しつつ、可及的速やかに基板を昇降することができる結果、生産性の低減を抑制しつつ基板下降時の衝撃を回避することができるという顕著な効果を奏する。   As described above, according to the present invention, when the substrate is lowered by the support member, the substrate can be moved up and down as quickly as possible while avoiding an impact on the substrate, thereby suppressing a reduction in productivity. However, a significant effect is achieved that the impact when the substrate is lowered can be avoided.

本発明のさらなる特徴、目的、構成、並びに作用効果は、添付図面と併せて読むべき以下の詳細な説明から容易に理解できるであろう。   Further features, objects, configurations, and advantages of the present invention will be readily understood from the following detailed description that should be read in conjunction with the accompanying drawings.

本発明の実施の一形態における基板支持装置を含む部品実装装置の平面略図である。1 is a schematic plan view of a component mounting apparatus including a board support device according to an embodiment of the present invention. 図1の基板支持装置の概略構成を示す正面略図である。FIG. 2 is a schematic front view showing a schematic configuration of the substrate support apparatus of FIG. 1. 図1の基板支持装置による基板リフト動作を示す説明図であり、(A)は、基板支持装置のバックアップピン(担持部材の要素例)が初期高さにあるとき、(B)は、同バックアップピンが離反高さにあるとき、(C)は、同バックアップピンが受渡高さにあるとき、(D)は、同バックアップピンがロック開始高さにあるとき、(E)は、同バックアップピンがロック終了高さにあるときを示し、(F)は、(A)〜(E)に対応する移動高さと距離(区間)の関係を示すグラフである。FIG. 2 is an explanatory diagram showing a substrate lift operation by the substrate support apparatus of FIG. 1, wherein (A) shows a backup pin (an example of an element of a supporting member) of the substrate support apparatus at an initial height, and (B) shows the backup operation. When the pin is at the separation height, (C) is when the backup pin is at the delivery height, (D) is when the backup pin is at the lock start height, and (E) is when the backup pin is at the transfer height. (F) is a graph showing the relationship between the movement height and distance (section) corresponding to (A) to (E). 図1の基板支持装置による基板降下動作を示す説明図であり、(A)は、基板支持装置のバックアップピン(担持部材の要素例)がロック終了高さにあるときを示し、(B)は、同バックアップピンがロック開始高さにあるとき、(C)は、同バックアップピンが離反高さにあるとき、(D)は、同バックアップピンが受渡高さにあるとき、(E)は、同バックアップピンが初期高さにあるとき、(F)は、(A)〜(E)に対応する移動高さと距離(区間)の関係を示すグラフである。It is explanatory drawing which shows the board | substrate lowering operation | movement by the board | substrate support apparatus of FIG. 1, (A) shows when the backup pin (element example of a supporting member) of a board | substrate support apparatus exists in lock end height, (B) is When the backup pin is at the lock start height, (C) is when the backup pin is at the separation height, (D) is when the backup pin is at the delivery height, (E) is When the backup pin is at the initial height, (F) is a graph showing the relationship between the movement height and the distance (section) corresponding to (A) to (E).

以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態について説明する。   The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

本実施形態に係る部品実装装置Mは、ダイシングされたウエハWからベアチップCを取り出してプリント配線板(PWB;Printed Wiring Board)等の基板P上に実装(搭載)するとともに、電子部品等を基板P上に実装することが可能ないわゆる複合型の基板処理装置である。なお、基板処理装置としては、部品実装装置に限らず、プリント基板Pにはんだペーストを塗布するスクリーン印刷装置や、実装後の基板の上面を撮像して検査する検査装置が例示される。   The component mounting apparatus M according to the present embodiment takes out the bare chip C from the diced wafer W and mounts (mounts) it on a substrate P such as a printed wiring board (PWB), and also mounts electronic components on the substrate. This is a so-called composite substrate processing apparatus that can be mounted on P. The substrate processing apparatus is not limited to the component mounting apparatus, and examples include a screen printing apparatus that applies a solder paste to the printed board P and an inspection apparatus that images and inspects the upper surface of the mounted board.

また、図示の例では、基板Pは、比較的剛性のあるプリント基板であるが、プリント基板Pの他、薄く形状が可変の(可撓性のある)フレキシブル基板や、プリント基板とフレキシブル基板とからなるリジッドフレキシブル基板であってもよい。   In the illustrated example, the board P is a relatively rigid printed board. However, in addition to the printed board P, a flexible board having a thin and variable shape (flexible), a printed board and a flexible board, A rigid flexible substrate may be used.

以下の説明では、方向を明確にするため、部品実装装置Mが加工する基板Pを搬送する水平方向をX軸方向とし、X軸方向と直交する水平方向をY軸方向とし、垂直方向をZ軸方向とするXYZ直角座標系を用いることとする。また、Y軸方向の一方(図1の下側に対応する方向)を仮に前方とする。   In the following description, in order to clarify the direction, the horizontal direction for transporting the substrate P processed by the component mounting apparatus M is defined as the X-axis direction, the horizontal direction orthogonal to the X-axis direction is defined as the Y-axis direction, and the vertical direction is defined as Z. An XYZ rectangular coordinate system for the axial direction is used. One of the Y-axis directions (the direction corresponding to the lower side in FIG. 1) is assumed to be the front.

図1を参照して、部品実装装置Mは、Y軸方向に長く延びる平面視略長方形の基台1を有し、この基台1の幅方向(X軸方向)に沿って延びる搬送コンベア2を有している。搬送コンベア2は、X軸方向(基板搬送経路PH)に沿って基板Pを搬送する装置である。   With reference to FIG. 1, the component mounting apparatus M includes a base 1 having a substantially rectangular shape in plan view that extends long in the Y-axis direction, and a conveyor 2 that extends along the width direction (X-axis direction) of the base 1. have. The transport conveyor 2 is a device that transports the substrate P along the X-axis direction (substrate transport path PH).

搬送コンベア2には、基板Pを一次停止し、ベアチップCや電子部品の実装を実行するために、搬送方向に間隔を隔てて二つの実装作業位置S1、S2が設定されている。これらの実装作業位置S1、S2に対応し、搬送コンベア2は、複数のコンベアユニット21〜23で具体化されている。各コンベアユニット21〜23は、基板搬送経路PH上において、二つの実装作業位置S1、S2に対応して分断されており、コンベアユニット21とコンベアユニット22との間、及びコンベアユニット22とコンベアユニット23との間には、詳しくは後述する基板支持装置100がそれぞれ連設している。各コンベアユニット21〜23は、モータ3(搬送経路PHの下流端のコンベアユニット23のもののみを図示)や図略のセンサを備えた構成になっており、上流側のコンベアユニット(21、22)から基板Pを受け渡されて基板Pを対応する実装作業位置(S1、S2)の基板停止位置に停止するとともに、加工後の基板Pを下流側のコンベアユニット(22、23)に受け渡す機能を有する。モータ3は、ベルトコンベアを双方向に駆動することができ、図1の右から左にも左から右にも基板Pを搬送し得る。本実施形態では、基板Pが左から右に搬送されるものとする。なお、基板支持装置100は、上流側のコンベアユニット(21又は22)から基板Pを受け渡されて基板Pを対応する実装作業位置(S1又はS2)の基板停止位置に停止し、この基板停止位置の上方に設定される基板処理位置に基板Pを浮揚して当該基板処理位置にて部品の実装作業に基板Pを供する。基板Pの実装作業後においては、基板支持装置100は、基板処理位置から基板停止位置に基板Pを戻すとともに、加工後の基板Pを下流側のコンベアユニット(22、23)に受け渡す機能を有する。この基板支持装置100の詳細については後述する。   Two mounting work positions S1 and S2 are set on the transport conveyor 2 at intervals in the transport direction in order to temporarily stop the substrate P and execute mounting of the bare chip C and electronic components. Corresponding to these mounting work positions S1 and S2, the transport conveyor 2 is embodied by a plurality of conveyor units 21 to 23. Each conveyor unit 21-23 is divided | segmented corresponding to two mounting operation position S1, S2 on the board | substrate conveyance path | route PH, between the conveyor unit 21 and the conveyor unit 22, and the conveyor unit 22 and the conveyor unit. A substrate support device 100, which will be described in detail later, is connected to the network 23. Each of the conveyor units 21 to 23 has a configuration including a motor 3 (only the conveyor unit 23 at the downstream end of the transport path PH is illustrated) and a sensor (not shown), and upstream conveyor units (21, 22). ) And the substrate P is stopped at the substrate stop position of the corresponding mounting work position (S1, S2), and the processed substrate P is transferred to the downstream conveyor unit (22, 23). It has a function. The motor 3 can drive the belt conveyor in both directions, and can carry the substrate P from right to left and left to right in FIG. In the present embodiment, it is assumed that the substrate P is transported from left to right. The board support device 100 receives the board P from the upstream conveyor unit (21 or 22), stops the board P at the board stop position at the corresponding mounting work position (S1 or S2), and stops the board. The board P is levitated to the board processing position set above the position, and the board P is used for component mounting work at the board processing position. After the mounting operation of the substrate P, the substrate support device 100 has a function of returning the substrate P from the substrate processing position to the substrate stop position and delivering the processed substrate P to the downstream conveyor units (22, 23). Have. Details of the substrate support apparatus 100 will be described later.

基台1の上には、搬送コンベア2の前方に配置されたウエハ収納装置10と、搬送コンベア2の後方に配置され、ウエハ収納装置10からウエハWを受け取って支持するウエハ支持装置11と、ウエハ支持装置11のウエハヘッド12からベアチップCを受け取る吸着ノズル14を有する部品実装ユニット13と、吸着ノズル14が受け取ったベアチップCのバンプ形成面を撮像する固定カメラ15と、撮像後のベアチップCのバンプ形成面にフラックスを塗布するフラックス塗布装置16と、ベアチップCの実装後に実装される電子部品を供給する電子部品供給装置17とを備えている。   On the base 1, a wafer storage device 10 disposed in front of the transport conveyor 2, a wafer support device 11 disposed at the rear of the transport conveyor 2 and receiving and supporting the wafer W from the wafer storage device 10, The component mounting unit 13 having the suction nozzle 14 that receives the bare chip C from the wafer head 12 of the wafer support device 11, the fixed camera 15 that images the bump formation surface of the bare chip C received by the suction nozzle 14, and the bare chip C after imaging. A flux application device 16 that applies a flux to the bump forming surface and an electronic component supply device 17 that supplies an electronic component to be mounted after the bare chip C is mounted are provided.

これら各部の制御は、制御装置40によって制御される。制御装置40は、CPUや各種メモリ、HDD等を備えている。この制御装置40には、図外の入力装置が電気的に接続されており、オペレータによる各種情報がこの入力装置の操作に基づき入力される。また、制御装置40には、モータ3等の各種駆動モータに内蔵される図外のエンコーダ等の位置検出手段からの出力信号も入力される。さらに制御装置40には、搬送コンベア2のモータ3を含む各種駆動モータ、固定カメラ15等がそれぞれ電気的に接続されている。よって、制御装置40は、搬送コンベア2をはじめとする各機構の動作を統括的に制御することができる。なお、制御装置40には、設定手段としての設定部41が機能的に設けられており、この設定部41によって、制御装置40は、第1の実装作業位置S1及び第2の実装作業位置S2の一方から他方に基板Pの搬送方向を設定するように構成されている。具体的には、モータ3の回転方向が右回り又は左回りに択一的に設定され、関連する部位の上流側及び下流側の関係が逆に変更され、前後方向の関係が同一となるように設定される。   Control of these units is controlled by the control device 40. The control device 40 includes a CPU, various memories, an HDD, and the like. An input device (not shown) is electrically connected to the control device 40, and various information by the operator is input based on the operation of the input device. The control device 40 also receives an output signal from position detection means such as an encoder (not shown) built in various drive motors such as the motor 3. Furthermore, various drive motors including the motor 3 of the conveyor 2, the fixed camera 15, and the like are electrically connected to the control device 40. Therefore, the control device 40 can comprehensively control the operation of each mechanism including the transport conveyor 2. The control device 40 is functionally provided with a setting unit 41 as setting means, and the setting unit 41 allows the control device 40 to perform the first mounting work position S1 and the second mounting work position S2. The transport direction of the substrate P is set from one to the other. Specifically, the rotation direction of the motor 3 is alternatively set to be clockwise or counterclockwise, and the relationship between the upstream side and the downstream side of the related part is changed in reverse, so that the relationship in the front-rear direction is the same. Set to

制御装置40の制御により、ウエハWのベアチップCを基板Pに実装する場合、又は電子部品供給装置17(図1参照)の供給部品を実装する場合、部品実装装置Mは、各実装作業位置S1、S2に設置された基板支持装置100上で所定の実装作業(処理の一例)を実行する。なお、上述した各機構のさらに詳細な構成等については、例えば本件出願人が先に提案した出願(例えば特開2014−203916号公報)に詳細に記載されているので、その詳細については省略する。   When the bare chip C of the wafer W is mounted on the substrate P by the control of the control device 40, or when the supply component of the electronic component supply device 17 (see FIG. 1) is mounted, the component mounting device M has each mounting work position S1. , A predetermined mounting operation (an example of processing) is performed on the substrate support apparatus 100 installed in S2. In addition, since it is described in detail in the application (for example, Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-203916) previously proposed by this applicant about the further detailed structure of each mechanism mentioned above, it abbreviate | omits about the detail. .

また、ベアチップCの実装動作や電子部品の実装動作において、制御装置40は、基板支持装置100も併せて制御する。   Further, in the mounting operation of the bare chip C and the mounting operation of the electronic component, the control device 40 also controls the substrate support device 100.

次に、基板支持装置100について説明する。第1の実装作業位置S1に設置される基板支持装置100と、第2の実装作業位置S2に設置される基板支持装置100は、何れも同一仕様の装置であるので、ここで、一方についてのみ説明する。   Next, the substrate support apparatus 100 will be described. The substrate support device 100 installed at the first mounting operation position S1 and the substrate support device 100 installed at the second mounting operation position S2 are both devices having the same specifications, and therefore only one of them is here. explain.

図2を参照して、基板支持装置100は、基台1の上に載置されるベース板101と、ベース板101に立設されて対をなし、互いにY軸方向に対向して搬送コンベア2の一部を構成するコンベアユニット102と、コンベアユニット102の内側に固定される搬送コンベア103と、コンベアユニット102の上部に配置され、搬送コンベア103の上方に臨むロック片104と、コンベアユニット102の間に配置され、搬送コンベア103に搬送される基板Pに対し、下方から臨むバックアップ装置200とを備えている。   Referring to FIG. 2, a substrate support apparatus 100 includes a base plate 101 placed on a base 1 and a pair of standing and standing on the base plate 101 and facing each other in the Y-axis direction. 2, a conveyor unit 102 that is fixed inside the conveyor unit 102, a lock piece 104 that is disposed above the conveyor unit 102 and faces above the conveyor 103, and the conveyor unit 102 And a backup device 200 that faces the substrate P conveyed to the conveyor 103 from below.

ベース板101はX軸方向に長い平面視長方形状をなしている。   The base plate 101 has a rectangular shape in plan view that is long in the X-axis direction.

コンベアユニット102は、Y軸方向の両側にそれぞれ縦向きに配置される一対のユニット片111、112によって構成され、搬送経路PHに沿って搬送コンベア2の一部を構成している。   The conveyor unit 102 includes a pair of unit pieces 111 and 112 that are vertically disposed on both sides in the Y-axis direction, and constitutes a part of the transport conveyor 2 along the transport path PH.

搬送コンベア103は、対応するユニット片111、112ごとに設けられ、その内壁側上部寄りに取り付けられている。各搬送コンベア103は、図略のプーリや、同プーリによってコンベアユニット102のX軸方向に周回する無端ベルトで具体化されている。これら左右の搬送コンベア103は基板Pの基板幅方向の両側で当該基板Pの縁部下面を支え、図2に示す基板停止位置(図3、図4の高さH2参照)にて基板Pを水平な姿勢に支える機能を担っている。   The conveyor 103 is provided for each of the corresponding unit pieces 111 and 112, and is attached closer to the upper part on the inner wall side. Each conveyor 103 is embodied by an unillustrated pulley or an endless belt that circulates in the X-axis direction of the conveyor unit 102 by the pulley. These left and right transport conveyors 103 support the lower surface of the edge of the substrate P on both sides of the substrate P in the substrate width direction, and the substrate P is placed at the substrate stop position shown in FIG. 2 (see height H2 in FIGS. 3 and 4). It is responsible for supporting the horizontal posture.

コンベアユニット102に設けられた各ロック片104は、対応するコンベアユニット102の上方に取り付けられ、一部を当該コンベアユニット102の内壁側に突出させて、その下面を搬送コンベア103の上面に臨ませている。   Each lock piece 104 provided on the conveyor unit 102 is attached above the corresponding conveyor unit 102, and a part of the lock piece 104 protrudes toward the inner wall side of the conveyor unit 102, and its lower surface faces the upper surface of the conveyor 103. ing.

次に、バックアップ装置200について説明する。   Next, the backup device 200 will be described.

バックアップ装置200は、ベース板101に設置されている。具体的には、バックアップ装置200は、ベース板101の中央に固定される昇降装置201と、この昇降装置201の上面から昇降する昇降軸202と、昇降軸202の上部に設けられたバックアッププレート203と、バックアッププレート203の上面に立設された複数のバックアップピン204とを備えている。   The backup device 200 is installed on the base plate 101. Specifically, the backup device 200 includes an elevating device 201 fixed at the center of the base plate 101, an elevating shaft 202 that elevates and lowers from the upper surface of the elevating device 201, and a backup plate 203 provided above the elevating shaft 202. And a plurality of backup pins 204 erected on the upper surface of the backup plate 203.

昇降装置201は、モータ210と、モータ210のエンコーダ211と、モータ210の回転力をZ軸方向の平行運動に変換して昇降軸202に伝達する図略の動力伝達機構とを有しており、モータ210をいずれかの駆動方向に駆動することによって、択一的に昇降軸202を上昇させ、下降させることができるように構成されている。   The lifting device 201 includes a motor 210, an encoder 211 of the motor 210, and a power transmission mechanism (not shown) that converts the rotational force of the motor 210 into parallel motion in the Z-axis direction and transmits the parallel motion to the lifting shaft 202. The elevating shaft 202 can be alternatively raised and lowered by driving the motor 210 in any driving direction.

バックアッププレート203は、マトリックス状に配置されたピン装着孔を上面に有する板状の構造体であり、昇降軸202と一体的に昇降する。   The backup plate 203 is a plate-like structure having pin mounting holes arranged in a matrix on the upper surface, and moves up and down integrally with the lifting shaft 202.

バックアップピン204は、バックアッププレート203のピン装着孔に選択的に植設され、Z軸に沿って同一高さで突出している。   The backup pins 204 are selectively implanted in the pin mounting holes of the backup plate 203 and protrude at the same height along the Z axis.

これらバックアッププレート203やバックアップピン204は、基板停止位置の下方に間隔を隔てて基板Pに臨む初期高さH0と基板処理位置に基板をリフトするロック終了高さH4との間で昇降可能な担持部材を構成する。   The backup plate 203 and the backup pin 204 are supported so that they can be moved up and down between an initial height H0 facing the substrate P with a space below the substrate stop position and a lock end height H4 for lifting the substrate to the substrate processing position. Configure the member.

これらの構成により、バックアップ装置200は、搬送コンベア2に設定される基板停止位置に停止する基板Pに対し、間隔を隔てて下方から臨む初期高さH0と、基板停止位置の上方に設定された基板処理位置に基板Pをリフトするリフト高さH4との間で昇降する。   With these configurations, the backup device 200 is set above the substrate stop position and the initial height H0 that faces the substrate P that stops at the substrate stop position set on the transport conveyor 2 with a gap therebetween. It moves up and down between the lift height H4 for lifting the substrate P to the substrate processing position.

ところで、基板Pとして、フレキシブル基板やリジッドフレキシブル基板を採用した場合、基板Pには下反りが生じて、途中部が下方に湾曲していることがしばしば生じる。また、そのような下反りは、ベアチップCを搭載した後においては、より生じやすくなる。かかる場合においても、基板Pや基板Pに搭載されたベアチップCに悪影響を及ぼさないようにするため、本実施形態においては、制御上、初期高さH0からロック終了高さH4までの間に、離反高さH1、受渡高さH2、ロック開始高さH3が設定される。   By the way, when a flexible substrate or a rigid flexible substrate is adopted as the substrate P, the substrate P is often warped and the middle portion is often bent downward. Further, such downward warping is more likely to occur after the bare chip C is mounted. Even in such a case, in order to prevent adverse effects on the substrate P and the bare chip C mounted on the substrate P, in the present embodiment, in the control, between the initial height H0 and the lock end height H4, A separation height H1, a delivery height H2, and a lock start height H3 are set.

次に、図2を参照して、初期高さH0、離反高さH1、受渡高さH2、ロック開始高さH3、ロック終了高さH4について説明する。   Next, the initial height H0, the separation height H1, the delivery height H2, the lock start height H3, and the lock end height H4 will be described with reference to FIG.

初期高さH0は、バックアップピン204が下限まで降下しているときの高さであり、バックアップピン204のホームポジションのときの高さである。バックアップピン204が初期高さH0にあるとき、各バックアップピン204の高さHは、図2に示すように、基板停止位置にある基板Pよりも下方から間隔を隔てて基板Pの下面に臨む高さに設定されている。   The initial height H0 is the height when the backup pin 204 is lowered to the lower limit, and is the height when the backup pin 204 is at the home position. When the backup pins 204 are at the initial height H0, the height H of each backup pin 204 faces the lower surface of the substrate P at a distance from below the substrate P at the substrate stop position, as shown in FIG. It is set to height.

離反高さH1は、バックアップピン204がZ軸方向に伸張する過程で、初期高さH0から当該基板Pの下面に接する前までの高さである。なお、バックアップピン204が初期高さH0と離反高さH1との間を移動する区間を以下の説明では、離反区間(H0−H1)という。   The separation height H <b> 1 is a height from the initial height H <b> 0 to before contacting the lower surface of the substrate P in the process in which the backup pin 204 extends in the Z-axis direction. Note that a section in which the backup pin 204 moves between the initial height H0 and the separation height H1 is referred to as a separation section (H0-H1) in the following description.

受渡高さH2は、バックアップピン204の上昇時においては、バックアップピン204が離反高さH1からさらに上昇することにより、基板停止位置にある基板Pが搬送コンベア2の一部であるコンベアユニット102の上方から離れるときまでの高さをいい、バックアップピン204の降下時においては、降下している基板Pがコンベアユニット102の上面に着座を開始し始める高さをいう。なお、バックアップピン204が離反高さH1と受渡高さH2との間で移動する区間を以下の説明では、受渡区間(H1−H2)という。   When the backup pin 204 is raised, the delivery height H2 is further increased from the separation height H1 so that the substrate P at the substrate stop position is part of the conveyor unit 102. This refers to the height until it leaves the upper side, and when the backup pin 204 is lowered, it refers to the height at which the lowered substrate P starts to be seated on the upper surface of the conveyor unit 102. The section in which the backup pin 204 moves between the separation height H1 and the delivery height H2 is referred to as a delivery section (H1-H2) in the following description.

ロック開始高さH3は、バックアップピン204の上昇時においては、受渡高さH2からリフトされた基板Pの一部がロック片104に当接し、ロック片104とバックアップピン204との間で基板Pの挟圧が開始される位置であり、バックアップピン204の降下時においては、ロック片104との間でロックされていた基板Pのロック解除が完了する位置をいう。以下の説明では、バックアップピン204が受渡高さH2とロック開始高さH3との間で移動する区間をリフト区間(H2−H3)という。   The lock start height H3 is such that when the backup pin 204 is raised, a part of the substrate P lifted from the delivery height H2 comes into contact with the lock piece 104, and the substrate P is between the lock piece 104 and the backup pin 204. Is a position where the unlocking of the substrate P locked with the lock piece 104 is completed when the backup pin 204 is lowered. In the following description, a section in which the backup pin 204 moves between the delivery height H2 and the lock start height H3 is referred to as a lift section (H2-H3).

ロック終了高さH4は、バックアップピン204の上昇時においては、ロック開始高さH3にリフトされた基板Pがバックアップピン204とロック片104との間でロックされる位置であり、バックアップピン204の降下時においては、ロックされている基板Pのロック解除が開始される位置である。以下の説明では、バックアップピン204がロック開始高さH3とロック終了高さH4との間で移動する区間をロック区間(H3−H4)という。   The lock end height H4 is a position where the substrate P lifted to the lock start height H3 is locked between the backup pin 204 and the lock piece 104 when the backup pin 204 is raised. At the time of lowering, it is a position where unlocking of the locked substrate P is started. In the following description, a section in which the backup pin 204 moves between the lock start height H3 and the lock end height H4 is referred to as a lock section (H3-H4).

なお、各バックアップピン204が何れの高さH0〜H4にあるかについて、初期高さH0、受渡高さH2については、モータ210のエンコーダ211の出力に基づいて、検出することができる。また、離反高さH1、ロック開始高さH3については、予め「基板の最大反り量」というパラメータを持たせることにより、演算することが可能となる。「基板の最大反り量」は、これまでの加工実績に基づいて、「これくらい反った基板Pが来るかも知れない」、という統計的・実験的データに基付いて導出されるパラメータである。このような「基板の最大反り量」パラメータや安全率に基づいて、離反高さH1、ロック開始高さH3を設定しておき、当該高さH1、H3のところで、モータ210が減速するように設定される。また、個々の基板Pの反り量や変形の態様は、様々であるので、予め、モータ201の駆動量に基づいて、基板Pにバックアップピン204が接触し始めると推定される位置とそれに対する安全率を設定しておき、該設定値に基づいて、所定のタイミングで各区間に対応するようにモータ201を制御してもよい。   Note that the height H0 to H4 of each backup pin 204 can be detected based on the output of the encoder 211 of the motor 210 with respect to the initial height H0 and the delivery height H2. Further, the separation height H1 and the lock start height H3 can be calculated by providing a parameter “maximum warpage amount of the substrate” in advance. The “maximum warpage amount of the substrate” is a parameter derived based on statistical and experimental data that “the substrate P warped so much may come” based on the past processing results. The separation height H1 and the lock start height H3 are set based on the “maximum warpage amount of the substrate” parameter and the safety factor, and the motor 210 is decelerated at the heights H1 and H3. Is set. Further, since the amount of warping and deformation of each substrate P are various, based on the drive amount of the motor 201, the position where the backup pin 204 starts to contact the substrate P in advance and the safety for it. A rate may be set, and the motor 201 may be controlled to correspond to each section at a predetermined timing based on the set value.

次に、制御装置40の制御により、基板Pを基板停止位置と基板処理位置との間で昇降する際の制御について説明する。   Next, control when the substrate P is moved up and down between the substrate stop position and the substrate processing position under the control of the control device 40 will be described.

図3(A)〜(F)を参照して、まず、基板Pを基板停止位置から基板処理位置にリフトする過程では、制御装置40は、初期高さH0にあるバックアップピン204の上昇を開始し、初動速度V0まで加速しながら離反高さH1まで移動させる。この初動速度V0は、比較的高速側(図示の例では10mm/秒)に設定される。すなわち、離反区間(H0−H1)においては、バックアップピン204は、基板Pと接触しておらず、移動速度に拘わらず、基板Pに影響を与えることはない。そのため、比較的高速でバックアップピン204を上昇させて、移動時間の短縮を図っているのである。   Referring to FIGS. 3A to 3F, first, in the process of lifting the substrate P from the substrate stop position to the substrate processing position, the control device 40 starts to raise the backup pin 204 at the initial height H0. Then, it is moved to the separation height H1 while accelerating to the initial speed V0. This initial motion speed V0 is set to a relatively high speed side (10 mm / second in the illustrated example). That is, in the separation section (H0-H1), the backup pin 204 is not in contact with the substrate P and does not affect the substrate P regardless of the moving speed. Therefore, the backup pin 204 is raised at a relatively high speed to shorten the movement time.

次に、制御装置40は、バックアップピン204が離反高さH1に到着する直前から減速し、比較的低速(図示の例では、2mm/秒)の受取速度V1に減速させた後、バックアップピン204が受渡区間(H1−H2)を通過するまで受渡速度を維持して基板Pの下面にバックアップピン204を当接させる。これにより、基板Pに反りが生じている場合においても、バックアップピン204は、ゆっくりと基板Pの下面を押し上げ、基板P上に実装されたベアチップCや電子部品に影響を与えることなく、基板Pのリフトを開始する。   Next, the control device 40 decelerates immediately before the backup pin 204 arrives at the separation height H1, decelerates to a receiving speed V1 of a relatively low speed (2 mm / sec in the illustrated example), and then the backup pin 204. The back-up pin 204 is brought into contact with the lower surface of the substrate P while maintaining the delivery speed until it passes through the delivery section (H1-H2). As a result, even when the substrate P is warped, the backup pin 204 slowly pushes up the lower surface of the substrate P, and does not affect the bare chip C and electronic components mounted on the substrate P. Start the lift.

次に、制御装置40は、バックアップピン204が受渡区間(H1−H2)を通過した後は、受取速度V1よりも速く初動速度V0よりも遅い中速度(図示の例では、6mm/秒)に設定されたリフト速度V2でバックアップピン204を上昇させる。リフト速度V2は、基板Pや基板Pに実装されるベアチップC又は電子部品の点数等に基づき、適宜設定されるものである。リフト速度V2を中速度に設定する必要は必ずしも必須ではないが、基板Pの種類によっては、好ましい速度である。   Next, after the backup pin 204 passes through the delivery section (H1-H2), the control device 40 has a medium speed (6 mm / second in the illustrated example) that is faster than the receiving speed V1 and slower than the initial movement speed V0. The backup pin 204 is raised at the set lift speed V2. The lift speed V2 is appropriately set based on the board P, the number of bare chips C or electronic components mounted on the board P, and the like. Although it is not always necessary to set the lift speed V2 to a medium speed, it is a preferable speed depending on the type of the substrate P.

すなわち、基板Pに作用する衝撃を回避するためだけであるならば、バックアップピン204が基板Pを持ち上げてからの速度は、速い方が好ましい。しかしながら、速度が高くなればなるほど、基板や基板に実装された部品に作用する慣性も高くなるため、基板Pを搬送する速度がベアチップC等の保持力に対し、相対的に速すぎる場合には、ベアチップC等に作用する慣性によって、基板P上の実装状態に悪影響を及ぼすことが懸念される場合がある。特に、基板に実装された部品の全質量に対して、基板の剛性が相対的に小さい場合には、そのような慣性によって基板に悪影響を与えるおそれがある。これに対して、本実施形態のように、基板Pを初動速度V0よりも低い速度で上昇すれば、慣性による悪影響をも回避することが可能となるのである。一方、この中速度は、受取速度V1よりも早く設定されているので、基板Pをリフトした後の搬送時間の短縮を図ることも可能となる。   That is, if it is only to avoid an impact acting on the substrate P, it is preferable that the speed after the backup pin 204 lifts the substrate P is higher. However, the higher the speed, the higher the inertia acting on the board and the components mounted on the board. Therefore, when the speed at which the board P is transported is too high relative to the holding force of the bare chip C or the like. In some cases, there is a concern that the mounting state on the substrate P may be adversely affected by inertia acting on the bare chip C or the like. In particular, when the rigidity of the board is relatively small with respect to the total mass of the components mounted on the board, such inertia can adversely affect the board. On the other hand, if the substrate P is raised at a speed lower than the initial movement speed V0 as in this embodiment, it is possible to avoid adverse effects due to inertia. On the other hand, since the intermediate speed is set faster than the receiving speed V1, it is possible to shorten the transport time after the substrate P is lifted.

次に、制御装置40は、バックアップピン204がリフト区間(H2−H3)に到着する直前から減速し、再び比較的低速のロック速度V3に減速させた後、バックアップピン204がロック終了高さH4に到達するまでバックアップピン204をロック区間(H3−H4)において上昇させる。これにより、基板Pに反りが生じている場合においても、バックアップピン204は、ゆっくりと基板Pの下面を押し上げ、基板P上に実装されたベアチップCや電子部品に影響を与えることなく、ロック片104との間で基板Pを基板処理位置にロックすることができる。図2で説明した実装作業は、基板Pが図3(E)に示す基板処理位置にロックされている状態で実施される。   Next, the control device 40 decelerates immediately before the backup pin 204 arrives at the lift section (H2-H3), decelerates again to the relatively low lock speed V3, and then the backup pin 204 has the lock end height H4. The backup pin 204 is raised in the lock section (H3-H4) until it reaches. As a result, even when the substrate P is warped, the backup pin 204 slowly pushes up the lower surface of the substrate P, and does not affect the bare chip C and electronic components mounted on the substrate P. The substrate P can be locked to the substrate processing position with respect to 104. The mounting operation described in FIG. 2 is performed in a state where the substrate P is locked at the substrate processing position shown in FIG.

次に、図4(A)〜(F)を参照して、基板Pを基板処理位置から基板停止位置に降下し、搬送コンベア2の一部としてのコンベアユニット102に受け渡す過程では、制御装置40は、ロック位置に基板Pをリフトアップしているバックアップピン204を所定の中速度(図示の例では、リフト速度V2と同じ6mm/秒)に設定された降下速度V4になるまで、モータ210の回転速度を高めながら降下動作を開始する。これにより、基板Pに過大な慣性を作用させることなく、処理後の基板Pを降下させることが可能になる。降下速度V4でバックアップピン204が降下する区間は、図示の例では、ロック区間(H3−H4)及びリフト区間(H2−H3)であり、本実施例では、これらの区間が初期降下期間である。   Next, referring to FIGS. 4A to 4F, in the process of lowering the substrate P from the substrate processing position to the substrate stop position and delivering it to the conveyor unit 102 as a part of the transfer conveyor 2, the control device 40, the motor 210 is moved until the backup pin 204 that lifts up the substrate P to the locked position reaches a lowering speed V4 set at a predetermined medium speed (same as the lifting speed V2 is 6 mm / second in the illustrated example). The descent operation is started while increasing the rotation speed. As a result, the processed substrate P can be lowered without exerting excessive inertia on the substrate P. The sections where the backup pin 204 descends at the descending speed V4 are the lock section (H3-H4) and the lift section (H2-H3) in the illustrated example, and these sections are the initial descending period in this embodiment. .

次に、制御装置40は、リフト区間(H2−H3)の直前でバックアップピン204が降下する速度を抑制し、所定の低速度(図示の例では、受取速度V1と同じ2mm/秒)に減速された受渡速度V5に下げ、ゆっくりと基板Pがコンベアユニット102上に着座を開始するようにバックアップピン204を降下させる。これにより、基板Pは、実装後のベアチップC等に悪影響を与えることなく、基板Pを搬送コンベア103に受け渡すことが可能となる。   Next, the control device 40 suppresses the speed at which the backup pin 204 descends immediately before the lift section (H2-H3), and decelerates to a predetermined low speed (in the example shown, 2 mm / second, which is the same as the reception speed V1). Then, the backup pin 204 is lowered so that the substrate P starts to be seated on the conveyor unit 102. As a result, the substrate P can be transferred to the conveyor 103 without adversely affecting the mounted bare chip C and the like.

バックアップピン204がさらに降下し、基板Pの下面から完全に離反した後は、制御装置40は、高速側の速度(図示の例では、初動速度V0と同じ10mm/秒)に設定された復帰速度V6で降下させる。この離反区間(H0−H1)においては、バックアップピン204は、基板Pと接触しておらず、移動速度に拘わらず、基板Pに影響を与えることはない。そのため、比較的高速でバックアップピン204を降下させて、移動時間の短縮を図っているのである。   After the backup pin 204 further descends and completely separates from the lower surface of the substrate P, the control device 40 returns the return speed set to the high speed side speed (10 mm / second, which is the same as the initial movement speed V0 in the illustrated example). Lower with V6. In this separation section (H0-H1), the backup pin 204 is not in contact with the substrate P and does not affect the substrate P regardless of the moving speed. For this reason, the backup pin 204 is lowered at a relatively high speed to shorten the movement time.

なお、上述した例では、初動速度V0と復帰速度V6とが同じ高速(10mm/秒)に設定されており、受取速度V1と受渡速度V5とロック速度V3とが同じ低速(2mm/秒)に設定されており、リフト速度V2と降下速度V4とが同じ中速(6mm/秒)に設定されているが、これらは、それぞれの駆動態様に応じて個別に設定されていてもよい。   In the example described above, the initial movement speed V0 and the return speed V6 are set to the same high speed (10 mm / second), and the reception speed V1, the delivery speed V5, and the lock speed V3 are the same low speed (2 mm / second). Although the lift speed V2 and the descent speed V4 are set to the same medium speed (6 mm / second), these may be set individually according to each driving mode.

以上説明したように、本実施形態においては、担持部材(バックアッププレート203や担持部材204等で構成されるユニットを単一の部品として表すもの。以下、「担持部材(203、204)」と称する。)を含むバックアップ装置200を用いて、基板停止位置にある基板Pを基板処理位置にリフトする際の制御手段を提供することができる。   As described above, in the present embodiment, the supporting member (a unit constituted by the backup plate 203, the supporting member 204, etc. is represented as a single component. Hereinafter, referred to as “supporting members (203, 204)”. .) Can be used to provide a control means for lifting the substrate P at the substrate stop position to the substrate processing position.

同手段によれば、担持部材(203、204)が初期高さH0から当該基板Pの下面に接する前までの離反区間(H0−H1)では、予め高速側に設定される初動速度V0に担持部材(203、204)の速度を上げて基板Pを上昇させ、担持部材(203、204)が当該基板Pに接触する時点から当該基板Pが搬送コンベア2の上方に離れるまでの受渡区間(H1−H2)では、予め低速側に設定される受取速度V1に担持部材(203、204)の速度を下げて基板Pを上昇させ、担持部材(203、204)が受渡区間(H1−H2)を越えて当該基板Pを上昇する区間(図示の例では、少なくともリフト区間(H2−H3)では、受取速度V1よりも高速側に設定されるリフト速度V2に担持部材(203、204)の速度を上げて基板Pを上昇させることが可能となる。   According to this means, in the separation section (H0-H1) from the initial height H0 to the time when the supporting member (203, 204) is in contact with the lower surface of the substrate P, the supporting member (203, 204) is supported at the initial speed V0 set in advance on the high speed side. The speed of the members (203, 204) is increased to raise the substrate P, and the delivery section (H1) from when the carrier member (203, 204) contacts the substrate P until the substrate P is separated above the transfer conveyor 2 -H2), the substrate P is raised by lowering the speed of the holding member (203, 204) to the receiving speed V1 set in advance on the low speed side, and the holding member (203, 204) moves the delivery section (H1-H2). In a section where the substrate P is lifted over (in the example shown, at least in the lift section (H2-H3), the speed of the carrier member (203, 204) is set to the lift speed V2 set on the higher speed side than the receiving speed V1. Raise It is possible to increase the substrate P.

このため本実施形態では、基板停止位置から基板処理位置に基板Pをリフトする際に、担持部材(203、204)が基板Pに接触していない状態や、担持部材(203、204)によって基板Pが支持されている状態、すなわち、基板Pに対する衝撃が生じにくい区間(図示の例では、離反区間(H0−H1)やリフト区間(H2−H3))では、基板Pを高速で上昇するとともに、基板Pに衝撃が加わり得る区間(図示の例では、受渡区間(H1−H2)やロック区間(H3−H4))では、担持部材(203、204)が上昇する速度を下げてゆっくりと基板Pを上昇することができるので、基板Pへの衝撃を回避しつつ、可及的速やかに基板Pを基板処理位置に上昇することができる。   For this reason, in this embodiment, when the substrate P is lifted from the substrate stop position to the substrate processing position, the substrate is not in contact with the substrate P or the substrate is moved by the support member (203, 204). In a state where P is supported, that is, in a section in which impact to the substrate P is unlikely to occur (in the illustrated example, the separation section (H0-H1) or the lift section (H2-H3)), the substrate P is raised at a high speed. In the section where the impact can be applied to the substrate P (in the illustrated example, the delivery section (H1-H2) and the lock section (H3-H4)), the substrate is slowly lowered by lowering the speed at which the support members (203, 204) are raised. Since P can be raised, the substrate P can be raised to the substrate processing position as quickly as possible while avoiding an impact on the substrate P.

特に本実施形態に係る制御装置40は、受渡区間(H1−H2)を越えて上昇する区間、すなわち、リフト区間(H2−H3)では、初動速度V0よりも遅く受取速度V1よりも早い中速度に設定されたリフト速度V2で基板Pを上昇するようにバックアップ装置を制御するよう構成されている。そのため本実施形態では、担持部材(203、204)が基板Pを基板処理位置に上昇する際に基板Pに作用する慣性を比較的小さく抑制することができる。すなわち、衝撃を回避するためだけであるならば、担持部材(203、204)が基板Pを持ち上げてからの速度は、速い方が好ましいが、速度が高くなればなるほど、基板Pや基板Pに実装された部品に作用する慣性も高くなる。特に、基板Pに実装された部品の全質量に対して、基板Pの剛性が相対的に小さい場合には、そのような慣性によって基板Pに悪影響を与えるおそれがある。これに対して、本実施形態のように、基板Pを初動速度V0よりも低い速度で上昇すれば、慣性による悪影響をも回避することが可能となるのである。一方、この中速度は、受取速度V1よりも速く設定されているので、基板Pをリフトした後の搬送時間の短縮を図ることも可能となる。   In particular, the control device 40 according to the present embodiment has a medium speed that is lower than the initial movement speed V0 and higher than the reception speed V1 in the section that rises beyond the delivery section (H1-H2), that is, the lift section (H2-H3). The backup device is controlled to raise the substrate P at the lift speed V2 set to. Therefore, in the present embodiment, the inertia acting on the substrate P when the supporting members (203, 204) raise the substrate P to the substrate processing position can be suppressed to a relatively small value. That is, if it is only for avoiding the impact, it is preferable that the speed after the support member (203, 204) lifts the substrate P is higher, but the higher the speed, the more the substrate P and the substrate P are subjected. Inertia acting on the mounted components is also increased. In particular, when the rigidity of the board P is relatively small with respect to the total mass of components mounted on the board P, there is a possibility that the board P is adversely affected by such inertia. On the other hand, if the substrate P is raised at a speed lower than the initial movement speed V0 as in this embodiment, it is possible to avoid adverse effects due to inertia. On the other hand, since the medium speed is set faster than the receiving speed V1, it is possible to shorten the transport time after the substrate P is lifted.

また本実施形態では、基板処理位置に基板Pを位置決めするように、基板Pの上縁を受けて担持部材(203、204)との間で当該基板Pを挟み込んで基板処理位置にロックするロック片104をさらに備え、制御装置40は、基板処理位置に上昇されている基板Pの上縁がロック片104に当接し始める高さからリフト高さH4までのロック区間(H3−H4)では、低速側に設定されるロック速度V3で基板Pを上昇するようにバックアップ装置を制御するよう構成されている。そのため本実施形態では、ロック片104で基板Pを挟圧する仕様の場合においても、ロック片104に基板Pが当接するときの衝撃を回避し、基板Pへの悪影響を抑制しつつ、高速で基板Pを基板停止位置から基板処理位置に上昇することができる。   Further, in the present embodiment, a lock that receives the upper edge of the substrate P and sandwiches the substrate P between the holding members (203, 204) and locks it to the substrate processing position so as to position the substrate P at the substrate processing position. The control device 40 further includes a piece 104, and the control device 40 includes a lock section (H3-H4) from the height at which the upper edge of the substrate P that has been raised to the substrate processing position starts to contact the lock piece 104 to the lift height H4. The backup device is controlled to raise the substrate P at the lock speed V3 set to the low speed side. Therefore, in the present embodiment, even when the substrate P is clamped by the lock piece 104, an impact when the substrate P comes into contact with the lock piece 104 is avoided, and an adverse effect on the substrate P is suppressed, while the substrate is fast. P can be raised from the substrate stop position to the substrate processing position.

次に、基板Pを基板処理位置から基板停止位置に降下させる局面において、基板Pに作用する衝撃等を可及的に回避しつつ、比較的高速に降下させる手段を構成している。   Next, in the phase where the substrate P is lowered from the substrate processing position to the substrate stop position, a means for lowering the substrate P at a relatively high speed while avoiding an impact acting on the substrate P as much as possible is configured.

同手段では、リフト高さH4にある担持部材(203、204)が降下し始めてから当該担持部材(203、204)が担持している基板Pが搬送コンベア2に着地する前までの初期降下区間(本実施形態では、ロック区間(H3−H4)及びリフト区間(H2−H3)までの区間)では、高速側の降下速度に当該担持部材(203、204)の速度を下げて基板Pを降下させ、降下している基板Pが搬送コンベア2に着地し始めてから担持部材(203、204)が基板Pから離れるまでの受渡区間(H1−H2)では、低速側の受渡速度V5に担持部材(203、204)の速度を下げて当該担持部材(203、204)を降下させ、降下している基板Pが搬送コンベア2に着地し終えた後の離反区間(H0−H1)では、高速側の復帰速度V6に担持部材(203、204)の速度を上げて当該担持部材(203、204)を降下させている。   In this means, the initial lowering section from when the supporting members (203, 204) at the lift height H4 start to descend to before the substrate P supported by the supporting members (203, 204) lands on the conveyor 2. (In this embodiment, in the lock section (H3-H4) and the lift section (H2-H3)), the speed of the carrier member (203, 204) is lowered to the lowering speed on the high speed side to lower the substrate P. In the delivery section (H1-H2) from when the descending substrate P starts to land on the transfer conveyor 2 to when the carrying members (203, 204) move away from the substrate P, the carrying member ( 203, 204), the carrier member (203, 204) is lowered, and in the separation section (H0-H1) after the lowered substrate P has landed on the conveyor 2, return The degree V6 by increasing the speed of the bearing member (203, 204) are lowered the bearing member (203, 204).

このため本実施形態では、基板処理位置から基板停止位置に基板Pを降下させる際に、基板Pが搬送コンベア2と当接しない区間(ロック区間(H3−H4)及びリフト区間(H2−H3)までの区間)では、担持部材(203、204)を可及的に高速で駆動して、処理時間の短縮を図ることができるとともに、基板Pが搬送コンベア2に着地し、担持部材(203、204)から搬送コンベア2に基板Pを受け渡すときには、速度を低減して基板Pへの衝撃を回避することが可能となる。よって、これらの態様においても、基板Pへの衝撃を回避しつつ、可及的速やかに基板Pを基板処理位置に上昇することができる。   For this reason, in the present embodiment, when the substrate P is lowered from the substrate processing position to the substrate stop position, the section in which the substrate P does not contact the transport conveyor 2 (the lock section (H3-H4) and the lift section (H2-H3). Until the carrier member (203, 204) is driven as fast as possible to shorten the processing time, and the substrate P is landed on the transport conveyor 2, and the carrier member (203, 204) 204), when transferring the substrate P to the transport conveyor 2, it is possible to reduce the speed and avoid the impact on the substrate P. Therefore, also in these aspects, the substrate P can be raised to the substrate processing position as quickly as possible while avoiding an impact on the substrate P.

本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることはいうまでもない。   The present invention is not limited to the embodiment described above, and it goes without saying that various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

2 搬送コンベア
40 制御装置
100 基板支持装置
104 ロック片
200 バックアップ装置
203 バックアッププレート(担持部材の要素例)
204 バックアップピン(担持部材の要素例)
210 モータ
211 エンコーダ
C ベアチップ
H0 初期高さ
H1 離反高さ
H2 受渡高さ
H3 ロック開始高さ
H4 ロック終了高さ
(H0−H1) 離反区間
(H1−H2) 受渡区間
(H2−H3) リフト区間
(H3−H4) ロック区間
P 基板
PH 基板搬送経路
S1 実装作業位置
S2 実装作業位置
V0 初動速度(高速側の速度)
V1 受取速度(低速側の速度)
V2 リフト速度(中速側の速度)
V3 ロック速度(低速側の速度)
V4 降下速度(中速側の速度)
V5 受渡速度(低速側の速度)
V6 復帰速度(高速側の速度)
W ウエハ
2 Conveyor 40 Control device 100 Substrate support device 104 Lock piece 200 Backup device 203 Backup plate (an example of an element of a supporting member)
204 Backup pin (element example of support member)
210 Motor 211 Encoder C Bare chip H0 Initial height H1 Separation height H2 Delivery height H3 Lock start height H4 Lock end height (H0-H1) Separation zone (H1-H2) Delivery zone (H2-H3) Lift zone ( H3-H4) Lock section P Substrate PH Substrate transport path S1 Mounting work position S2 Mounting work position V0 Initial movement speed (high-speed side speed)
V1 receiving speed (low speed side)
V2 Lift speed (medium speed side)
V3 Lock speed (low speed side)
V4 descending speed (medium speed side)
V5 delivery speed (low speed)
V6 Return speed (speed on the high speed side)
W wafer

Claims (2)

基板を搬送する搬送コンベアの搬送経路上に設定される基板停止位置と前記基板停止位置の上方に設定された基板処理位置との間で当該基板を昇降可能な担持部材を含むバックアップ装置を用いて、前記基板処理位置にある前記基板を前記基板停止位置に降下させて当該搬送コンベアに受け渡す際のバックアップ装置の制御方法において、
前記基板処理位置にある基板を担持している前記担持部材が降下し始めてから当該担持部材が担持している基板が前記搬送コンベアに着地する前までの初期降下区間では、高速側の降下速度まで前記担持部材が降下する速度を上げて当該基板を降下させるステップと、
降下している基板が前記搬送コンベアに着地し始めてから前記担持部材が基板から離れるまでの受渡区間では、低速側の受渡速度に前記担持部材が降下する速度を下げて当該担持部材を降下させるステップと、
降下している基板が前記搬送コンベアに着地し終えた後の離反区間では、高速側の復帰速度に前記担持部材が降下する速度を上げて当該担持部材を降下させるステップと
を備えていることを特徴とするバックアップ装置の制御方法。
Using a backup device including a support member capable of moving the substrate up and down between a substrate stop position set on a transfer path of a transfer conveyor for transferring a substrate and a substrate processing position set above the substrate stop position In the control method of the backup device when lowering the substrate at the substrate processing position to the substrate stop position and delivering it to the transfer conveyor,
In the initial descending section from when the carrying member carrying the substrate at the substrate processing position starts to descend to before the substrate carried by the carrying member lands on the transfer conveyor, the descent speed on the high speed side is reached. Increasing the speed at which the carrier member descends and lowering the substrate;
In the delivery section from when the descending substrate starts to land on the conveyor, until the carrier member leaves the substrate, the step of lowering the carrier member by lowering the speed at which the carrier member descends to the low-speed delivery speed. When,
In a separation section after the descending substrate has landed on the conveyor, the step of lowering the supporting member by increasing the speed at which the supporting member descends to the return speed on the high speed side is provided. A control method for a backup device.
基板を搬送する搬送経路に沿って基板を搬送する搬送コンベアと、
前記搬送コンベアに設定される基板停止位置と前記基板停止位置の上方に設定された基板処理位置との間で当該基板を昇降可能な担持部材を含むバックアップ装置と、
前記バックアップ装置を制御する制御装置であって、前記基板処理位置にある前記基板を前記基板停止位置に降下させて当該搬送コンベアに受け渡す際において、前記基板処理位置にある基板を担持している前記担持部材が降下し始めてから当該担持部材が担持している基板が前記搬送コンベアに着地する前までの初期降下区間では、高速側の降下速度まで前記担持部材が降下する速度を上げて当該基板を降下させ、降下している基板が前記搬送コンベアに着地し始めてから前記担持部材が基板から離れるまでの受渡区間では、低速側の受渡速度に前記担持部材が降下する速度を下げて当該担持部材を降下させ、降下している基板が前記搬送コンベアに着地し終えた後の離反区間では、高速側の復帰速度に前記担持部材が降下する速度を上げて当該担持部材を降下させるように前記バックアップ装置を制御する前記制御装置と
を備えていることを特徴とする基板処理装置。
A transport conveyor for transporting the substrate along a transport path for transporting the substrate;
A backup device including a supporting member capable of moving the substrate up and down between a substrate stop position set on the transfer conveyor and a substrate processing position set above the substrate stop position;
A control device that controls the backup device, and carries the substrate at the substrate processing position when the substrate at the substrate processing position is lowered to the substrate stop position and delivered to the transfer conveyor. In the initial lowering section from when the carrying member starts to descend to before the substrate carried by the carrying member lands on the conveyor, the substrate is increased by increasing the speed at which the carrying member descends to the lowering speed on the high speed side. In the delivery section from when the descending substrate starts to land on the conveyor, until the carrier member leaves the substrate, the carrier member is lowered by lowering the speed at which the carrier member descends to the low-speed delivery speed. In the separation section after the lowered substrate has landed on the conveyor, the speed at which the carrier member descends is increased to the return speed on the high speed side. The substrate processing apparatus characterized by and a said control device for controlling the backup device so as to drop the bearing member.
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