JP2000335741A - Delivery mechanism and preliminary positioning mechanism as well as delivery method - Google Patents

Delivery mechanism and preliminary positioning mechanism as well as delivery method

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JP2000335741A
JP2000335741A JP11149553A JP14955399A JP2000335741A JP 2000335741 A JP2000335741 A JP 2000335741A JP 11149553 A JP11149553 A JP 11149553A JP 14955399 A JP14955399 A JP 14955399A JP 2000335741 A JP2000335741 A JP 2000335741A
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JP
Japan
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substrate
mounting plate
feed roller
hole
delivery
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JP11149553A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaaki Matsuda
政昭 松田
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Orc Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Orc Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a delivery mechanism and a delivery method as well as a preliminary positioning mechanism for ensuring delivery of boards to a carrying means and offering applicability to the boards, if thin. SOLUTION: A delivery mechanism for delivering boards W to a carrying means 20 for carrying to the next process includes a feeding roller 6a disposed under a moving passage of the carrying means for placing the boards thereon, a placement plate 2 having a through-hole 2a from which at least the upper end of the feeding roller can be protruded, and a lifting mechanism 5 for lifting and moving the placement plate, receiving the boards on the feeding roller onto the placement plate and delivering the boards on the placement plate to the carrying means.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント基板や液
晶基板などの露光作業により所定のパターンを形成する
基板を、搬送手段に受け渡す受渡機構および受渡方法な
らびに、基板の位置を予備的に位置決めするための予備
位置決め機構に係り、特に、基板が薄板である場合に適
切な受渡作業および予備位置決め作業を行うことができ
る受渡機構および受渡方法ならびに予備位置決め機構に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a delivery mechanism and a delivery method for delivering a substrate, such as a printed circuit board or a liquid crystal substrate, on which a predetermined pattern is formed by an exposure operation to a transporting means, and to preliminarily position the substrate. In particular, the present invention relates to a delivery mechanism, a delivery method, and a preliminary positioning mechanism capable of performing an appropriate delivery operation and a preliminary positioning operation when a substrate is a thin plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来において、基板に所定パターンを露
光作業により形成する場合は、搬入ステージ、整合ステ
ージ、露光ステージおよび搬出ステージなどの各ステー
ジを備える露光装置が使用されている。そして、各ステ
ージに基板を搬送するためには、搬送手段であるハンド
ラが一般的に使用されている。さらに、搬入ステージに
は、基板を受け取る送りローラが設けられている。その
ため、搬入ステージに基板を受け取り、ハンドラに基板
を受け渡す場合は、はじめに、送りローラの回転により
所定位置まで基板を導き入れる。基板が送りローラの所
定位置に送られて停止すると、ハンドラは、送りローラ
近傍まで降下し、吸着パットを基板に当接して基板を真
空吸着し、その状態で上昇することで、基板を送りロー
ラからハンドラに受け渡している。ハンドラは、基板を
保持した状態で、ガイドフレームに沿って水平方向に移
動し、次ステージ(整合ステージ等)に基板を搬送して
いる。
2. Description of the Related Art Conventionally, when a predetermined pattern is formed on a substrate by an exposure operation, an exposure apparatus having stages such as a carry-in stage, an alignment stage, an exposure stage, and a carry-out stage is used. In order to transfer a substrate to each stage, a handler as a transfer unit is generally used. Further, the carry-in stage is provided with a feed roller for receiving the substrate. Therefore, when receiving the substrate to the loading stage and transferring the substrate to the handler, first, the substrate is guided to a predetermined position by rotation of the feed roller. When the substrate is sent to a predetermined position of the feed roller and stopped, the handler descends to the vicinity of the feed roller, abuts the suction pad against the substrate, vacuum-sucks the substrate, and rises in that state, thereby moving the substrate to the feed roller. Is passed to the handler. The handler moves horizontally along the guide frame while holding the substrate, and transports the substrate to the next stage (such as an alignment stage).

【0003】なお、予備位置決め機構を送りローラの位
置に備える場合は、押動部が送りローラ上の基板の四辺
の位置に配置されている。そして、押動部は、送りロー
ラの間を移動し、かつ、上下動機構により出没自在に構
成されている。そのため、基板を予備位置決めする場合
は、つぎのような動作を行う。すなわち、基板が送りロ
ーラ上の所定位置に載置されると、その基板の四辺の近
傍に配置された押動部が、上下動機構により送りローラ
の上端より突出する。そして、移動機構により押動部
は、基板の端面を押動し、基準位置にその基板を予備位
置決めするように移動する。基板の予備位置決め作業が
終了すると、ハンドラが降下して基板を真空吸着して上
昇し次ステージに搬送している。
[0003] When the preliminary positioning mechanism is provided at the position of the feed roller, the pressing portion is disposed at four sides of the substrate on the feed roller. The pressing portion is configured to move between the feed rollers and to be able to move in and out by a vertical movement mechanism. Therefore, the following operation is performed when preliminarily positioning the substrate. That is, when the substrate is placed at a predetermined position on the feed roller, the pushing portions arranged near the four sides of the substrate protrude from the upper end of the feed roller by the vertical movement mechanism. Then, the pushing mechanism pushes the end face of the substrate by the moving mechanism, and moves so that the substrate is preliminarily positioned at the reference position. When the pre-positioning operation of the substrate is completed, the handler descends, vacuum-adsorbs the substrate, raises it, and conveys it to the next stage.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の基板の
受渡機構および予備位置決め機構の構成では以下のよう
な問題点が存在した。すなわち、搬送手段であるハンド
ラが降下あるいは上昇し、送りローラ上の基板を吸着保
持しているため、基板を吸着保持したハンドラが上昇す
る場合は、基板に対する空気抵抗が大きくなり、基板を
落下させる場合が発生した。さらに、基板は薄くなるに
したがって、ハンドラが保持して上昇するときに空気抵
抗の影響を受けやすくバタツキを起こし、基板の落下あ
るいは変形させる原因になっていた。そして、基板が薄
くなると平行平面性を維持することが困難であるため、
基板をハンドラに受け渡す場合に変形を発生している場
合もあり、基板に変形を生じている場合であっても適切
にハンドラに受け渡すことができる受渡機構が望まれて
いた。
However, there are the following problems in the structure of the conventional substrate delivery mechanism and the preliminary positioning mechanism. That is, since the handler serving as the transport unit moves down or rises and holds the substrate on the feed roller by suction, when the handler holding the substrate by suction rises, the air resistance against the substrate increases and the substrate drops. A case has occurred. Further, as the substrate becomes thinner, it tends to be affected by air resistance when the handler is held up and rises, causing fluttering and causing the substrate to drop or deform. And it is difficult to maintain the parallel flatness when the substrate becomes thin,
In some cases, the substrate is deformed when being transferred to the handler, and a transfer mechanism that can appropriately transfer the substrate to the handler even when the substrate is deformed has been desired.

【0005】また、基板の落下の原因を少なくするた
め、ハンドラの吸着力を大きくすることも考えられる
が、基板が薄い場合は、吸着力が大きいと基板を変形さ
せ劣化させる原因になるため、ハンドラの吸着力を大き
くするだけでは対応できなかった。そして、基板の厚み
が特に1mm以下になると、基板の変形による寸法の狂
いが生じ、基板に形成するパターンの位置精度に悪影響
を与える結果となった。
It is also conceivable to increase the suction force of the handler in order to reduce the cause of the substrate falling. However, when the substrate is thin, a large suction force may cause the substrate to be deformed and deteriorated. It was not possible to respond simply by increasing the suction power of the handler. When the thickness of the substrate is particularly equal to or less than 1 mm, the dimensions of the substrate are deformed due to deformation, which adversely affects the positional accuracy of the pattern formed on the substrate.

【0006】さらに、従来の予備位置決め機構は、複数
列で一定間隔に配置された送りローラ上の基板を押動部
により押動する構成としていることから、基板が送りロ
ーラを跨ぐような移動をする場合は、基板の端部がその
送りローラに引っ掛かり適切な予備位置決め作業ができ
なかった。このことは、基板が薄い場合に顕著にあらわ
れた。
Further, since the conventional preliminary positioning mechanism is configured to push the substrates on the feed rollers arranged at a constant interval in a plurality of rows by a pushing portion, the substrate is moved so as to straddle the feed rollers. In this case, the end of the substrate was caught by the feed roller, and a proper preliminary positioning operation could not be performed. This was remarkable when the substrate was thin.

【0007】本発明は、前記の問題点を解決すべく創案
されたもので、基板の搬送手段への受け渡しを確実に行
うことができ、基板が薄くても対応できる受渡機構およ
び受渡方法ならびに予備位置決め機構を提供することを
目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and a delivery mechanism, a delivery method, and a spare which can surely transfer a substrate to a transfer means and can cope with a thin substrate. It is an object to provide a positioning mechanism.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】前記の課題を解決するた
め、本発明は、所定パターンを露光して形成する基板を
次工程に搬送する搬送手段に受け渡す受渡機構におい
て、前記搬送手段の移動経路の下方に配置され、前記基
板を移動するための送りローラと、この送りローラの少
なくとも上端が突出できる貫通穴を有する載置板と、こ
の載置板を昇降させ、前記送りローラ上の基板を載置板
上に受け取ると共に、前記搬送手段にその載置板上の基
板を受け渡すための昇降機構とから構成される受渡機構
とした。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention relates to a delivery mechanism for transferring a substrate formed by exposing a predetermined pattern to a transporting device for transporting the substrate to a next step, and A feed roller disposed below the path, for moving the substrate, a mounting plate having a through hole through which at least the upper end of the feed roller can protrude, and raising and lowering the mounting plate, the substrate on the feed roller And a lifting mechanism for receiving the substrate on the mounting plate and transferring the substrate on the mounting plate to the transfer means.

【0009】このように構成することで、基板を搬送手
段に受け渡す場合には、基板が載置された載置板が上昇
して、基板を搬送手段に受け渡すため、基板が上昇する
際に空気の抵抗で落下することがない。
With this configuration, when the substrate is delivered to the transporting means, the mounting plate on which the substrate is placed rises, and the substrate is delivered to the transporting means. It does not fall due to air resistance.

【0010】また、前記昇降機構は、載置板を支持する
支持脚と、この支持脚の移動方向に沿って設けられた緩
衝部と、前記載置板を所定の位置レベルで停止させるた
めに、前記支持脚を上下動させる駆動機構を備える構成
にすると都合が良い。
The lifting mechanism includes a support leg for supporting the mounting plate, a buffer provided along the moving direction of the support leg, and a stop for stopping the mounting plate at a predetermined position level. It is convenient to provide a drive mechanism for moving the support leg up and down.

【0011】このように構成することで、基板を搬送手
段に受け渡すときに、載置板が上昇して搬送手段に当接
したときの衝撃力を、支持脚に設けた緩衝部が緩和する
ため基板を劣化させることはない。
With this configuration, when the substrate is transferred to the transfer means, the shock force generated when the mounting plate rises and comes into contact with the transfer means is reduced by the buffer provided on the support leg. Therefore, the substrate does not deteriorate.

【0012】また、予備位置決め機構を次のように構成
した。すなわち、所定パターンを露光して形成する基板
を載置するための送りローラと、この送りローラの上端
が突出する貫通穴を備えると共に、予備位置決め用の貫
通長穴を備える載置板と、前記貫通長穴に沿って移動す
る押動部を有する移動機構と、前記載置板を昇降させる
ための昇降機構とを備え、前記基板を予備位置決めする
際は、前記載置板を前記送りローラの上端より上昇させ
その載置板で前記基板を支持し、前記移動機構を介して
前記貫通長穴に沿って前記押動部を移動させ、前記基板
の端面を押動して基準位置に予備位置決めを行うように
構成した。
Further, the preliminary positioning mechanism is constituted as follows. That is, a feed roller for mounting a substrate formed by exposing a predetermined pattern, and a feed plate having a through hole from which the upper end of the feed roller protrudes, and a mounting plate having a long through hole for preliminary positioning, A moving mechanism having a pushing portion that moves along the through-hole, and an elevating mechanism for elevating and lowering the mounting plate, wherein when pre-positioning the substrate, the mounting plate is moved by the feed roller. Raised from the upper end, supports the substrate by its mounting plate, moves the pushing portion along the through-hole via the moving mechanism, pushes the end face of the substrate, and preliminarily positions it at the reference position. It was configured to perform.

【0013】このように構成することで、送りローラの
上に搬入され支持された基板は、載置板の上昇に伴っ
て、載置板上に載置される。そして、押動部が貫通長穴
から突出して移動機構によりその貫通長穴に沿って移動
し、基板の端面を基準位置に予備位置決めする。このと
き、基板は、載置板上にあるため、基板が薄くても押動
部によりスムーズに移動することができ、適切な予備位
置決め作業を行うことが可能となる。
With this configuration, the substrate carried and supported on the feed roller is placed on the mounting plate as the mounting plate is raised. Then, the pushing portion protrudes from the through-hole and moves along the through-hole by the moving mechanism to preliminarily position the end face of the substrate at the reference position. At this time, since the substrate is on the mounting plate, even if the substrate is thin, the substrate can be smoothly moved by the pushing portion, and an appropriate preliminary positioning operation can be performed.

【0014】さらに、基板の受渡方法として、貫通穴お
よび貫通長穴を備える載置板の前記貫通穴から突出する
送りローラの上に、所定パターンを露光して形成する基
板を受け取る第1工程と、前記載置板を昇降機構を介し
て上昇させ、送りローラから載置板上に前記基板を載置
する第2工程と、前記載置板上の基板の端面を、前記貫
通長穴から突出させた押動部により押動し、前記基板を
基準位置に予備位置決めする第3工程と、前記昇降機構
を介して前記載置板をさらに上昇させ、待機している搬
送手段に受け渡す第4工程とから構成した。
Further, as a method of transferring the substrate, a first step of receiving a substrate formed by exposing a predetermined pattern on a feed roller protruding from the through hole of the mounting plate having a through hole and a long through hole; A second step of raising the mounting plate via the lifting mechanism and mounting the substrate on the mounting plate from a feed roller, and projecting the end surface of the substrate on the mounting plate from the through-hole. A third step of preliminarily positioning the substrate at the reference position by being pushed by the pushed pushing portion, and a fourth step of further elevating the mounting plate via the elevating mechanism and delivering the same to the standby transporting means. And the process.

【0015】このように構成することで、基板が薄い場
合であっても予備位置決めを行った後に、落下の原因を
なくした状態で搬送手段に基板を受け渡すことができ
る。
With this configuration, even if the substrate is thin, the substrate can be transferred to the transporting unit after the preliminary positioning is performed and the cause of the drop is eliminated.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
面を参照して説明する。図1は、受渡機構の要部を示す
送りローラを省略した断面図、図2は、受渡機構の載置
板の平面図、図3は、予備位置決め機構の移動機構を示
す平面図、図4は、基板の受渡作業および予備位置決め
作業を示す模式図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view of a main part of the delivery mechanism without a feed roller, FIG. 2 is a plan view of a mounting plate of the delivery mechanism, FIG. 3 is a plan view of a moving mechanism of a preliminary positioning mechanism, and FIG. FIG. 4 is a schematic diagram showing a delivery operation and a preliminary positioning operation of a substrate.

【0017】図1および図2で示すように、受渡機構1
は、基板Wを載置する送りローラ6aと、この送りロー
ラ6aの上端を突出する貫通穴2aおよび、後記する予
備位置決め用の貫通長穴2bを備える載置板2と、この
載置板2を昇降移動させるための昇降機構5とから構成
されている。なお、基板Wを予備的に位置決めする予備
位置決め機構10は、送りローラ6aと、載置板2と、
昇降機構5と、基板Wの端面を押動して移動させるため
の移動機構11,12,13,14とから構成されてい
る。
As shown in FIGS. 1 and 2, the delivery mechanism 1
A mounting plate 2 having a feed roller 6a for mounting a substrate W thereon, a through hole 2a protruding from the upper end of the feed roller 6a, and a through hole 2b for preliminary positioning described later; And an elevating mechanism 5 for elevating and lowering. The pre-positioning mechanism 10 for pre-positioning the substrate W includes a feed roller 6a, the mounting plate 2,
It comprises a lifting mechanism 5 and moving mechanisms 11, 12, 13, and 14 for pushing and moving the end face of the substrate W.

【0018】図2で示すように、送りローラ6aは、複
数列に配置され、回転軸6bに支持されており、その回
転軸6bの両端に取り付けたプーリ6dに掛け渡した無
端ベルト6cを介して、図示しない駆動モータにより所
定速度で回転するように構成されている。
As shown in FIG. 2, the feed rollers 6a are arranged in a plurality of rows, supported by a rotating shaft 6b, and connected to an endless belt 6c which extends over pulleys 6d attached to both ends of the rotating shaft 6b. It is configured to rotate at a predetermined speed by a drive motor (not shown).

【0019】載置板2は、その貫通穴2aを、送りロー
ラ6aの回転の障害にならず、かつ、その送りローラ6
aの上端が少なくとも載置板2より上方に突出できるよ
うに構成されている。そして、予備位置決め用の貫通長
穴2bを、載置する基板Wの構成により所定位置に形成
している。図面では、基板Wを、紙面左側の基準位置
(押動部11a,11a)に予備位置決めする構成とし
ているため、送りローラ6aの送り方向に沿って上下に
複数(図面では3本づつ)の貫通長穴2bと、送りロー
ラ6aの送り方向に直交する方向に複数(図面では2
本)の貫通長穴2bを形成している。そして、基準とな
る載置板2の左端には、凹部2dが複数(図面では3箇
所)形成されている。また、載置板2の基板Wが載置さ
れる位置には、真空吸着用の開口部2c(図面では4箇
所)が形成されている。
The mounting plate 2 has a through hole 2a which does not hinder the rotation of the feed roller 6a, and
The upper end of “a” is configured to protrude at least above the mounting plate 2. The through-hole 2b for preliminary positioning is formed at a predetermined position according to the configuration of the substrate W to be placed. In the drawing, the substrate W is preliminarily positioned at the reference position (the pushing portions 11a, 11a) on the left side of the drawing, so that a plurality of (three in the drawing) penetrate vertically in the feed direction of the feed roller 6a. In the direction perpendicular to the feeding direction of the feed roller 6a, a plurality of slots (2 in the drawing)
) Are formed. A plurality of (three in the drawing) concave portions 2d are formed at the left end of the reference mounting plate 2. Openings 2c (four locations in the drawing) for vacuum suction are formed at positions of the mounting plate 2 where the substrate W is mounted.

【0020】なお、貫通穴2aおよび貫通長穴2bは、
図2で示すように、それぞれの開口周縁を面取りするよ
うに形成されており、載置板2上の基板Wの移動がスム
ーズにできるように構成されている。この貫通穴2aお
よび貫通長穴2bの面取りは基板Wが薄板である場合に
重要であり、基板Wの予備位置決めの際の移動をスムー
ズに行う場合に、基板Wの端部が貫通穴2aおよび貫通
長穴2bに引っ掛かることを防止し、移動をスムーズに
している。
The through hole 2a and the long through hole 2b are
As shown in FIG. 2, each opening is formed so as to chamfer the peripheral edge thereof, and is configured so that the substrate W on the mounting plate 2 can move smoothly. The chamfering of the through-hole 2a and the through-hole 2b is important when the substrate W is a thin plate, and when the substrate W is to be smoothly moved during pre-positioning, the edge of the substrate W is It is prevented from being caught in the through-hole 2b, and the movement is smooth.

【0021】図1および図2で示すように、昇降機構5
は、載置板2を着脱自在に支持する支持脚3(図面では
5本)と、この支持脚3の上部に設けた緩衝部4と、支
持脚3を上下動自在に保持する駆動機構5Aとから構成
されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the lifting mechanism 5
Are supporting legs 3 (five in the drawing) for supporting the mounting plate 2 in a detachable manner, a buffer 4 provided on the upper part of the supporting legs 3, and a driving mechanism 5A for holding the supporting legs 3 vertically movable. It is composed of

【0022】緩衝部4は、載置板2に接続して設けた筒
状の当接部4aと、この当接部4aに設けた支持棹4c
と、この支持棹4cに巻回して設けた弾性部材であるコ
イルスプリング4bとから構成されている。そして、支
持脚3の上端に取り付けた支持環3aが、コイルスプリ
ング4bの下端を支持すると共に、支持棹4cが支持脚
3の内部に沿って摺動自在となるように構成されてい
る。そのため、載置板2上の基板Wが、後記する搬送手
段としてのハンドラ20に当接した際、コイルスプリン
グ4bが収縮し、支持環3aおよび支持脚3が、支持棹
4c側に摺動することで、衝撃を吸収するように構成さ
れている。
The buffer portion 4 includes a cylindrical contact portion 4a connected to the mounting plate 2 and a support rod 4c provided on the contact portion 4a.
And a coil spring 4b which is an elastic member wound around the support rod 4c. The support ring 3a attached to the upper end of the support leg 3 supports the lower end of the coil spring 4b, and the support rod 4c is slidable along the inside of the support leg 3. Therefore, when the substrate W on the mounting plate 2 comes into contact with a handler 20 as a transport unit described later, the coil spring 4b contracts, and the support ring 3a and the support leg 3 slide toward the support rod 4c. Thus, it is configured to absorb a shock.

【0023】駆動機構5Aは、設置板30の下方に設け
られており、その設置板30を貫通して配置されている
支持脚3の下端を保持する保持部5hと、この保持部5
hを固定支持する固定板5gと、この固定板5gに設け
られた移動ブロック5dと、この移動ブロック5dを移
動させる送りネジ5cと、この送りネジ5cを伝達ベル
ト5bを介して回動させる駆動モータ5aと、送りネジ
5cに対して平行に配置され、固定板5gに取り付けた
摺動部5eを介して移動ブロック5dの移動をガイドす
るガイドフレーム5fとから構成されている。
The driving mechanism 5A is provided below the installation plate 30. A holding portion 5h for holding the lower end of the support leg 3 disposed through the installation plate 30;
5g, a moving block 5d provided on the fixing plate 5g, a feed screw 5c for moving the moving block 5d, and a drive for rotating the feed screw 5c via the transmission belt 5b. It comprises a motor 5a and a guide frame 5f which is arranged in parallel to the feed screw 5c and guides the movement of the moving block 5d via a sliding portion 5e attached to a fixed plate 5g.

【0024】一方、図2、図3および図4で示すよう
に、予備位置決め機構10は、送りローラ6aと、載置
板2および昇降機構5と、基板Wの四方で設置板30上
に配置されたそれぞれの移動機構11,12,13,1
4とを備えている。移動機構11は、基準位置側に配置
されており、押動部11a,11aと、この押動部11
a,11aを支持する支持躯体11bと、この支持躯体
11bの移動方向に沿って設けられたガイド11c,1
1cと、このガイド11c,11cに沿って支持躯体1
1bを移動させる駆動モータ11dとから構成されてい
る。また、移動機構12は、基板Wの端面を押動する押
動部12a,12aと、この押動部12a,12aを支
持する支持躯体12bと、この支持躯体12bの移動方
向に沿って設けたガイド12cと、このガイド12cに
沿って支持躯体12bを移動させる駆動モータおよび移
動ベルトなどの駆動部12dとから構成されている。
On the other hand, as shown in FIG. 2, FIG. 3 and FIG. 4, the preliminary positioning mechanism 10 includes a feed roller 6a, the placing plate 2, the elevating mechanism 5, and the mounting plate 30 on all sides of the substrate W. Moving mechanism 11, 12, 13, 1
4 is provided. The moving mechanism 11 is disposed on the reference position side, and includes pushing portions 11a, 11a and the pushing portions 11a.
a, 11a, and guides 11c, 1 provided along the moving direction of the support frame 11b.
1c and the support frame 1 along the guides 11c, 11c.
And a drive motor 11d for moving the first motor 1b. Further, the moving mechanism 12 is provided along pushing directions 12a, 12a for pushing the end face of the substrate W, a supporting frame 12b for supporting the pushing segments 12a, 12a, and a moving direction of the supporting frame 12b. It comprises a guide 12c and a drive unit 12d such as a drive motor and a moving belt for moving the support frame 12b along the guide 12c.

【0025】さらに、移動機構13,14は対面する位
置に配置され、基板Wの端部を押動するそれぞれの押動
部13a,13a,14a,14aと、この押動部13
a,13a,14a,14aをそれぞれ支持する支持躯
体13b,14bと、支持躯体13b,14bの移動方
向に沿って設けたガイド13c,14cと、このガイド
に沿って支持躯体13b,14bを移動させる駆動モー
タおよび駆動ベルトなどの駆動部13d(移動機構1
3、14共有)とから構成されている。
Further, the moving mechanisms 13 and 14 are arranged at positions facing each other, and respective pushing portions 13a, 13a, 14a and 14a for pushing the ends of the substrate W, and the pushing portions 13a.
a, 13a, 14a, and 14a, respectively, support frames 13b and 14b, guides 13c and 14c provided along the moving direction of the support frames 13b and 14b, and the support frames 13b and 14b are moved along the guides. A driving unit 13d such as a driving motor and a driving belt (moving mechanism 1)
3, 14 shared).

【0026】なお、支持躯体11b〜14bは、押動部
11a〜14aを、基板Wの大きさや、また、予備位置
決めする基準位置に対応して1つ以上支持できるように
構成されている。図2では、送りローラ6aの送り方向
に形成されている貫通長穴2bは、3本づつ形成されて
いるが、押動部13a,14aは、2箇所に配置されて
いる。そして、押動部11a〜14aの基端には、基板
Wの端面に当接する際に、その衝撃を吸収するように、
弾性部材の伸縮方向と、押動部11a〜14aの移動方
向が沿うように、弾性部材(図示せず)がそれぞれ設け
られている。
The supporting skeletons 11b to 14b are configured to support one or more pushing portions 11a to 14a in accordance with the size of the substrate W and a reference position for preliminary positioning. In FIG. 2, three through-holes 2b formed in the feed direction of the feed roller 6a are formed three by one, but the pushing portions 13a and 14a are arranged at two places. Then, at the base ends of the pushing parts 11a to 14a, when the base parts W come into contact with the end face of the substrate W, the impact is absorbed.
Elastic members (not shown) are provided so that the direction of expansion and contraction of the elastic members and the direction of movement of the pressing portions 11a to 14a are along.

【0027】また、基板Wが送りローラ6aに搬入され
て来たときに、邪魔にならないように、所定箇所の押動
部(ここでは押動部13a,14a)が上下に移動して
載置板2から出没自在になるように上下駆動部13e
(図1参照)を備える構成としている。図面では押動部
11a,12aは、この例で示す基板Wでは、搬入時の
障害にならないため、左右に退避して、上下動しない構
成としている。
Also, when the substrate W is carried into the feed roller 6a, the pushing portions (here, pushing portions 13a and 14a) at predetermined locations are moved up and down so as not to be in the way. Up and down drive unit 13e so that it can come and go from plate 2
(See FIG. 1). In the drawing, the pushers 11a and 12a are configured to retract to the left and right and do not move up and down because the pushers 11a and 12a do not become obstacles in carrying in the substrate W shown in this example.

【0028】なお、図4で示すように、受渡機構1の上
方には、搬送手段としてのハンドラ20がガイドレール
(搬送経路)に沿って水平方向に移動できるように配置
されている。前記ハンドラ20は、基板Wを吸着する吸
着パット21,21(少なくとも4つ以上)と、この吸
着パット21,21を支持する保持板22と、この保持
板22を上下動自在に支持する緩衝部23と、この緩衝
部23を支持する支持フレーム24とから構成されてい
る。
As shown in FIG. 4, above the delivery mechanism 1, a handler 20 as a transporting means is arranged so as to be able to move in a horizontal direction along a guide rail (transport path). The handler 20 includes suction pads 21, 21 (at least four or more) for sucking the substrate W, a holding plate 22 for supporting the suction pads 21, 21, and a buffer unit for vertically supporting the holding plate 22. 23, and a support frame 24 that supports the buffer portion 23.

【0029】つぎに、受渡機構1の作用および予備位置
決め機構10の作用について説明する。図4(a)で示
すように、受渡機構1は、送りローラ6aの上に基板W
を受け取ると、送りローラ6aを回転させ基板Wを所定
の位置まで移動させ停止させる。図4(b)で示すよう
に、送りローラ6a上に基板Wが支持されると、駆動機
構5Aを介して支持脚3を上方に移動させることで載置
板2を上昇させ、送りローラ6aの上端が基板Wに接触
しない状態で載置板2上に基板Wを支持する。つぎに、
図4(b)および図2で示すように、移動機構11,1
2,13,14を作動させ基板Wの端面を押動部12
a,13a,14aで、基準位置である押動部11a,
11a側に押動し、基板Wの予備位置決め作業を行う。
Next, the operation of the delivery mechanism 1 and the operation of the preliminary positioning mechanism 10 will be described. As shown in FIG. 4A, the delivery mechanism 1 places the substrate W on the feed roller 6a.
Is received, the feed roller 6a is rotated to move the substrate W to a predetermined position and stop. As shown in FIG. 4 (b), when the substrate W is supported on the feed roller 6a, the support leg 3 is moved upward via the drive mechanism 5A to raise the mounting plate 2, and the feed roller 6a The substrate W is supported on the mounting plate 2 without the upper end of the substrate W contacting the substrate W. Next,
As shown in FIGS. 4B and 2, the moving mechanisms 11, 1
2, 13, 14 are operated to push the end face of the substrate W
a, 13a, 14a, the push-moving portions 11a, which are reference positions,
The substrate W is pushed to the side of 11a to perform a preliminary positioning operation of the substrate W.

【0030】基板Wが予備位置決めされると、載置板2
上の基板Wが移動しないように真空吸着用の開口部2c
(図2参照)から吸引動作を行い基板Wを吸着支持す
る。そして、図1および図4(c)で示すように、駆動
機構5Aにより支持脚3を上方に移動させることで載置
板2を上昇させ、待機しているハンドラ20に基板Wを
受け渡す。
When the substrate W is preliminarily positioned, the mounting plate 2
The opening 2c for vacuum suction so that the upper substrate W does not move.
The suction operation is performed from (see FIG. 2) to suck and support the substrate W. Then, as shown in FIG. 1 and FIG. 4 (c), the mounting plate 2 is raised by moving the support leg 3 upward by the drive mechanism 5A, and the substrate W is delivered to the handler 20 which is on standby.

【0031】基板Wがハンドラ20の吸着パット21に
当接する場合に、基板Wの表面が衝撃を受けるが、支持
脚3に設けた緩衝部4(およびハンドラ20の緩衝部2
4)によりその衝撃を吸収するため、基板Wが受ける衝
撃を最小限に抑えることができる。また、基板Wの衝撃
が緩和されることから、載置板2の上昇速度を高速で行
うことが可能となる。
When the substrate W comes into contact with the suction pad 21 of the handler 20, the surface of the substrate W receives an impact, but the buffer 4 provided on the support leg 3 (and the buffer 2 of the handler 20).
Since the shock is absorbed by 4), the shock received by the substrate W can be minimized. Further, since the impact of the substrate W is reduced, the mounting plate 2 can be raised at a high speed.

【0032】基板Wがハンドラ20の吸着パット21に
当接すると、ハンドラ20は吸引動作を行い吸着パット
21に基板Wを吸着する。このとき、載置板2の今まで
基板Wを吸着支持していた吸着動作を停止するか、もし
くは、その開口部2c(図2参照)から空気を噴射して
載置板2と基板Wとが分離し易いように動作する。基板
Wをハンドラ20に受け渡した載置板2は、昇降機構5
により図4(c)の位置から図4(a)の位置まで降下
してつぎの基板Wの搬入を待機する。
When the substrate W comes into contact with the suction pad 21 of the handler 20, the handler 20 performs a suction operation to suck the substrate W on the suction pad 21. At this time, the suction operation of the mounting plate 2 which has been sucking and supporting the substrate W until now is stopped, or air is injected from the opening 2c (see FIG. 2) so that the mounting plate 2 and the substrate W Operate so as to be easily separated. The mounting plate 2 that has transferred the substrate W to the handler 20 is
4 (c) to the position shown in FIG. 4 (a), and waits for loading of the next substrate W.

【0033】なお、基板Wは、前記した受渡機構1であ
れば、基板Wの厚みが0.1mm以下であっても対応で
き、さらに0.06mmより薄くなっても対応すること
が可能となる。
It should be noted that the substrate W can be handled even if the thickness of the substrate W is 0.1 mm or less, and can be handled even if the thickness of the substrate W is thinner than 0.06 mm, as long as it is the delivery mechanism 1 described above. .

【0034】また、載置板2は、図4(a),(b),
(c)で示す位置レベル(基板搬入位置、基板載置位
置、基板受渡位置)にあらかじめ移動するように制御す
ること、および、前記緩衝部4(23)を備えること
で、基板Wに悪影響を及ぼすこと無く動作の高速化を可
能にすることができる。
Further, the mounting plate 2 is shown in FIGS.
By controlling in advance to move to the position level (substrate loading position, substrate mounting position, substrate delivery position) shown in (c), and by providing the buffer 4 (23), the substrate W is adversely affected. It is possible to speed up the operation without exerting any influence.

【0035】また、送りローラ6aは、列ごとに、ある
いは、所定の位置ごとに、それぞれが、独立した駆動源
(駆動モータ)を介して回転するように構成しても構わ
ない。そして、送りローラ6aの駆動源を異ならせる場
合は、所定位置の送りローラ6aに駆動源を設けないで
従動回転する従動送りローラ(図示せず)を設ける構成
としても良い。
Further, the feed roller 6a may be configured to rotate via an independent drive source (drive motor) for each row or for each predetermined position. When the drive source of the feed roller 6a is made different, a configuration may be adopted in which a driven feed roller (not shown) that is driven and rotated without providing a drive source is provided for the feed roller 6a at a predetermined position.

【0036】さらに、基板Wの予備位置決めの際に、移
動機構11の押動部11a,11aの位置を基準位置と
して説明したが、基板Wの予備位置決めの基準位置は、
基板Wの構成により異なり、基板Wの中心にすること
や、また、載置板2の任意の位置に設定できる。そし
て、基板を載置する載置板は、貫通孔などを設けている
ため、基板をハンドラなどの搬送手段に受け渡すとき
に、載置板と基板とが密着せず基板の受け渡しミスを防
止することができる。
Furthermore, in the pre-positioning of the substrate W, the position of the pushing portions 11a, 11a of the moving mechanism 11 has been described as the reference position.
It differs depending on the configuration of the substrate W, and can be set at the center of the substrate W or at any position on the mounting plate 2. Since the mounting plate on which the substrate is mounted has through holes, etc., when the substrate is transferred to a transfer means such as a handler, the mounting plate and the substrate do not adhere to each other to prevent a mistake in transferring the substrate. can do.

【0037】そして、駆動機構5Aは、送りネジ機構を
使用して説明したが、シリンダ機構や、ラックアンドピ
ニオンにより載置板を昇降移動する構成としても良い。
また、緩衝部の弾性部材は、ゴム筒や、板バネを使用し
ても良く、また、エアークッションを使用しても構わな
い。さらに、受渡機構は、基板を受け取る機構(露光装
置の搬出機構)として使用しても良い。
Although the drive mechanism 5A has been described using the feed screw mechanism, the drive mechanism 5A may be configured to move the mounting plate up and down by a cylinder mechanism or a rack and pinion.
Further, as the elastic member of the buffer portion, a rubber cylinder or a leaf spring may be used, or an air cushion may be used. Further, the delivery mechanism may be used as a mechanism for receiving a substrate (a mechanism for unloading the exposure apparatus).

【0038】[0038]

【発明の効果】前記したように本発明によれば、以下の
ように優れた効果を発揮する。 基板の受渡機構は、基板を受け取る際には送りロー
ラにより受け取り支持する。そして、搬送手段に基板を
受け渡すときには、載置板を上昇させ、送りローラから
載置板に基板を載置し、さらに、昇降機構により上昇さ
せて載置板上の基板を搬送手段に受け渡す構成としてい
る。そのため、基板を上昇させる際に、空気抵抗があっ
ても、基板を曲げたり変形させたり、あるいは、落下さ
せることが全くない。また、基板を搬送手段が受け取る
際に載置板が上昇するために受け取りやすい。さらに、
搬送手段が降下して基板を受け取る構成に比較すると、
基板の受渡速度の向上を図ることが可能となる。そし
て、特に、基板が薄い場合に適切な搬送手段への受渡作
業を行うことが可能となる。また、載置板は貫通孔など
基板との密着を防止する構成を備えているため受け渡し
ミスをすることがない。
As described above, according to the present invention, the following excellent effects are exhibited. When receiving a substrate, the substrate transfer mechanism receives and supports the substrate by a feed roller. Then, when transferring the substrate to the transfer means, the mounting plate is raised, the substrate is mounted on the mounting plate from the feed roller, and further raised by a lifting mechanism to receive the substrate on the mounting plate to the transfer means. It is configured to pass. Therefore, when the substrate is lifted, the substrate is never bent, deformed, or dropped even if there is air resistance. Further, when the transfer means receives the substrate, the mounting plate is lifted, so that the substrate can be easily received. further,
Compared to the configuration in which the transport means descends and receives the substrate,
It is possible to improve the transfer speed of the substrate. In particular, when the substrate is thin, it is possible to perform a delivery operation to an appropriate transport unit. In addition, since the mounting plate is provided with a structure such as a through hole for preventing close contact with the substrate, there is no mistake in delivery.

【0039】 基板の受渡機構は、載置板を昇降移動
させる昇降機構の支持脚に緩衝部を設けている。そのた
め、基板の厚みにかかわらず、基板を搬送手段に受け渡
すときに、基板が搬送手段と当接しても、その衝撃を緩
和して基板に与える機械的な損傷を最小限に抑えること
が可能となる。そして、載置板に基板を載置して上昇す
る構成とすることと、緩衝部を有することにより、さら
に受渡速度の向上を図ることが可能となる。
In the substrate transfer mechanism, a buffer is provided on a support leg of the lifting mechanism that moves the mounting plate up and down. Therefore, regardless of the thickness of the substrate, when the substrate is transferred to the transfer means, even if the substrate contacts the transfer means, the impact can be reduced and the mechanical damage to the substrate can be minimized. Becomes Further, by adopting a configuration in which the substrate is mounted on the mounting plate and ascending, and having the buffer portion, it is possible to further improve the delivery speed.

【0040】 基板の受渡方法は、基板を送りローラ
上に受け取り、予備位置決めの際には、載置板の上に載
置して、移動機構により予備位置決めを行い、さらに、
搬送手段の受渡しの際には、載置板を昇降機構を介して
上昇させ、載置板に支持した基端を搬送手段に受け渡す
構成としている。そのため、基板の厚さに関わりなく適
切な予備位置決め作業を行った基板を、搬送手段に迅速
に受け渡すことが可能となる。
In the method of transferring the substrate, the substrate is received on a feed roller, and at the time of preliminary positioning, the substrate is placed on a mounting plate, and the preliminary positioning is performed by a moving mechanism.
At the time of delivery of the transfer means, the mounting plate is raised via the lifting mechanism, and the base end supported by the mounting plate is transferred to the transfer means. For this reason, it is possible to quickly transfer the substrate, which has been appropriately pre-positioned regardless of the thickness of the substrate, to the transporting means.

【0041】 予備位置決め機構は、送りローラ上に
受け取った基板を、載置板で載置した状態で移動機構の
押動部により予備位置決め作業を行う構成としている。
そのため、基板を予備位置決め位置に移動させる際に、
載置板上で行うため、基板の移動をスムーズに行うこと
ができ、基板の厚さに関わりなく予備位置決め作業を行
うことが可能となる。
The pre-positioning mechanism is configured to perform a pre-positioning operation by the pushing portion of the moving mechanism while the substrate received on the feed roller is mounted on the mounting plate.
Therefore, when moving the substrate to the preliminary positioning position,
Since the operation is performed on the mounting plate, the substrate can be smoothly moved, and the preliminary positioning operation can be performed regardless of the thickness of the substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の受渡機構の要部を示す送りローラを省
略した断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a main part of a delivery mechanism according to the present invention, in which a feed roller is omitted.

【図2】本発明の受渡機構の載置板の平面図である。FIG. 2 is a plan view of a mounting plate of the delivery mechanism of the present invention.

【図3】本発明の予備位置決め機構の移動機構を示す平
面図である。
FIG. 3 is a plan view showing a moving mechanism of a preliminary positioning mechanism according to the present invention.

【図4】本発明の基板の受渡作業および予備位置決め作
業を示す模式図である。
FIG. 4 is a schematic view showing a delivery operation and a preliminary positioning operation of a substrate according to the present invention.

【符号の説明】 1 受渡機構 2 載置板 3 支持脚 4 緩衝部 5 昇降機構 5A 駆動機構 6a 送りローラ 10 予備位置決め機構 11 移動機構 11a 押動部 12 移動機構 12a 押動部 13 移動機構 13a 押動部 14 移動機構 14a 押動部 20 ハンドラ(搬送手段) W 基板[Description of Signs] 1 Delivery mechanism 2 Placement plate 3 Support leg 4 Buffer unit 5 Elevating mechanism 5A Drive mechanism 6a Feed roller 10 Pre-positioning mechanism 11 Moving mechanism 11a Pushing unit 12 Moving mechanism 12a Pushing unit 13 Moving mechanism 13a Pushing Moving part 14 Moving mechanism 14a Pushing part 20 Handler (transporting means) W Substrate

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定パターンを露光して形成する基板を
各工程に搬送する搬送手段に受け渡す受渡機構におい
て、 前記搬送手段の移動経路の下方に配置され、前記基板を
移動させるための送りローラと、この送りローラの少な
くとも上端が突出できる貫通穴を有する載置板と、この
載置板を昇降させ、前記送りローラ上の基板を載置板上
に受け取ると共に、前記搬送手段にその載置板上の基板
を受け渡すための昇降機構とから構成されることを特徴
とする受渡機構。
1. A transfer mechanism for transferring a substrate formed by exposing a predetermined pattern to a transfer means for transferring the substrate to each step, wherein the feed roller is disposed below a movement path of the transfer means and moves the substrate. A mounting plate having a through-hole through which at least the upper end of the feed roller can protrude, raising and lowering the mounting plate, receiving the substrate on the feed roller on the mounting plate, and placing the substrate on the transfer means. A delivery mechanism comprising a lifting mechanism for delivering a substrate on a board.
【請求項2】 前記昇降機構は、載置板を支持する支持
脚と、この支持脚の移動方向に沿って設けられた緩衝部
と、前記載置板を所定の位置レベルで停止させるため
に、前記支持脚を上下動させる駆動機構を備えることを
特徴とする請求項1に記載の受渡機構。
2. The apparatus according to claim 1, wherein the lifting mechanism includes a support leg for supporting the mounting plate, a buffer provided along a moving direction of the support leg, and a stopper for stopping the mounting plate at a predetermined position level. The delivery mechanism according to claim 1, further comprising a drive mechanism that moves the support leg up and down.
【請求項3】 所定パターンを露光して形成する基板を
載置するための送りローラと、この送りローラの上端が
突出する貫通穴を備えると共に、予備位置決め用の貫通
長穴を備える載置板と、前記貫通長穴に沿って移動する
押動部を有する移動機構と、前記載置板を昇降させるた
めの昇降機構とを備え、 前記基板を予備位置決めする際は、前記載置板を前記送
りローラの上端より上昇させその載置板で前記基板を支
持し、前記移動機構を介して前記貫通長穴に沿って前記
押動部を移動させ、前記基板の端面を押動して基準位置
に予備位置決めを行うことを特徴とする予備位置決め機
構。
3. A mounting plate having a feed roller for mounting a substrate to be formed by exposing a predetermined pattern, a through hole from which the upper end of the feed roller projects, and a long through hole for preliminary positioning. And a moving mechanism having a pushing portion that moves along the through-hole, and an elevating mechanism for elevating and lowering the mounting plate, wherein when pre-positioning the substrate, the mounting plate is Raised from the upper end of the feed roller, supports the substrate by its mounting plate, moves the pushing portion along the through-hole through the moving mechanism, and pushes the end surface of the substrate to the reference position. A pre-positioning mechanism for performing pre-positioning on a surface.
【請求項4】 貫通穴および貫通長穴を備える載置板の
前記貫通穴から突出する送りローラの上に、所定パター
ンを露光して形成する基板を受け取る第1工程と、 前記載置板を昇降機構を介して上昇させ、送りローラか
ら載置板上に前記基板を載置する第2工程と、 前記載置板上の基板の端面を、前記貫通長穴から突出さ
せた押動部により押動し、前記基板を基準位置に予備位
置決めする第3工程と、 前記昇降機構を介して前記載置板をさらに上昇させ、待
機している搬送手段に受け渡す第4工程とからなること
を特徴とする受渡方法。
4. A first step of receiving a substrate formed by exposing a predetermined pattern on a feed roller protruding from the through hole of a mounting plate having a through hole and a through slot, A second step of raising the substrate via a lifting mechanism and mounting the substrate on a mounting plate from a feed roller, and a pressing portion that protrudes an end surface of the substrate on the mounting plate from the through-hole. A third step of pushing the substrate and preliminarily positioning the substrate at a reference position; and a fourth step of further raising the mounting plate via the elevating mechanism and transferring the mounting plate to a standby transport unit. Characteristic delivery method.
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