JP2019207175A - 測定装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】簡易な構成で高ロバストに光学特性を測定する測定装置を提供する。【解決手段】試料の光学特性を測定する測定装置であって、光源からの光を、開口部を介して試料に照射する照射部と、照射部により照射された光の試料からの反射光による像を得る撮像部と、撮像部の出力に基づいて試料の光学特性を得る処理部と、を備え、開口部は、複数の開口を含む。【選択図】図1
Description
本発明は、光学特性の測定装置に関する。
印刷物、塗装またはプラスチック材などの物体表面の光学特性は品質に関わる重要な要素であり、例えば、JISやISOでは、光沢等、物体表面や内部(試料)の光学特性を評価するための規格が設けられている。物体表面の光学特性の評価指標としては、例えば、鏡面光沢度、写像性、ヘイズなどがある。このような光学特性の測定装置として、散乱特性(BRDF)を取得してから多くの指標を一度に算出する汎用装置がある。
特許文献1は、ピンホールを2次光源とし、その像を撮像素子で取得する装置を開示している。ピンホールを2次光源としているため、角度分解能の高い散乱特性を取得しうるものの、光量を確保するには、ピンホールとコリメータレンズとの距離を大きくする必要があり、装置が大型化しうる。一方、大型化を抑えた測定として特許文献2や特許文献3がある。特許文献2では、有限開口を2次光源とし、開口像のボケを多画素素子で捉え、大型化を抑えつつ、複数種類の反射特性を測定可能としている。また、特許文献3では、有限開口を2次光源とし、基準となる開口像と測定による出力像のデコンボリューション演算を実施する際、ウィナーフィルタの係数を最適化することで、計算誤差を抑制している。
しかしながら、特許文献2および3では、大型化を抑制することは可能であるが、演算処理が複雑であり、ロバスト性が低い。
本発明は、簡易な構成で高ロバストに光学特性を測定する測定装置を提供することを例示的目的とする。
上記課題を解決するために、本発明は、試料の光学特性を測定する測定装置であって、光源からの光を、開口部を介して試料に照射する照射部と、照射部により照射された光の試料からの反射光による像を得る撮像部と、撮像部の出力に基づいて試料の光学特性を得る処理部と、を備え、開口部は、複数の開口を含む、ことを特徴とする。
本発明によれば、簡易な構成で高ロバストに光学特性を測定する測定装置が提供される。
以下、本発明を実施するための形態について図面などを参照して説明する。
(第1実施形態)
図1は、第1実施形態における光学特性の測定装置200の構成を説明する図である。図1(A)は、本実施形態における光学特性の測定装置200の概略構成図である。測定装置200は、投光系である照射部10、受光系である撮像部20、処理部4を備える。照射部10は、光源1、開口部201およびレンズ102を含む。
図1は、第1実施形態における光学特性の測定装置200の構成を説明する図である。図1(A)は、本実施形態における光学特性の測定装置200の概略構成図である。測定装置200は、投光系である照射部10、受光系である撮像部20、処理部4を備える。照射部10は、光源1、開口部201およびレンズ102を含む。
光源1は、例えば不図示の光学系を介して、開口部201の開口を照射する。光源1は、例えば、LEDが採用される。光源1は、例えば、後述する受光部3の分光感度特性を加味して、標準の光D65と分光視感効率V(λ)との組み合わせと略一致するように選定する。このほかにも、有効と判断される波長帯域が、予め決まっている場合は、その帯域に合わせて選定してもよい。開口部201は、複数の開口を含む。開口部201の詳細については後述する。開き角113は、レンズ102から視た場合の開口部201の開口の開き角(投光側の開き角)である。開口部201からの光束は、レンズ102で略平行な光束となり、試料2に照射される。
撮像部20は、レンズ103、受光部3を含む。撮像部20は、照射部10により照射された光の、試料2からの反射光による像を取得する。レンズ103は、レンズ102からの光111が試料2で正反射してなる正反射光112を受光するように構成されている。開き角114は、光学系の光学倍率と投光側の開き角113との積で決定される、レンズ103から視た場合の受光部3の受光領域の開き角(受光側の開き角)である。開口部201と受光部3とは、光学的に共役な関係にあるのが好ましい。
受光部3は、例えば、CCDまたはCMOS構造の固体撮像素子を含みうる。特に一素子が碁盤の目のように並んでいる構造が望ましい。受光部3は、電気ケーブル5を介して、処理部4(演算装置)に接続されている。受光部3に入射した光は、各画素毎に光電変換され、処理部4に伝送される。処理部4は入力された信号に基づき、例えば、散乱特性(BRDF)などの光学特性を得る。処理部4は、それには限定されないが、コンピュータ(またはCPUのようなデバイス(プロセッサ等)を含む情報処理装置)を含んで構成されうる。
ここで、開口部201の詳細について説明する。図1(B)は、第1実施形態における開口部201に含まれる複数の開口201aを示した図である。白抜き部が光を透過する開口201aである。開口201aは、開口部201に形成されているため、実際の開口201aの形状は、開口部201の厚みを含む立体形状となる。しかし、本実施形態においては、説明簡単のため、開口201aの形状という場合、開口部201の開口201aを有する面の方向から見た開口201aの平面形状を意味するものとする。図示したように、本実施形態の開口部201は、複数の異なる形状の開口201aを含む。開口部201は、例えば凸部を有する形状の開口201aを含む、または、五角形や六角形などの5つ以上の角を持つ形状の開口201aを含む、など、より複雑かつ異なる形状の開口201aの組合わせであることが望ましい。なお、開口部201は、三角形の開口201aを含んでいても良い。また、開口201aの形状および配置を含む開口部201の構成は、線対称の軸を1つのみ有する、または、180度と360度の2つの回転角度に関してのみ回転対称であることが望ましい。
。図1(C)は、開口部201において、開口201aが形成される範囲である開口範囲201bを示した図である。点線で示す開口範囲201bを6×6の領域に分割し、複数の開口を形成する。図1(D)は、開口範囲201bに複数の開口201aを形成した模式図である。例えば、開口範囲201bを1.2[mm]×1.2[mm]とすると、6×6に分割した各領域201cの大きさは、0.2[mm]×0.2[mm]となる。このような開口は、アルミなどの金属板に、エッチング、または、レーザー加工などの方法により形成することが可能である。また、ガラス板に蒸着したクロムなどの金属膜をエッチングして形成することも可能である。
開口範囲201bを開口の代表的な大きさと考えると、レンズ102の焦点距離と合わせて、投光側の開き角113が決まる。例えば、レンズ102の焦点距離を36[mm]とすると、tan^−1(1.2/36)=1.9[°]となる。これは、入射角度の分解能と解釈される。本実施形態では、入射面内方向と入射面に垂直な方向が同じ大きさの開口を採用しているが、入射面内方向に分解能が必要となるケースでは、入射面内方向の開口のサイズを制限してもよい。この場合は、長方形の開口範囲を設けることで、光量を確保することが可能である。
本実施形態では、同一サイズの領域201cを組み合わせて開口201aを形成しているが、複数の開口201aは、異なる大きさの要素を含むように構成してもよい。図1に示した開口201aの形状は、一例にすぎず、その他の組み合わせをとることも可能である。また、ここでは矩形の開口の組み合わせを例として挙げているが、円や、任意の多角形、任意の閉曲線で描かれる形状の組み合わせを用いてもよい。
次に、測定装置200における試料2の光学特性の測定方法について説明する。レンズ102は、開口部201から出射した光束が略平行光になるような位置、つまり、焦点距離と略一致するように配置される。レンズ102から投光された光束は、試料2の表面において試料2のBRDFに従い拡散反射される。このとき、不図示のレンズホルダなどにより略平行光束の大きさが決まる。例えば、レンズホルダの大きさを10[mm]×10[mm]とすると、同等の大きさの光束が投光される。入射角度が、例えば、60[°]とすると、試料2の表面では、20[mm]×10[mm]となる。測定される光学特性は、この範囲での平均的な値となる。
したがって、所望の測定範囲が予め決定している場合は、適宜、レンズホルダの形状により、投光する光束のサイズを調整することが可能である。複数の大きさを持つ開口部品を設けることで、投光する光束サイズを選択できるような構成をとることも可能である。また、説明のため、入射角度を60[°]の例を挙げたが、例えば、不図示の可動部を設けることで、入射角度、および、受光角度を可変に設定できるような光学系を採用することも可能である。また、予め複数の光学系を一体に構成することで、複数の入射角度と受光角度をもつ光学系を構成することも可能である。
試料2の表面で、拡散反射された光束の一部は、レンズ103によって集光され、受光部3に入射する。レンズ103の焦点距離と受光部3の有効領域の大きさにより、受光側の開き角114が決定される。例えば、レンズ103の焦点距離を、レンズ102と同じように、36[mm]として、受光器の有効領域が5[mm]×5[mm]の場合を考えると、受光側の開き角114は、tan^−1(5/36)=7.9[°]となる。このパラメータに関しても、所望の開き角、使用する受光器のサイズなどの情報から、適宜変更しうる。
ここで、従来の光学特性の取得方法について説明する。従来の測定装置は、本実施形態における測定装置200と開口部の構成が異なる。図1(E)は開口部101の模式図である。白抜き部が光を透過する開口を示している。従来の測定装置では1つの矩形の開口を用いている。
図2は、処理部4で実施されるBRDFの取得フローを説明する図である。工程S1では、開口部101の開口の情報である開口像G(x,y)と、試料2を介して撮像部20により得られる開口の像である出力像I(x,y)を取得する。開口像Gは、基準とするため、例えば、試料2として鏡面を用い測定した際の像や、別の撮像部により直接に開口を撮像して得られる像である。また、予め取得された設計値としての情報であっても良い。工程S2では、開口像Gと出力像Iをそれぞれフーリエ変換し、開口像Gの空間周波数像GFFTと出力像Iの空間周波数像IFFTを得る。GFFTとIFFTは光学特性の1つであるBRDFと以下の関係式で表すことができる。
ここでNm、Nnは、それぞれ受光部3の縦方向の画素数、横方向の画素数である。また、Nm0、Nn0はBRDFの中心座標を決める定数である。BFFTは、BRDFの空間周波数像である。式1の形態では、開口部101の開口が矩形形状をしているため、GFFT(m,n)が0の値になる場合があり、計算上発散しうる。これを回避する手段として、ウィナーフィルタを用いる。
式(2)において、cはウィナー係数であり、cによってフィルタのゲインが変化する。工程S3では、散乱度を求め、工程S4では、工程S3で求めた散乱度から空間周波数フィルタ(ウィーナーフィルタ)を決定する。工程S5では周波数空間のBRDFをフーリエ変換して、実空間に変換する。
図3は、従来の測定装置によるBRDF取得結果の一例を示した図である。図3(A)は、開口部101の開口像Gを示した図である。図3(B)は、試料2のBRDFを示した図である。図3(B)の縦軸は入射面内方向、横軸は入射面内に垂直な方向に対応し、範囲は図2に示す受光側の開き角114に対応する。また、白色部がBRDFの値が大きいことを意味し、黒色部が小さいことを意味している。ここでは、図を明確に表示するために、2値化したデータを示している。実際の分布は、例えば、ガウシアン分布に従う、なめらかに変化する連続量である。これは、他の図においても同様である。
図3(C)は、試料2を介して取得した、開口部101の出力像Iを示した図である。図3(D)〜(H)は、ウィナー係数cの値を変化させたときに得られるBRDF算出値を示した図である。図3(D)はc=10^−6、図3(E)はc=10^−5、図3(F)はc=10^−4、図3(G)はc=10^−3、図3(H)はc=10^−2、に対応する。従来の測定装置を用いて光学特性を得ると、c=10^−6が選択されることとなり、図3(D)のようなBRDFが得られる。これは、図3(D)〜(H)の中で、図3(B)に示した試料2のBRDFと最も一致することがわかる。
一方、ウィナー係数cが大きい場合に誤差が大きくなる。図3(E)〜(H)を参照すると、図3(F)のc=10^−4において顕著な誤差が発生しはじめ、図3(G)(H)では、さらに大きな誤差が生じている。図4は、拡散の強い試料2を用いた場合の従来の測定装置によるBRDF取得結果の一例を示した図である。図4(A)は、開口部101の開口像Gを示した図である。図4(B)は、拡散の強い試料2のBRDFを示した図である。図4(D)〜(H)は、ウィナー係数cの値を変化させたときに得られるBRDF算出値を示した図である。図4(D)はc=10^−6、図4(E)はc=10^−5、図4(F)はc=10^−4、図4(G)はc=10^−3、図4(H)はc=10^−2、に対応する。この場合は、c=10^−4である図4(F)が拡散の強い試料2のBRDF(図4(B))を最もよく再現し、その他のウィナー係数cの値を採用した場合は誤差が大きくなる。以上のように、従来の測定装置では、最適なウィナー係数を選択することで所望のBRDFを算出することが可能であるが、ウィナー係数cの選択に対するロバスト性が低い。
次に、上述した従来の光学特性の取得方法を、本実施形態の開口部201を有する測定装置200に適用した場合について説明する。図5は、第1実施形態における測定装置200によるBRDF取得結果の一例を示した図である。図5(A)は、開口部201を反映した開口像Gを示した図である。図5(A)は、試料2として鏡面を用い測定した際の像である。図1(B)に示した開口201aは、光源1により照射され、試料2を介して受光部3に結像する。図5(B)は、試料2のBRDFを示した図である。図5(B)は、縦軸は入射面内方向、横軸は入射面内に垂直な方向に対応し、範囲は受光側の開き角114に対応する。図5(B)示すようなBRDFをもつ試料2を用いた際に、図5(C)に示した出力像Iが得られる。図5のケースで用いた試料2は、従来例の図3で用いた試料2と同じものである。したがって、図5(B)に示したBRDFは、従来例の図3(B)のBRDFと同一である。
図5(A)と図5(C)とを比較すると、開口201aのエッジ部分に差がみられる。これが、試料2のBRDFにより散乱された状態を反映している。図5(C)で示される光量分布は、受光部3により光電変換された後、電気ケーブル5により処理部4に伝送され、処理部4にてBRDFの取得が実施される。処理部4では、図5(A)と図5(C)の情報からBRDFが取得される。
図5(D)〜(H)は、ウィナー係数cの値を変化させたときに得られるBRDF算出値を示した図である。図5(D)はc=10^−6、図5(E)はc=10^−5、図5(F)はc=10^−4、図5(G)はc=10^−3、図5(H)はc=10^−2、に対応する。本実施形態の測定装置200によるBRDF取得結果(図5(D)〜(H))と、従来の測定装置によるBRDF取得結果(図3(D)〜(H))を比較すると、図5で示した結果は、明らかにウィナー係数cに対してロバスト性が高いことがわかる。図3のケースでは、ウィナー係数の最適値はc=10^−6の場合(図3(D))のみだが、図5のケースでは、10^−6〜10^−3(図5(D)〜(G)の範囲で妥当なBRDFの取得が実現できる。
図6は、拡散の強い試料2を用いた場合の第1実施形態における測定装置200によるBRDF取得結果の一例を示した図である。図6(A)は、開口部201の開口像Gを示した図である。図6(B)は、拡散の強い試料2のBRDFを示した図である。図6で用いた試料2は、図4で用いた試料2と同一のものであるため、図6(B)に示したBRDFは、従来例の図4(B)のBRDFと同一である。図6(D)〜(H)は、ウィナー係数cの値を変化させたときに得られるBRDF算出値を示した図である。図6(D)はc=10^−6、図6(E)はc=10^−5、図6(F)はc=10^−4、図6(G)はc=10^−3、図6(H)はc=10^−2、に対応する。
図6(D)〜(H)と図4(D)〜(H)とを比較すると、図5と図3との比較の場合と同様に、図6で示した結果は、明らかにウィナー係数cに対してロバスト性が高いことがわかる。図4におけるウィナー係数の最適値はc=10^−4の場合(図4(F))のみだが、図6のケースでは、10^−5〜10^−2(図6(E)〜(H))の範囲で妥当なBRDF取得が実現できる。
ここで、開口部201を用いたことにより、ロバスト性が向上する原理について説明する。図7は、式(2)のGFFTのパワースペクトルを示した図である。図7(A)は、従来の測定装置を用いた図3のケースに、図7(B)は、本実施形態の測定装置200を用いた図5のケースに、それぞれ該当する。図7(A)および(B)は、図の中心が直流成分に対応し、外側に向かって空間周波数が高くなる。強度が大きい部分を白く表示している。図中の黒い部分は0に近い値である。式(2)は、GFFTによる割り算を意味しており、ウィナー係数cは黒い部分での発散を防ぐために用いられる。図7(A)、(B)を比較すると、本実施形態の測定装置200を用いた場合(図7(B))のほうが、0ではない白い部分が多く、発散しにくい状態であることがわかる。これが、本実施形態で用いた開口201aが、ウィナー係数の値に対するロバスト性を向上させる要因となっている。
このように、図1(B)に示したような開口201aを採用することで、従来の単純な矩形形状の場合と比較して、ウィナー係数の選択に対して高ロバストなBRDFの取得が実現できることがわかる。ウィナー係数は、式(1)のGFFT(m,n)が0の値になる場合に発散を防止するために導入されている。今回採用した開口形状を用いると、GFFT(m,n)が0の値になる頻度を減少させることができるため、ウィナー係数cの値によらず、計算上発散を抑制することが可能となり、ロバスト性が向上する。
以上のように、本発明で示した複数の分割された開口を開口部に採用することで、高ロバストなBRDF取得が可能となる。さらに、本実施形態の開口部201を用いることで、ウィナー係数を固定することも可能である。図8は、ウィナー係数を固定した場合のBRDFの取得フローを説明する図である。予め決められたウィナー係数を適用することで、散乱に応じたウィナー係数を選択する工程(図2中、工程S3および工程S4)を省略することが可能となる。工程S1および工程S2は、図2の説明と同様であるため、説明を省略する。ウィナー係数を固定する場合、工程S5において、予め決められた係数を用いて、ウィナーフィルタを構成する。ここでは、一例として、c=10^−4とする。次に、フィルタリング処理を実施した後、逆フーリエ変換を実施することで、実空間でのBRDFを取得する。このように、取得工程を簡略化することで、測定装置200の処理時間を低減させることが可能となる。
なお、図9は、複数の開口201aの形状および配置について説明する図である。図9(A)は、上述した開口部201の開口201aとは異なる形状および配置の開口部を反映した開口像Gを示した図である。図9(A)に示す開口像Gの開口部は、複数の同一形状の矩形から構成され、開口の形状および配置を含む開口部の構成は、軸L1および軸L2を線対称の軸とする、線対称となっている。図9(A)に示した開口は、光源1により照射され、試料2を介して受光部3に結像する。図9(B)は、試料2のBRDFを示した図である。図9(B)示すようなBRDFをもつ試料2を用いた際に、図9(C)に示した出力像Iが得られる。図9のケースで用いた試料2は、図5で用いた試料2と同じものである。したがって、図9(B)に示したBRDFは、図5(B)のBRDFと同一である。
図9(D)〜(H)は、ウィナー係数cの値を変化させたときに得られるBRDF算出値を示した図である。図9(D)はc=10^−6、図9(E)はc=10^−5、図9(F)はc=10^−4、図9(G)はc=10^−3、図9(H)はc=10^−2、に対応する。図9(D)〜(H)を見ると、特に、図9(G)、(H)の場合に、誤差が大きくなっている。これは、上述した式(1)のGFFT(m,n)で記述される周波数空間での強度分布に、対称性を反映した分布が生じることで、BRDF取得結果に、その影響が表れてしまうためである。
一方、図1(B)に示した複数の開口201aは、2以上の互いに異なる形状の開口を含み、全体を見た場合に複数の開口201aの形状および配置は、線対称の軸を1つも有さず、いずれの中心軸においても線対称ではない。言い換えると、(複数の開口を含む)開口部は、1つ1つの開口の位置や形状を含めた全体として非対称な形状(線対称でも点対称でも回転対称でもない形状)をしている。また、複数の開口201aは矩形以外の形状である、凸部を有するL字型の開口も含んでいる。なお、ここで凸部を有する開口とは、中央の辺が両端の辺よりも突出している形状のみならず、L字のような一辺のみが他辺よりも突出している形状も含むものとする。これは、周波数空間において、対称性等に起因する強度分布が生じないことにより、BRDFの算出結果にも大きな誤差が生じないためである。以上のように、複数に開口201aの形状および配置について、線対称の軸が1つ以下である、単なる矩形ではなく凸部を有する開口を含む、それぞれの開口の形状が互いに異なる、などの場合のほうが誤差の小さいBRDF演算を実現するために望ましい。
(第2実施形態)
以下、第2実施形態の光学特性の測定装置について説明する。第2実施形態として言及しない事項は、第1実施形態に従う。第2実施形態の開口部は、非線対称形状の開口を有する。ここで、非線対称形状とは、線対称の軸となる中心軸を1つも有さない形状のことである。なお、第2実施形態における光学特性の測定装置のうち、開口部以外の構成は、第1実施形態と同様である。また、本実施形態においても、説明簡単のため、開口の形状という場合、開口部の開口を有する面の方向から見た開口の平面形状を意味するものとする。
以下、第2実施形態の光学特性の測定装置について説明する。第2実施形態として言及しない事項は、第1実施形態に従う。第2実施形態の開口部は、非線対称形状の開口を有する。ここで、非線対称形状とは、線対称の軸となる中心軸を1つも有さない形状のことである。なお、第2実施形態における光学特性の測定装置のうち、開口部以外の構成は、第1実施形態と同様である。また、本実施形態においても、説明簡単のため、開口の形状という場合、開口部の開口を有する面の方向から見た開口の平面形状を意味するものとする。
図10は、第2実施形態における開口像Gの拡大図である。図10(A)は、線分で囲まれた1つの開口を有する開口部301の一例を示す図である。開口部301の開口は、両端の限られた直線である複数の線分で囲まれた、非線対称形状である。また、開口部301の開口は、互いに異なる形状の凹凸を含んでいる。なお、ここで異なる形状の凹凸とは、凹凸大きさや形状が異なる場合のみならず、凸部の突出する方向や凹部の窪む方向が異なる場合も含むものとする。図10(B)は、曲線を含む1つの開口を有する開口部401の一例を示すである。開口部401の開口は、曲線を含む、非線対称形状である。また、開口部401の開口も同様に、互いに異なる形状の凹凸を含んでいる。図11は、第2実施形態における開口301を用いたBRDF取得結果の一例を示した図である。図11(A)は、開口部301を反映した開口像Gを示した図である。図11(B)は、試料2のBRDFを示した図である。なお、図11のケースで用いた試料2は、第1実施形態の図3および図5で用いた試料2と同じものである。したがって、図11(B)に示したBRDFは、第1実施形態の図3(B)および図5(B)のBRDFと同一である。
図11(C)は、試料2を介して取得した、開口部301の出力像Iを示した図である。図11(D)〜(H)は、ウィナー係数cの値を変化させたときに得られるBRDF算出値を示した図である。図11(D)はc=10^−6、図11(E)はc=10^−5、図11(F)はc=10^−4、図11(G)はc=10^−3、図11(H)はc=10^−2、に対応する。図11のケースでも、10^−6〜10^−3(図11(D)〜(G)の範囲で妥当なBRDFの取得が実現できることがわかる。
図12は、第2実施形態に係る開口401を用いたBRDF取得結果の一例を示した図である。図12(A)は、開口部301を反映した開口像Gを示した図である。図12(B)は、試料2のBRDFを示した図である。なお、図12のケースにおいても、用いた試料2は、第1実施形態の図3、図5および本実施形態の図11で用いた試料2と同じものである。したがって、図12(B)に示したBRDFは、第1実施形態の図3(B)、図5(B)および本実施形態の図11(B)のBRDFと同一である。
図12(C)は、試料2を介して取得した、開口部301の出力像Iを示した図である。図12(D)〜(H)は、ウィナー係数cの値を変化させたときに得られるBRDF算出値を示した図である。図12(D)はc=10^−6、図12(E)はc=10^−5、図12(F)はc=10^−4、図12(G)はc=10^−3、図12(H)はc=10^−2、に対応する。図12のケースでも、10^−6〜10^−3(図12(D)〜(G)の範囲で妥当なBRDFの取得が実現できることがわかる。
開口部301および401のそれぞれにおいて、第1実施形態の説明において従来例として示した図3の単純な矩形開口を開口部に用いた場合と比較して、誤差の小さいBRDFの取得が実現できることがわかる。本実施形態のような開口を採用した場合も、第1実施形態で示した開口の場合と同様に、式(1)のGFFT(m,n)の計算上の発散を抑制する効果があるためである。
また、本実施形態の場合でも、第1実施形態の場合と同様に、非線対称形状の1つの開口は、互いに異なる形状の凹凸を含むなど、より複雑な開口であることが望ましい。以上のように、1つの開口であっても、特殊な形状とすることで、高ロバストなBRDFの取得が可能となる。なお、本実施形態の場合も、第1実施形態の場合と同様に、ウィナー係数を固定して、図8に示した演算フローを適用することが可能である。この場合も同様に、計算工程を簡略化することで、処理時間を低減させることが可能となる。
(その他の実施形態)
以上、本発明の実施の形態を説明してきたが、本発明はこれらの実施の形態に限定されず、その要旨の範囲内において様々な変更が可能である。
以上、本発明の実施の形態を説明してきたが、本発明はこれらの実施の形態に限定されず、その要旨の範囲内において様々な変更が可能である。
1 光源
3 受光部
4 処理部
10 照射部
20 撮像部
200 測定装置
201 開口部
3 受光部
4 処理部
10 照射部
20 撮像部
200 測定装置
201 開口部
Claims (16)
- 試料の光学特性を測定する測定装置であって、
光源からの光を、開口部を介して前記試料に照射する照射部と、
前記照射部により照射された光の前記試料からの反射光による像を得る撮像部と、
前記撮像部の出力に基づいて前記試料の光学特性を得る処理部と、を備え、
前記開口部は、複数の開口を含む、ことを特徴とする測定装置。 - 前記複数の開口は、2以上の互いに異なる形状を含む、ことを特徴とする請求項1に記載の測定装置。
- 前記複数の開口は、それぞれの形状が互いに異なることを特徴とする請求項1または2に記載の測定装置。
- 前記複数の開口のうちの1つの開口の形状は、5つ以上の角を持つ形状であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の測定装置。
- 前記複数の開口のうちの1つの開口の形状は、三角形であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の測定装置。
- 前記開口部は非対称である、ことを特徴とする請求項1乃至5いずれか1項に記載の測定装置。
- 前記開口部は、線対称でも、点対称でも、回転対称でもないことを特徴とする請求項1乃至6いずれか1項に記載の測定装置。
- 前記開口部は、線対称の軸を1つのみ有する、または、180度と360度の2つの回転角度に関してのみ回転対称である、ことを特徴とする請求項1乃至5いずれか1項に記載の測定装置。
- 前記開口の形状および配置を含む前記開口部の構成は、線対称の軸が1つ以下である、ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の測定装置。
- 試料の光学特性を測定する測定装置であって、
光源からの光を、開口部を介して前記試料に照射する照射部と、
前記照射部により照射された光の前記試料からの反射光による像を撮る撮像部と、
前記撮像部の出力に基づいて前記試料の光学特性を得る処理部と、を備え、
前記開口部は、非線対称である1つの開口を有する、ことを特徴とする測定装置。 - 前記1つの開口は、互いに異なる形状の凹凸を含む、ことを特徴とする請求項10に記載の測定装置。
- 前記1つの開口は、線分で囲まれた形状である、ことを特徴とする請求項10または11に記載の測定装置。
- 前記1つの開口は、曲線を含む、ことを特徴とする請求項10または11に記載の測定装置。
- 前記処理部は、前記開口部の開口像および前記像のフーリエ変換に基づいて、ウィナーフィルタの係数を決定し、
前記係数の決定されたウィナーフィルタと、前記フーリエ変換とに基づいて、前記光学特性を得る、ことを特徴とする請求項1乃至13のいずれか1項に記載の測定装置。 - 前記処理部は、予め決められたウィナーフィルタの係数と、前記開口部の開口像および前記像のフーリエ変換と、に基づいて、前記光学特性を得る、ことを特徴とする請求項1乃至13のいずれか1項に記載の測定装置。
- 前記撮像部で取得する前記反射光は、前記照射部から前記試料へ入射する光の正反射光を含む、ことを特徴とする請求項1乃至15のいずれか1項に記載の測定装置。
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