JP2019197825A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019197825A5 JP2019197825A5 JP2018091424A JP2018091424A JP2019197825A5 JP 2019197825 A5 JP2019197825 A5 JP 2019197825A5 JP 2018091424 A JP2018091424 A JP 2018091424A JP 2018091424 A JP2018091424 A JP 2018091424A JP 2019197825 A5 JP2019197825 A5 JP 2019197825A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- workpiece
- chip
- holding
- dividing
- laser processing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- 230000002093 peripheral Effects 0.000 claims description 7
- 230000003014 reinforcing Effects 0.000 claims description 6
- 230000001678 irradiating Effects 0.000 claims description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims 2
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 claims 1
- 238000004642 transportation engineering Methods 0.000 description 1
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018091424A JP7139036B2 (ja) | 2018-05-10 | 2018-05-10 | チップの製造方法 |
CN201910349136.6A CN110491784B (zh) | 2018-05-10 | 2019-04-28 | 芯片的制造方法 |
KR1020190053776A KR102682696B1 (ko) | 2018-05-10 | 2019-05-08 | 칩의 제조 방법 |
TW108115883A TWI786292B (zh) | 2018-05-10 | 2019-05-08 | 晶片的製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018091424A JP7139036B2 (ja) | 2018-05-10 | 2018-05-10 | チップの製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019197825A JP2019197825A (ja) | 2019-11-14 |
JP2019197825A5 true JP2019197825A5 (pt) | 2020-03-05 |
JP7139036B2 JP7139036B2 (ja) | 2022-09-20 |
Family
ID=68537557
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018091424A Active JP7139036B2 (ja) | 2018-05-10 | 2018-05-10 | チップの製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7139036B2 (pt) |
KR (1) | KR102682696B1 (pt) |
CN (1) | CN110491784B (pt) |
TW (1) | TWI786292B (pt) |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3408805B2 (ja) | 2000-09-13 | 2003-05-19 | 浜松ホトニクス株式会社 | 切断起点領域形成方法及び加工対象物切断方法 |
JP2003088973A (ja) | 2001-09-12 | 2003-03-25 | Hamamatsu Photonics Kk | レーザ加工方法 |
JP2003088974A (ja) | 2001-09-12 | 2003-03-25 | Hamamatsu Photonics Kk | レーザ加工方法 |
JP2003088977A (ja) * | 2002-03-29 | 2003-03-25 | Hamamatsu Photonics Kk | レーザ加工方法 |
JP2005086175A (ja) * | 2003-09-11 | 2005-03-31 | Hamamatsu Photonics Kk | 半導体薄膜の製造方法、半導体薄膜、半導体薄膜チップ、電子管、及び光検出素子 |
JP5318544B2 (ja) | 2008-12-01 | 2013-10-16 | 株式会社ディスコ | レーザ加工装置 |
JP5791866B2 (ja) | 2009-03-06 | 2015-10-07 | 株式会社ディスコ | ワーク分割装置 |
JP5964580B2 (ja) * | 2011-12-26 | 2016-08-03 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
JP2013236001A (ja) * | 2012-05-10 | 2013-11-21 | Disco Abrasive Syst Ltd | 板状物の分割方法 |
JP2014199834A (ja) | 2013-03-29 | 2014-10-23 | 株式会社ディスコ | 保持手段及び加工方法 |
JP2014236034A (ja) | 2013-05-31 | 2014-12-15 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
JP6504686B2 (ja) | 2013-09-20 | 2019-04-24 | 株式会社東京精密 | レーザーダイシング装置及びレーザーダイシング方法 |
JP6295154B2 (ja) | 2014-07-18 | 2018-03-14 | 株式会社ディスコ | ウェーハの分割方法 |
-
2018
- 2018-05-10 JP JP2018091424A patent/JP7139036B2/ja active Active
-
2019
- 2019-04-28 CN CN201910349136.6A patent/CN110491784B/zh active Active
- 2019-05-08 TW TW108115883A patent/TWI786292B/zh active
- 2019-05-08 KR KR1020190053776A patent/KR102682696B1/ko active IP Right Grant
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6899653B2 (ja) | レーザー処理及び温度誘導ストレスを用いた複合ウェハー製造方法 | |
JP6053381B2 (ja) | ウェーハの分割方法 | |
JP2007142206A5 (pt) | ||
KR102429205B1 (ko) | 웨이퍼의 가공 방법 | |
JP2019079917A5 (pt) | ||
JP6008541B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
KR20160110150A (ko) | 보호 부재의 형성 방법 | |
JP6679156B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
KR102345170B1 (ko) | 기판의 가공방법 | |
JP2019220581A5 (pt) | ||
TW201613713A (en) | Wafer processing method | |
JP2019061980A5 (pt) | ||
JP2017107903A (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP2019040910A5 (pt) | ||
JP2018206965A5 (pt) | ||
JP2018206941A5 (pt) | ||
JP2019197825A5 (pt) | ||
JP2019197858A5 (pt) | ||
JP2019024048A5 (pt) | ||
JP2019186421A5 (pt) | ||
JP2019036680A5 (pt) | ||
JP6370648B2 (ja) | ワークの分割方法 | |
TW201438084A (zh) | 積層晶圓之加工方法 | |
TWI744499B (zh) | 晶圓的雷射加工方法 | |
US20180134607A1 (en) | Substrate processing method |