JP2019178003A - 供給システムおよび供給システムの制御方法 - Google Patents
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- スラリー状物質であるかスラリー状物質を含む処理対象物を、前記処理対象物を処理する処理用容器に供給する供給システムにおいて、
前記処理対象物の供給路に設けられる充填領域に前記処理対象物を圧送する圧送装置と、
前記充填領域に圧送された前記処理対象物を前記処理用容器に送り出すスクリューコンベヤと、
前記充填領域の圧力と前記処理用容器の圧力との圧力差を計測する計測機構と、
前記計測機構で計測された前記圧力差に基づいて前記スクリューコンベヤの回転数を調節することで、前記充填領域の圧力を前記処理用容器の圧力より高く維持する制御装置と
を有することを特徴とする供給システム。 - 請求項1に記載の供給システムにおいて、
前記制御装置は、前記圧力差が第1設定値より小さい場合、前記回転数を下げ、前記圧力差が前記第1設定値以上である第2設定値より大きい場合、前記回転数を上げることを特徴とする供給システム。 - 請求項2に記載の供給システムにおいて、
前記制御装置は、前記回転数をゼロに設定しても前記圧力差が第1設定値より小さい場合、前記回転数を負に設定して前記スクリューコンベヤを逆回転させることを特徴とする供給システム。 - 請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の供給システムにおいて、
前記処理対象物の投入口と前記スクリューコンベヤとの間に設けられる前記処理対象物の流路を遮断可能な第1遮断機構を有し、
前記制御装置は、前記圧力差が予め設定された下限値を下回った場合、前記第1遮断機構により前記流路を遮断することを特徴とする供給システム。 - 請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の供給システムにおいて、
前記制御装置は、前記スクリューコンベヤの前記回転数を下げる場合、前記圧送装置による前記処理対象物の搬送能力を上げることを特徴とする供給システム。 - 請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の供給システムにおいて、
前記スラリー状物質を前記圧送装置に供給する第1供給装置と、
前記処理対象物に含まれる固形物質を大気圧下で搬送し前記圧送装置に供給する第2供給装置と
を有し、
前記圧送装置は、前記スラリー状物質と前記固形物質とを混合することで前記処理対象物を生成する機能を有することを特徴とする供給システム。 - 請求項6に記載の供給システムにおいて、
前記第2供給装置と前記圧送装置との間に設けられる前記固形物質の流路を遮断可能な第2遮断機構を有し、
前記制御装置は、前記圧力差が予め設定された下限値を下回った場合、前記第2遮断機構により前記固形物質の流路を遮断し、前記第1供給装置から下流を大気圧とは異なる圧に保つことができることを特徴とする供給システム。 - 請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の供給システムにおいて、
前記処理用容器は、中で前記処理対象物を化学反応させる反応容器であることを特徴とする供給システム。 - 請求項8に記載の供給システムにおいて、
前記化学反応は燃焼であり、前記反応容器は炉であることを特徴とする供給システム。 - スラリー状物質であるかスラリー状物質を含む処理対象物を前記処理対象物の供給路に設けられる充填領域に圧送する圧送装置と、前記充填領域に圧送された前記処理対象物を、前記処理対象物を処理する処理用容器に送り出すスクリューコンベヤとを有する供給システムの制御方法において、
前記充填領域の圧力と前記処理用容器の圧力との圧力差を計測し、
計測された前記圧力差に基づいて前記スクリューコンベヤの回転数を調節することで、前記充填領域の圧力を前記処理用容器の圧力より高く維持することを特徴とする供給システムの制御方法。 - 請求項10に記載の供給システムの制御方法において、
前記圧力差が第1設定値より小さい場合、前記回転数を下げ、前記圧力差が前記第1設定値以上である第2設定値より大きい場合、前記回転数を上げることを特徴とする供給システムの制御方法。 - 請求項11に記載の供給システムの制御方法において、
前記回転数をゼロに設定しても前記圧力差が第1設定値より小さい場合、前記回転数を負に設定して前記スクリューコンベヤを逆回転させることを特徴とする供給システムの制御方法。 - 請求項10乃至請求項12のいずれか1項に記載の供給システムの制御方法において、
前記圧力差が予め設定された下限値を下回った場合、前記処理対象物の投入口と前記スクリューコンベヤとの間に設けられる前記処理対象物の流路を第1遮断機構により遮断することを特徴とする供給システムの制御方法。 - 請求項10乃至請求項13のいずれか1項に記載の供給システムの制御方法において、
前記スクリューコンベヤの前記回転数を下げる場合、前記圧送装置による前記処理対象物の搬送能力を上げることを特徴とする供給システムの制御方法。 - 請求項10乃至請求項14のいずれか1項に記載の供給システムの制御方法において、
前記供給システムは、前記スラリー状物質を前記圧送装置に供給する第1供給装置と、前記処理対象物に含まれる固形物質を大気圧下で搬送し前記圧送装置に供給する第2供給装置とを有し、
前記圧送装置は、前記スラリー状物質と前記固形物質とを混合することで前記処理対象物を生成する機能を有し、
前記圧力差が予め設定された下限値を下回った場合、前記第2供給装置と前記圧送装置との間に設けられる前記固形物質の流路を第2遮断機構により遮断して、前記第1供給装置から下流を大気圧とは異なる圧に保つことができることを特徴とする供給システムの制御方法。 - 請求項10乃至請求項15のいずれか1項に記載の供給システムの制御方法において、
前記処理用容器は、中で前記処理対象物を化学反応させる反応容器であることを特徴とする供給システムの制御方法。 - 請求項16に記載の供給システムの制御方法において、
前記化学反応は燃焼であり、前記反応容器は炉であることを特徴とする供給システムの制御方法。
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