JP2019162568A - 排ガス処理装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】洗浄液による排ガス中の有害成分の吸収効率を向上させることで、処理時間を短縮でき、かつ吸収塔などを含む排ガス処理装置のコンパクト化を可能にする。【解決手段】一実施形態に係る排ガス処理装置は、排ガスと洗浄液とを接触させ前記排ガスに含まれる有害成分を吸収除去する排ガス処理装置であって、内部空間が形成された吸収塔本体と、前記内部空間で前記洗浄液を噴霧するスプレイ部と、前記内部空間で旋回するように前記排ガスを導入する排ガス導入部と、を備え、前記吸収塔本体の前記内部空間に面した内周面に凹凸が形成される。【選択図】図2

Description

本開示は、排ガス処理装置に関する。
内燃機関などから排出される排ガス中のSOなどの有害成分を海水などの洗浄液で吸収して除去するための除去装置として、サイクロンスクラバを用いた排ガス処理装置が知られている(例えば、特許文献1)。
この種の排ガス処理装置は、吸収塔の内部に海水などの洗浄液を噴霧し、吸収塔の底部から上部に排ガスを通過させて洗浄液と反応させ、排ガス中の有害成分を除去する。従って、有害成分の除去率を向上させるひとつの手段として、排ガスと洗浄液との接触性を高める方法が考えられる。特許文献1では、吸収塔の内部で排ガスを螺旋状に旋回させると共に、排ガス流路における洗浄液噴霧用ノズル管の配置によって、排ガスが高さ方向へ直進するのを妨げ、これによって、排ガスが洗浄液と接触する時間を長くすることで、洗浄効率を向上させることが記載されている。
特開2016−155075号公報
排ガスに含まれる有害成分の洗浄効率を向上させることで、排ガスの処理時間を短縮でき、かつ吸収塔などを含む排ガス処理装置のコンパクト化が可能になる。そのため、さらなる洗浄効率の向上が望まれている。
一実施形態は、洗浄液による排ガス中の有害成分の吸収効率を向上させることで、処理時間を短縮でき、かつ吸収塔などを含む排ガス処理装置のコンパクト化を可能にすることを目的とする。
(1)一実施形態に係る排ガス処理装置は、
排ガスと洗浄液とを接触させ前記排ガス中の有害成分を吸収除去する排ガス処理装置であって、
内部空間が形成された吸収塔本体と、
前記内部空間に前記洗浄液を噴霧するスプレイ部と、
前記内部空間で旋回するように排ガスを導入する排ガス導入部と、
を備え、
前記吸収塔本体の前記内部空間に面した内周面に凹凸が形成される。
上記(1)の構成によれば、上記排ガス導入部から吸収塔本体の内部空間に導入される排ガスは該内部空間で旋回するため、該内部空間に面した内周面に偏って流れる。吸収塔本体の内周面に凹凸が形成されることで、内周面を伝う洗浄液と排ガスとが接触する接触面積(以下、単に「接触面積」とも言う。)が増加する。これによって、洗浄液と排ガスとの接触性が高まるため、排ガス中の有害成分を除去する除去効率(以下「洗浄効率」とも言う。)を向上できる。また、洗浄効率が高まることで、排ガスの処理時間を短縮でき、かつ吸収塔などを含む排ガス処理装置のコンパクト化が可能になる。
また、駆動力を要する装置を追設したり、吸収塔本体の内部空間に何らかの構造物を設けることなく、簡易な手段で接触面積を増加できる。
(2)一実施形態では、前記(1)の構成において、
前記排ガス導入部は、前記吸収塔本体の下部に設けられると共に、前記吸収塔本体の最上部に排ガス排出部が設けられ、前記排ガス導入部から導入された前記排ガスは前記内部空間で旋回しながら上昇するように構成され、
前記凹凸は、前記スプレイ部から噴霧される前記洗浄液の液膜が形成される前記内周面に形成される。
上記(2)の構成によれば、上記凹凸がスプレイ部から噴霧される洗浄液の液膜が形成される吸収塔の内周面に形成されるため、該内周面を伝う洗浄液と排ガスとが接触する接触面積を増加できる。これによって、洗浄液と排ガスとの接触性が高まり、排ガスの洗浄効率を向上できる。
(3)一実施形態では、前記(1)又は(2)の構成において、
前記スプレイ部、前記凹凸が形成された前記内周面及び前記排ガス導入部より上方の前記内部空間に設けられるミストエリミネータを備える。
上記(3)の構成によれば、吸収塔本体内で上昇する排ガスの最下流側に設けられたミストエリミネータによって排ガスから有害成分を吸収した洗浄液のミスト(液分)を除去できるため、浄化された排ガスのみを外部に放出できる。
(4)一実施形態では、前記(1)〜(3)の何れかの構成において、
前記凹凸は、前記吸収塔本体の周方向に沿って形成され、前記吸収塔本体の軸方向から視認したとき前記内周面の周方向全域に亘り延在する1個以上の溝を含んで構成される。
上記(4)の構成によれば、上記凹凸が吸収塔本体の周方向に沿って内周面の全周に亘り延在する1個以上の溝を含んで構成されるため、内周面を伝う洗浄液と排ガスとが接触する接触面積を増加でき、これによって、排ガスの洗浄効率を向上できる。
(5)一実施形態では、前記(1)〜(3)の何れかの構成において、
前記凹凸は、前記吸収塔本体の軸方向に沿って形成され、前記吸収塔本体の軸方向から視認したとき前記内周面の周方向全域に亘り設けられる1個以上の溝を含んで構成される。
上記(5)の構成によれば、上記凹凸が吸収塔本体の軸方向に沿って形成されかつ内周面の全周に亘り設けられる1個以上の溝を含んで構成されるため、内周面を伝う洗浄液と排ガスとが接触する接触面積を増加でき、これによって、排ガスの洗浄効率を向上できる。
(6)一実施形態では、前記(1)〜(3)の何れかの構成において、
前記凹凸は、前記内周面の周方向全域に亘り設けられ前記内周面に螺旋状に形成される1個以上の螺旋溝を含んで構成される。
上記(6)の構成によれば、上記凹凸は、吸収塔本体の内周面に周方向全域に亘り形成される1個以上の螺旋溝を含んで構成されるため、内周面を伝う洗浄液と排ガスとが接触する接触面積を増加でき、これによって、排ガスの洗浄効率を向上できる。また、螺旋状溝は溝の形成が容易である。
螺旋溝が排ガスの旋回方向と同一方向に形成されたとき、螺旋溝が排ガスの旋回方向と異なる方向へ形成された場合と比べて旋回の減衰を小さくできる。
(7)一実施形態では、前記(1)〜(3)の何れかの構成において、
前記凹凸は、前記内周面に分散して形成され、前記吸収塔本体の軸方向から視認したとき前記内周面の周方向全域に亘り設けられる複数の第1凸部を含んで構成される。
上記(7)の構成によれば、上記凹凸は、上記第1凸部を含んで構成されるため、内周面を伝う洗浄液と排ガスとが接触する接触面積を増加でき、これによって、排ガスの洗浄効率を向上できる。
(8)一実施形態では、前記(1)〜(7)の何れかの構成において、
前記排ガス導入部は、前記吸収塔本体に接続される排ガス導入管で構成され、
前記排ガス導入管は前記吸収塔本体との接続部に設けられる直線形状の直管部を含んで構成され、
該直管部は、前記直管部の内周面に分散して配置された複数の第2凸部を有する。
上記(8)の構成によれば、上記直管部の内周面に複数の第2凸部が分散して設けられるため、直管部を流れる排ガスの偏流を抑制できる。これによって、直管部を流れる排ガスに含まれる有害成分の濃度分布及び流速分布の偏りを抑制しながら排ガスを吸収塔本体に導入できるので、吸収塔本体の内部空間における排ガスと洗浄液との接触性を高め、排ガスの洗浄効率を向上できる。
(9)一実施形態では、前記(7)の構成において、
前記スプレイ部は、前記複数の第1凸部の各々に設けられる。
上記(9)の構成によれば、吸収塔本体の内周面に設けられた第1凸部にスプレイ部を設けるため、吸収塔本体の内部空間の中央部にスプレイ部を設ける必要がなくなる。これによって、洗浄液と排ガスとを接触させるスペースを増やすことができるため、排ガスと洗浄液との接触性を高め、排ガスの洗浄効率を向上できる。
また、排ガスが吸収塔本体の内部空間で旋回するとき、排ガスは内周面側へ偏る。従って、第1凸部に設けられたスプレイ部の洗浄液放出口を内周面側へ向け、内周面側へ密に洗浄液が行き渡るようにすれば、排ガスが多い領域に多くの洗浄液を放出できるため、洗浄効率を向上できる。
(10)一実施形態では、前記(9)の構成において、
前記スプレイ部は、前記複数の第1凸部の各々から前記排ガスの旋回方向へ向けて前記洗浄液を噴霧するように構成される。
排ガスの旋回力は、吸収塔本体の内部空間で洗浄液と排ガスとが接触することで減衰する。上記(10)の構成によれば、第1凸部から排ガスの旋回方向へ向けて洗浄液を噴霧することで、排ガスの減衰を軽減できる。これによって、排ガスと洗浄液との接触性を高め、排ガスの洗浄効率を向上できる。
(11)一実施形態では、前記(1)〜(8)の何れかの構成において、
前記スプレイ部は、
前記内部空間で前記吸収塔本体の中心軸に沿って延在する幹管と、
前記幹管から前記内周面に向けて延在する1個以上の枝管と、
前記枝管から供給される前記洗浄液を噴霧するスプレイノズルと、
を含んで構成される。
上記(11)の構成によれば、上記スプレイノズルは上記枝管から吸収塔本体の内周面に向けて洗浄液を噴霧することで、洗浄液を内部空間に均一に噴霧できると共に、内周面の周方向全域に均一に洗浄液膜を形成できる。これによって、洗浄液と排ガスとの接触性を高め、排ガスの洗浄効率を向上できる。
(12)一実施形態では、前記(1)〜(8)の何れかの構成において、
前記スプレイ部は、前記凹凸が形成された前記内周面及び前記排ガス導入部より上方の前記内部空間に設けられ、
前記スプレイ部は、
前記洗浄液が供給され前記吸収塔本体の横断面方向に沿って延在し、複数のノズルが分散して設けられたノズル管を含んで構成される。
上記(12)の構成によれば、上記ノズル管は吸収塔本体の最上部で吸収塔本体の横断面方向に沿って延在するので、上記ノズルから洗浄液を噴霧すると、噴霧された洗浄液は重力で降下し下方の内部空間に均一に散布される。また、内部空間にはスプレイ部を設ける必要がないので、排ガスと洗浄液との接触スペースを増加できる。これによって、洗浄液と排ガスとの接触性を高め、排ガスの洗浄効率を向上できる。また、スプレイ部をノズル管を設けるだけの簡易な構成とすることができる。
(13)一実施形態では、前記(7)、(9)又は(10)の何れかの構成において、
前記第1凸部は、多角錐形状、円錐形状、錐台形状、角柱形状、円柱形状、球面形状、楕円面形状、断面が半月形状を有する立体形状又は断面が波形を有する立体形状を有する。
上記(13)の構成によれば、吸収塔本体の内周面に設けられる第1凸部が上記形状を有するため、内周面を伝う洗浄液と排ガスとが接触する接触面積を増加できる。これによって、洗浄液と排ガスとの接触性を高め、排ガスの洗浄効率を向上できる。
(14)一実施形態では、前記(8)の構成において、
前記第2凸部は、多角錐形状、円錐形状、錐台形状、角柱形状、円柱形状、球面形状、楕円面形状、断面が半月形状を有する立体形状又は断面が波形を有する立体形状を有する。
上記(14)の構成によれば、排ガス導入管の直管部の内周面に設けられる第2凸部が上記形状を有するため、直管部を流れる排ガスの偏流を効果的に抑制できる。従って、吸収塔本体の内部空間に均一な排ガス流を導入できるので、吸収塔本体における排ガスと洗浄液との接触性を高め、排ガスの洗浄効率を向上できる。
幾つかの実施形態によれば、洗浄液による排ガスの洗浄効率を向上でき、これによって、
排ガスの処理時間を短縮でき、かつ吸収塔を含む排ガス処理装置をコンパクト化できる。
一実施形態に係る排ガス処理装置を概略的に示す縦断面図である。 一実施形態に係る排ガス処理装置を概略的に示す縦断面図である。 図1中のA―A線に沿う横断面図である。 一実施形態に係る吸収塔本体の一部を概略的に示す縦断面図である。 一実施形態に係る凹凸を模式的に示す斜視図である。 一実施形態に係る凹凸を模式的に示す斜視図である。 一実施形態に係る排ガス処理装置を概略的に示す横断面図である。 (A)、(B)及び(C)は、幾つかの実施形態に係る凹凸を示す斜視図である。 (A)及び(B)は、幾つかの実施形態に係る凹凸を示す斜視図である。 (A)及び(B)は、幾つかの実施形態に係る凹凸を示す斜視図である。 一実施形態に係る凹凸を示す斜視図である。 (A)及び(B)は、幾つかの実施形態に係る凹凸を示す斜視図である。 (A)及び(B)は、幾つかの実施形態に係る凹凸を示す斜視図である。
以下、添付図面を参照して本発明の幾つかの実施形態について説明する。ただし、実施形態として記載され又は図面に示されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は、本発明の範囲をこれに限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎない。
例えば、「ある方向に」、「ある方向に沿って」、「平行」、「直交」、「中心」、「同心」或いは「同軸」等の相対的或いは絶対的な配置を表す表現は、厳密にそのような配置を表すのみならず、公差、若しくは、同じ機能が得られる程度の角度や距離をもって相対的に変位している状態も表すものとする。
例えば、「同一」、「等しい」及び「均質」等の物事が等しい状態であることを表す表現は、厳密に等しい状態を表すのみならず、公差、若しくは、同じ機能が得られる程度の差が存在している状態も表すものとする。
例えば、四角形状や円筒形状等の形状を表す表現は、幾何学的に厳密な意味での四角形状や円筒形状等の形状を表すのみならず、同じ効果が得られる範囲で、凹凸部や面取り部等を含む形状も表すものとする。
一方、一つの構成要素を「備える」、「具える」、「具備する」、「含む」、又は「有する」という表現は、他の構成要素の存在を除外する排他的な表現ではない。
図1及び図2は、幾つかの実施形態に係る排ガス処理装置10(10A、10B)を示す概略的縦断面図である。
図1及び図2において、吸収塔本体12の内部に内部空間sが形成され、内部空間sに洗浄液Csを噴霧するスプレイ部14(14a、14b)が設けられる。また、例えば内燃機関(不図示)などから排出される排ガスeは、排ガス導入部16によって内部空間sに導入される。その際、排ガスeは排ガス導入部16によって内部空間sで旋回するように導入される。内部空間sに導入された排ガスeは内部空間sに噴霧される洗浄液Csと接触することで、排ガスeに含まれるSOなどの有害成分が洗浄液Csに吸収され除去される。内部空間sに面した吸収塔本体12の内周面12aには、凹凸18が形成される。凹凸18の具体的な構成は、図3〜図6に例示される。
図3は図1中のA―A線に沿う横断面図である。図3に示すように、一実施形態に係る排ガス導入部16は、吸収塔本体12の横断面に沿うように配置され、かつ吸収塔本体の外周面の接線方向に沿って配置された排ガス導入管で構成される。この排ガス導入管から導入される排ガスeは、内部空間sで旋回流fsを形成する。スプレイ部14から噴霧された洗浄液Csは内部空間sに拡散すると共に、内周面12aに付着して液膜を形成する。
洗浄液Csが例えばアルカリ性である海水であるとき、排ガスeに含まれるSOは海水に含まれるアルカリと反応して中和され無害化される。洗浄液として、海水のほか、湖水、川水、又はアルカリ化した処理水等を用いることができる。
この実施形態によれば、吸収塔本体12の内周面12aに凹凸18が形成されるため、内周面12aを伝う洗浄液Csと排ガスeとが接触する接触面積が増加する。一方、排ガスeによって形成される旋回流fsは旋回流fsがもつ遠心力によって内周面12aに偏って流れる。これによって、洗浄液Csと排ガスeとの接触性が高まり、排ガスの洗浄効率を向上できる。また、洗浄効率が高まることで、排ガスの処理時間を短縮でき、かつ吸収塔本体12を含む排ガス処理装置10をコンパクト化できる。
また、駆動力を要する装置を追設したり、内部空間sに何らかの構造物を設けることなく、内周面12aに凹凸18を形成するだけの簡易な手段で洗浄液と排ガスとの接触面積を増加できる。
一実施形態では、図1及び図2に示すように、排ガス導入部16は、吸収塔本体12の下部に設けられ、排ガス排出部20が吸収塔本体12の最上部に設けられる。排ガス導入部16から導入された排ガスeは内部空間sで旋回しながら上昇し、排ガス排出部20から外部に排出される。凹凸18は、スプレイ部14から噴霧される洗浄液Csの液膜が形成される内周面12aに形成される。
この実施形態によれば、凹凸18がスプレイ部14から噴霧される洗浄液Csの液膜が形成される内周面12aに形成されるため、内周面12aを伝う洗浄液Csと排ガスeとが接触する接触面積が増加する。これによって、洗浄液と排ガスとの接触性が高まり、排ガス中の有害成分の除去率を向上できる。
一実施形態では、図1及び図2に示すように、スプレイ部14、凹凸18が形成された内周面12a及び排ガス導入部16より上方の内部空間sにミストエリミネータ22が設けられる。
この実施形態によれば、吸収塔本体12内で上昇する排ガスeの最下流側、即ち吸収塔本体12の最上部に設けられたミストエリミネータ22によって、排ガスeからSOxなどの有害成分を吸収した洗浄液のミスト(液分)を除去できるために、浄化された排ガスのみを外部に放出できる。
一実施形態では、図1及び図2に示すように、吸収塔本体12は、洗浄液Csを噴霧して排ガスeを無害化する吸収部21と、吸収部21の上方に設けられ、無害化された排ガスeが排出される排ガス排出部20とを含んで構成される。また、底面に設けられた排液路23から排液が排出される。
一実施形態では、吸収塔本体12の横断面は円形もしくは楕円形であってもよく、あるいは方形であってもよい。
図3に示すように、一実施形態に係る凹凸18(18a)は、吸収塔本体12の軸方向(図1中の矢印a方向)に沿って形成される1個以上の溝24を含んで構成される。溝24は、吸収塔本体12の軸方向から視認したとき、内周面12aの周方向全域に亘って設けられる。
この実施形態によれば、凹凸18(18a)が1個以上の溝24を含んで構成されるため、内周面12aを伝う洗浄液Csと排ガスeとが接触する接触面積を増加でき、これによって、排ガスの洗浄効率を向上できる。
なお、ここで「凹凸18(18a)が軸方向に沿って形成される」とは、凹凸18(18a)が軸方向に対して0〜30度の傾斜角で形成されることを意味する。
図4は、一実施形態に係る吸収塔本体12の一部を示す模式的縦断面図である。
図4に示すように、一実施形態に係る凹凸18(18b)は、吸収塔本体12の周方向に沿って形成され、吸収塔本体12の軸方向から視認したとき、内周面12aの周方向全域に亘り延在する1個以上の溝26を含んで構成される。
この実施形態によれば、凹凸18(18b)が吸収塔本体12の周方向に沿って内周面12aの全周に亘り延在する1個以上の溝26を含んで構成されるため、内周面12aを伝う洗浄液Csと排ガスeとが接触する接触面積を増加でき、これによって、排ガスの洗浄効率を向上できる。
なお、ここで「凹凸18(18b)が周方向に沿って形成される」とは、凹凸18(18b)が吸収塔本体12の軸方向に対して直角な横断面に対して0〜30度の傾斜角で形成されることを意味する。
図5は、吸収塔本体12を模式的に示す斜視図である。図5に示すように、一実施形態に係る凹凸18(18c)は、内周面12aの周方向全域に亘り設けられ、内周面12aに螺旋状に形成される1個以上の螺旋溝28を含んで構成される。
この実施形態によれば、内周面12aの周方向全域に凹凸18(18c)が設けられるので、内周面12aを伝う洗浄液Csと排ガスeとが接触する接触面積を増加でき、これによって、排ガスの洗浄効率を向上できる。また、螺旋状溝は溝の形成が容易であると共に、螺旋溝28が排ガスeの旋回流fsと同一方向に形成されたとき、螺旋溝28が排ガスeの旋回方向と異なる方向へ形成された場合と比べて旋回の減衰を小さくできる。
溝24,26又は螺旋溝28は、1個のみ又は2個以上並列に形成することができる。また、吸収塔本体12の内壁面のうち少なくとも内周面12aに形成されるが、内周面12aに加えて、例えば、図2に示すように、吸収塔本体12の底面に形成されてもよい。また、これらの溝は、吸収塔本体12の軸方向から視認したとき、内周面12aの周方向全域に亘り形成される。また、溝24,26又は螺旋溝28は、内周面12aに形成される洗浄液Csの液膜以上の深さ、例えば、5mm以上の深さを有することが望ましい。
図6は、吸収塔本体12を模式的に示す斜視図である。図6に示すように、一実施形態に係る凹凸18(18d)は、内周面12aに分散して形成された複数の凸部30(第1凸部)を含んで構成される。凸部30は、吸収塔本体12の軸方向から視認したとき、内周面12aの周方向全域に亘り設けられる。
この実施形態によれば、複数の凸部30を含む凹凸18(18d)が形成されることで、内周面12aを伝う洗浄液Csと排ガスeとが接触する接触面積を増加でき、これによって、排ガスの洗浄効率を向上できる。
複数の凸部30は、重なり合うことなく、分散して配置される必要があり、これによって、接触面積の増加を可能にする凹凸18(18d)を形成できる。
一実施形態では、内部空間sを通る排ガスeの圧損増加が排ガス処理装置10の運転を阻害しない範囲で、凸部30の内周面12aからの高さ及び凸部30間の間隔等を設定する必要がある。
図6に示すように、一実施形態では、複数の凸部30を吸収塔本体12の中心軸Oに対して点対称となる位置に形成する。これによって、内部空間sの横断面上で洗浄液と排ガスとの接触面積を均一に増加できる。
なお、凸部30は、内周面12aの製造時に内周面12aと同時に一体的に形成されてもよく、あるいは内周面12aとは別に製造され、内周面12aの製造後に内周面12aに取り付けるようにしてもよい。
一実施形態では、吸収塔本体12の内面(正確には、図1及び図2において、ミストエリミネータ22の下方領域における吸収塔本体12の内周面及び底面を含む内面全域)に、凹凸18を全く設けなかった場合を閉塞率0%とし、内面全域に凹凸18を設けた場合を閉塞率100%とする。この場合、閉塞率を50%以下とすることが望ましい。閉塞率が50%を超えると、吸収塔本体12の内部で排ガスeの圧力損失が大きくなり、排ガスeの旋回力が減衰してしまう。
一実施形態では、図2に示すように、排ガス導入部16は吸収塔本体12に接続される排ガス導入管で構成され、該排ガス導入管の吸収塔本体12との接続部は直線形状の直管部32で構成される。直管部32は、図2に示すように、吸収塔本体12の外周面の接線方向に沿って配置され、直管部32から導入される排ガスeは、内部空間sで旋回流fsを形成する。さらに、直管部32の内周面に複数の凸部34(第2凸部)が分散して配置される。
直管部32の上流側にベンド部などがある場合、直管部32に流入した排ガスは偏流を生じやすい。この実施形態によれば、直管部32の内周面に複数の凸部34が分散して設けられるため、直管部32を流れる排ガスeの偏流を抑制できる。これによって、直管部32を流れる排ガスeに含まれるSOなどの有害成分の濃度分布及び流速分布の偏りを抑制し、排ガスeを均一な流れとして内部空間sに導入できる。従って、内部空間sにおける排ガスと洗浄液との接触スペースを増加でき、これによって、排ガスと洗浄液との接触性を高め、排ガス中の有害成分の除去率を向上できる。
複数の凸部34は、重なり合うことなく、分散して配置され、これによって、直管部32を流れる排ガスeの偏流抑制効果を高めることができる。また、直管部32を通る排ガスeの圧損増加が排ガス処理装置10の運転を阻害しない範囲で、凸部34の内周面12aからの高さ及び凸部34間の間隔等を設定する必要がある。
凸部34は、直管部32の内周面の周方向全域に形成されるのが望ましい。また、直管部32の内周面の製造時に該内周面と同時に一体的に形成されてもよく、あるいは該内周面とは別に製造され、該内周面の製造後に該内周面に取り付けるようにしてもよい。
一実施形態では、直管部32の内周面に凸部34を全く設けなかった場合を閉塞率0%とし、直管部32の内周面全域に凸部34を設けた場合を閉塞率100%とする。この場合、閉塞率を50%以下とすることが望ましい。閉塞率が50%を超えると、凸部34の作用として、SOxなどの有害成分の濃度分布及び流速分布の偏りは抑制できるが、圧力損失が大きくなるため、排ガスeの流速が低下してしまい、吸収塔本体内部での旋回力が低下する可能性がある。
一実施形態では、図1に示すように、スプレイ部14(14a)は、内部空間sの中心軸Oに沿って延在する幹管40と、幹管40から内周面12aに向けて延在する1個以上の枝管42と、枝管42から供給される洗浄液Csを噴霧するスプレイノズル44と、を含んで構成される。
この実施形態によれば、スプレイ部14(14a)は内部空間sの中央部に軸方向に設けられるため、内部空間sの中央部からスプレイノズル44によって洗浄液Csを内周面12aの全周に向かって噴霧することで、洗浄液Csを内部空間sに均一に噴霧できると共に、内周面12aの周方向全域に均一に洗浄液膜を形成できる。これによって、洗浄液と排ガスとの接触性が高まり、排ガスの洗浄効率を向上できる。
一実施形態では、スプレイノズル44は枝管42に取り付けられる。好ましくは、枝管42の先端に取り付けられることで、内周面12aの近くから内周面12aに向かって洗浄液Csを噴霧できる。これによって、内周面12aに洗浄液Csの液膜を形成しやすくなる。
枝管42は、吸収塔本体12の軸方向と直交する横断面上に配置してもよく、あるいは該横断面から上下に傾斜した方向へ配置してもよい。
スプレイノズル44の洗浄液噴霧方向は、洗浄液Csが内部空間sに均一に拡散するように、あるいは内周面12aに洗浄液Csの液膜が確実に形成されるように、適宜設定される。
一実施形態では、図2に示すように、スプレイ部14(14b)は、凹凸18が形成された内周面12a及び排ガス導入部16より上方の内部空間sに設けられる。スプレイ部14(14b)には洗浄液Csが供給される。また、スプレイ部14(14b)は吸収塔本体12の横断面に沿って延在し、かつ複数のノズル48が分散して配置されたノズル管46を含んで構成される。
この実施形態によれば、スプレイ部14(14b)は吸収塔本体12の最上部で吸収塔本体12の横断面に沿って延在するので、ノズル管46から洗浄液を噴霧すると、噴霧された洗浄液Csは重力で降下し、下方の内部空間sに均一に散布される。また、下方の内部空間sにはスプレイ部を設ける必要がないので、排ガスと洗浄液との接触スペースを増加できる。これによって、洗浄液と排ガスとの接触性が高まり、排ガスの洗浄効率を向上できる。また、スプレイ部14(14b)をノズル管46を設けるだけの簡易な構成とすることができる。
なお、ここで「スプレイ部14(14b)が吸収塔本体12の横断面に沿って延在する」とは、吸収塔本体12の軸方向と直交する横断面に対して0〜30度の傾斜角で延在することを意味する。
一実施形態では、吸収塔本体12の外部から内部空間sに導設され、ノズル管46に接続される洗浄液供給管50を備え、洗浄液供給管50からノズル管46に洗浄液Csが供給される。
一実施形態では、ノズル管46は環状のノズル管で構成される。例えば、この環状ノズル管の直径を大きくし、ノズル48を内周面12aに接近した位置に配置することで、内周面12aに洗浄液の液膜を形成しやすくなる。
なお、ノズル管46は、環状以外に、下方の内部空間sに均一に散布可能な任意の形状を選択できる。
一実施形態では、図7に示すように、スプレイ部14(14c)は複数の凸部30の各々に設けられる。同図において、角度θは洗浄液Csの噴霧角度を示す。
この実施形態によれば、内周面12aに設けられた凸部30にスプレイ部14(14c)を設けるため、内部空間sの中央部にスプレイ部を設ける必要がなくなる。従って、内部空間sを流れる排ガスの圧力損失を低減できると共に、その分洗浄液と排ガスとを接触させるスペースを増やすことができるため、排ガスと洗浄液との接触性を高め、排ガスの洗浄効率を向上できる。
なお、スプレイ部14(14c)のノズル口は、吸収塔本体12の軸方向に対して直交する横断面に対して上下に傾斜する方向へ向けて配置してもよいし、また、内周面12aの周方向に角度をもたせて配置してもよい。
また、排ガスeが内部空間sで旋回するとき、排ガスeは内周面12a側へ偏る。従って、スプレイ部14(14c)から洗浄液を噴霧するノズル口を内周面側へ向け、内周面側へ密に洗浄液が行き渡るようにすれば、排ガスが多い空間に多くの洗浄液を放出でき、これによって、洗浄効率を向上できる。
一実施形態では、スプレイ部14(14c)は、複数の凸部30の各々から排ガスの旋回方向へ向けて洗浄液を噴霧するように構成される。
吸収塔本体の内部空間で洗浄液と排ガスとが接触することで、排ガスの旋回力が減衰する。この実施形態によれば、第1凸部から排ガスの旋回流fsへ向けて洗浄液を噴霧することで、排ガスの旋回力の減衰を軽減できる。
一実施形態では、スプレイ部14(14c)は、吸収塔本体12の軸方向から視認して内周面12aの周方向全域に分散配置する。これによって、洗浄液を内部空間sの全域に均等に散布できる。
スプレイ部14(14c)を設ける凸部30は、目的に応じて任意に選択でき、従って、必ずしも吸収塔本体12の横断面上に配置する必要はなく、例えば、内周面12aに螺旋状に配置してもよい。
また、スプレイ部14(14c)の複数のノズル口の向きは、各ノズル口から噴霧される洗浄液が互いに対面しないように調整するとよい。
幾つかの実施形態では、図8〜図13に示すように、凸部30及び34は、各種の形状とすることができる。
例えば、図8に示すように、多角錐形状又は錐台形状とすることができる。例えば、図8の(A)には6角錐形状のものが例示され、(B)には3角錐形状のものが例示され、(C)には3角錐台形状のものが例示されている。
上記形状を有するため、内周面12aを伝う洗浄液と排ガスとが接触する接触面積を増加できる。これによって、洗浄液と排ガスとの接触性を高め、排ガスの洗浄効率を向上できる。
例えば、図9に示すように、凸部30及び34を円錐形状又は円錐台形状とすることができる。図10の(A)には円錐形状のものが例示され、(B)には円錐台形状のものが例示されている。
上記形状を有するため、内周面12aを伝う洗浄液と排ガスとが接触する接触面積を増加できる。これによって、洗浄液と排ガスとの接触性を高め、排ガスの洗浄効率を向上できる。
例えば、図10に示すように、凸部30及び34を角柱形状とすることができる。例えば、図9の(A)には4角柱形状のものが例示され、(B)には3角柱形状のものが例示されている。
上記形状を有するため、内周面12aを伝う洗浄液と排ガスとが接触する接触面積を増加できる。これによって、洗浄液と排ガスとの接触性を高め、排ガスの洗浄効率を向上できる。
例えば、図11に示すように、凸部30及び34を円柱形状とすることができる。
上記形状を有するため、内周面12aを伝う洗浄液と排ガスとが接触する接触面積を増加できる。これによって、洗浄液と排ガスとの接触性を高め、排ガスの洗浄効率を向上できる。
例えば、図12に示すように、凸部30及び34を球面形状又は楕円面形状とすることができる。図10の(A)には球面形状のものが例示され、(B)には楕円面形状のものが例示されている。
上記形状を有するため、内周面12aを伝う洗浄液と排ガスとが接触する接触面積を増加できる。これによって、洗浄液と排ガスとの接触性を高め、排ガスの洗浄効率を向上できる。
例えば、図13に示すように、凸部30及び34を半月形状を有する立体形状又は断面が波形を有する立体形状とすることができる。図13の(A)には断面52が半月形状を有する立体形状のものが例示され、(B)には断面54が波形を有する立体形状のものが例示されている。
上記形状を有するため、内周面12aを伝う洗浄液と排ガスとが接触する接触面積を増加できる。これによって、洗浄液と排ガスとの接触性を高め、排ガスの洗浄効率を向上できる。
幾つかの実施形態によれば、洗浄液による排ガス中の有害成分の吸収効率を向上させることで、処理時間を短縮でき、かつ吸収塔などを含む排ガス処理装置のコンパクト化を実現できる。
10(10A、10B) 排ガス処理装置
12 吸収塔本体
12a 内周面
14(14a、14b,14c) スプレイ部
16 排ガス導入部
18(18a、18b、18c、18d) 凹凸
20 排ガス排出部
21 吸収部
22 ミストエリミネータ
23 排液路
24,26 溝
28 螺旋溝
30 凸部(第1凸部)
32 直管部
34 凸部(第2凸部)
40 幹管
42 枝管
44 スプレイノズル
46 ノズル管
48 ノズル
50 洗浄液供給管
52、54 断面
Cs 洗浄液
a 軸方向
e 排ガス
fs 旋回流
s 内部空間

Claims (14)

  1. 排ガスと洗浄液とを接触させ前記排ガスに含まれる有害成分を吸収除去する排ガス処理装置であって、
    内部空間が形成された吸収塔本体と、
    前記内部空間に前記洗浄液を噴霧するスプレイ部と、
    前記内部空間で旋回するように前記排ガスを導入する排ガス導入部と、
    を備え、
    前記吸収塔本体の前記内部空間に面した内周面に凹凸が形成されることを特徴とする排ガス処理装置。
  2. 前記排ガス導入部は、前記吸収塔本体の下部に設けられると共に、前記吸収塔本体の最上部に排ガス排出部が設けられ、前記排ガス導入部から導入された前記排ガスは前記内部空間で旋回しながら上昇するように構成され、
    前記凹凸は、前記スプレイ部から噴霧される前記洗浄液の液膜が形成される前記内周面に形成されることを特徴とする請求項1に記載の排ガス処理装置。
  3. 前記スプレイ部、前記凹凸が形成された前記内周面及び前記排ガス導入部より上方の前記内部空間に設けられるミストエリミネータを備えることを特徴とする請求項1又は2に記載の排ガス処理装置。
  4. 前記凹凸は、前記吸収塔本体の周方向に沿って形成され、前記吸収塔本体の軸方向から視認したとき前記内周面の周方向全域に亘り延在する1個以上の溝を含んで構成されることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の排ガス処理装置。
  5. 前記凹凸は、前記吸収塔本体の軸方向に沿って形成され、前記吸収塔本体の軸方向から視認したとき前記内周面の周方向全域に亘り設けられる1個以上の溝を含んで構成されることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の排ガス処理装置。
  6. 前記凹凸は、前記内周面の周方向全域に亘り設けられ前記内周面に螺旋状に形成される1個以上の螺旋溝を含んで構成されることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の排ガス処理装置。
  7. 前記凹凸は、前記内周面に分散して形成され、前記吸収塔本体の軸方向から視認したとき前記内周面の周方向全域に亘り設けられる複数の第1凸部を含んで構成されることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の排ガス処理装置。
  8. 前記排ガス導入部は、前記吸収塔本体に接続される排ガス導入管で構成され、
    前記排ガス導入管は前記吸収塔本体との接続部に設けられる直線形状の直管部を含んで構成され、
    該直管部は、前記直管部の内周面に分散して配置された複数の第2凸部を有することを特徴とする請求項1乃至7の何れか一項に記載の排ガス処理装置。
  9. 前記スプレイ部は、前記複数の第1凸部の各々に設けられることを特徴とする請求項7に記載の排ガス処理装置。
  10. 前記スプレイ部は、前記複数の第1凸部の各々から前記排ガスの旋回方向へ向けて前記洗浄液を噴霧するように構成されることを特徴とする請求項9に記載の排ガス処理装置。
  11. 前記スプレイ部は、
    前記内部空間で前記吸収塔本体の中心軸に沿って延在する幹管と、
    前記幹管から前記内周面に向けて延在する1個以上の枝管と、
    前記枝管から供給される前記洗浄液を噴霧するスプレイノズルと、
    を含んで構成されることを特徴とする請求項1乃至8の何れか一項に記載の排ガス処理装置。
  12. 前記スプレイ部は、前記凹凸が形成された前記内周面及び前記排ガス導入部より上方の前記内部空間に設けられ、
    前記スプレイ部は、
    前記洗浄液が供給され前記吸収塔本体の横断面に沿って延在し、複数のノズルが分散して配置されたノズル管を含んで構成されることを特徴とする請求項1乃至8の何れか一項に記載の排ガス処理装置。
  13. 前記第1凸部は、多角錐形状、円錐形状、錐台形状、角柱形状、円柱形状、球面形状、楕円面形状、断面が半月形状を有する立体形状又は断面が波形を有する立体形状を有することを特徴とする請求項7、9又は10の何れか一項に記載の排ガス処理装置。
  14. 前記第2凸部は、多角錐形状、円錐形状、錐台形状、角柱形状、円柱形状、球面形状、楕円面形状、断面が半月形状を有する立体形状又は断面が波形を有する立体形状を有することを特徴とする請求項8に記載の排ガス処理装置。

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