JP2019155279A - 気液分離装置及び気液分離システム - Google Patents

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貴洋 寺田
Takahiro Terada
貴洋 寺田
視紅磨 加藤
Shiguma Kato
視紅磨 加藤
田中 正幸
Masayuki Tanaka
正幸 田中
靖明 甚目
Yasuaki Jinme
靖明 甚目
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Abstract

【課題】より効率的に気体からミスト状の液体を分離することができる気液分離装置を提供する。【解決手段】一つの実施形態に係る気液分離装置は、流路構造を備える。前記流路構造は、ジャイロイドの周期極小曲面に沿う第1の壁を有し、ミスト状の液体が混合された気体が通るよう構成された第1の通路と、前記第1の壁によって前記第1の通路から隔てられた第2の通路と、が設けられる。【選択図】図2

Description

本発明の実施形態は、気液分離装置及び気液分離システムに関する。
装置から排出された気体に、例えばミスト状の液体が含まれることがある。このような液体を気体から除去するために、気液分離装置が用いられる。気液分離装置は、例えば、気体を螺旋状に流すことで液体を凝縮させ、液体を気体から回収可能にする。
特開平11−033323号公報
気体を螺旋状に流した場合であっても、気体中の液体が凝縮しにくいことがある。
一つの実施形態に係る気液分離装置は、流路構造を備える。前記流路構造は、ジャイロイドの周期極小曲面に沿う第1の壁を有し、ミスト状の液体が混合された気体が通るよう構成された第1の通路と、前記第1の壁によって前記第1の通路から隔てられた第2の通路と、が設けられる。
図1は、第1の実施形態に係る半導体製造装置を概略的に示す図である。 図2は、第1の実施形態の気液分離部を示す断面図である。 図3は、第1の実施形態の隔壁の一部を概略的に示す斜視図である。 図4は、第1の実施形態の隔壁の一部を概略的に示す平面図である。 図5は、第1の実施形態の隔壁の一部を図2のF5−F5線に沿って概略的に示す断面図である。 図6は、第1の実施形態の隔壁の一部を図2のF6−F6線に沿って概略的に示す断面図である。 図7は、第1の実施形態の隔壁の一部を図2のF7−F7線に沿って概略的に示す断面図である。 図8は、第1の実施形態の隔壁の一部を図2のF8−F8線に沿って概略的に示す断面図である。 図9は、第1の実施形態の隔壁の一部を図2のF9−F9線に沿って概略的に示す断面図である。 図10は、第2の実施形態に係る隔壁の一部を示す斜視図である。 図11は、第2の実施形態の隔壁を示す側面図である。 図12は、第2の実施形態の隔壁を示す平面図である。 図13は、第3の実施形態に係る隔壁の一部を概略的に示す断面図である。 図14は、第3の実施形態の螺旋壁を概略的に示す斜視図である。 図15は、第4の実施形態に係る隔壁の一部を概略的に示す断面図である。 図16は、第5の実施形態に係る隔壁の一部を概略的に示す断面図である。
(第1の実施形態)
以下に、第1の実施形態について、図1乃至図9を参照して説明する。なお、本明細書においては基本的に、鉛直上方を上方向、鉛直下方を下方向と定義する。また、本明細書において、実施形態に係る構成要素及び当該要素の説明について、複数の表現が記載されることがある。複数の表現がされた構成要素及び説明は、記載されていない他の表現がされても良い。さらに、複数の表現がされない構成要素及び説明も、記載されていない他の表現がされても良い。
さらに、各図面に示されるように、本明細書において、X軸、Y軸及びZ軸が定義される。X軸とY軸とZ軸とは、互いに直交する。Z軸は、鉛直に定義される。X軸及びY軸は水平に定義される。なお、X軸、Y軸及びZ軸が延びる方向はこの例に限らない。
図1は、第1の実施形態に係る半導体製造装置10を概略的に示す図である。図1に示すように、半導体製造装置10は、処理装置11と、気液分離装置12とを有する。気液分離装置12は、例えば、オイルミストトラップとも称され得る。処理装置11は、第1の装置の一例である。
半導体製造装置10は、気液分離装置12が搭載される気液分離システムの一例である。気液分離システムは、この例に限らず、例えば、燃料電池、水蒸気電解セル、又は他の装置であっても良い。
処理装置11は、例えば、スパッタリング装置である。処理装置11は、内部に配置された半導体ウェハに、ターゲットから放出された金属粒子を付着させ、金属膜を生成させる。なお、処理装置11は、化学気相成長(CVD)装置のような他の装置であっても良い。
気液分離装置12は、気液分離部21と、真空ポンプ22と、冷媒供給装置23と、回収装置24と、第1の配管25と、第2の配管26と、第3の配管27と、第4の配管28とを有する。気液分離部21は、流路構造の一例であり、例えば、部材又は構造体とも称され得る。冷媒供給装置23は、第2の装置の一例である。回収装置24は、第3の装置の一例である。
気液分離部21は、第1の配管25によって処理装置11に接続され、第2の配管26によって真空ポンプ22に接続され、第3の配管27及び第4の配管28によって冷媒供給装置23に接続される。このため、処理装置11は、気液分離部21を介して真空ポンプ22に接続される。
真空ポンプ22は、第1の配管25、気液分離部21、及び第2の配管26を介して、処理装置11の内部の気体Gを吸引する。気体Gは、例えば、空気である。なお、気体Gは、他の気体であっても良い。これにより、真空ポンプ22は、処理装置11の内部を、真空、又は真空に近い低圧にする。処理装置11の内部の気体Gは、真空ポンプ22に吸引される際に、気液分離部21を通過する。すなわち、処理装置11から、気液分離部21に気体Gが供給される。
処理装置11において、気体Gに、ミスト状の液体Lが混合されている。液体Lは、例えば、空気中の水や、潤滑油である。なお、液体Lは、他の液体であっても良い。ミスト状の液体Lは、気液分離部21において凝縮し、気体Gから分離させられる。
冷媒供給装置23は、第3の配管27を介して、気液分離部21に冷媒Mを供給する。冷媒Mは、例えば、水である。なお、冷媒Mは、他の冷媒であっても良い。冷媒Mは、気液分離部21において、気体Gに含まれるミスト状の液体Lを冷却し、当該液体Lを凝縮させる。
冷媒Mは、第4の配管28を介して、気液分離部21から冷媒供給装置23に戻される。冷媒供給装置23は、冷媒Mを例えば熱交換器により冷却し、第3の配管27を介して再び気液分離部21に供給する。
回収装置24は、気液分離部21と真空ポンプ22との間において、第2の配管26に接続される。回収装置24は、気液分離部21において凝縮した液体Lを回収する。例えば、回収装置24は、気液分離部21又は第2の配管26から重力によって落下する液体Lを回収するトレイを有する。
図2は、第1の実施形態の気液分離部21を示す断面図である。図2に示すように、気液分離部21は、筒壁31と、上端壁32と、下端壁33と、第1の流入管34と、第1の流出管35と、第2の流入管36と、第2の流出管37と、隔壁38とを有する。隔壁38は、第1の壁の一例である。
筒壁31は、外筒壁31aと、内筒壁31bとを有する。外筒壁31a及び内筒壁31bはそれぞれ、Z軸に沿う方向に延びる略円筒形の壁である。内筒壁31bは、外筒壁31aの内側に位置する。
内筒壁31bの内側に、内部屋41が設けられる。内部屋41は、例えば、流路、室、又は空間とも称され得る。内部屋41は、内筒壁31bと同じく、Z軸に沿う方向に延びる。さらに、外筒壁31aと内筒壁31bとの間に、外部屋42が設けられる。
上端壁32は、Z軸に沿う正方向(上方向、Z軸の矢印が示す方向)の筒壁31の端を覆う。下端壁33は、Z軸に沿う負方向(下方向、Z軸の矢印の反対方向)の筒壁31の端を覆う。これにより、内部屋41及び外部屋42のZ軸に沿う方向における両端部は、上端壁32及び下端壁33によって塞がれる。
第1の流入管34の一方の端部は、上端壁32に接続される。上端壁32と第1の流入管34との接続部分に、第1の流入口45が設けられる。第1の流入口45は、上端壁32に開き、内部屋41に連通する。
第1の流入管34の他方の端部は、第1の配管25に接続される。これにより、内部屋41は、第1の流入口45、第1の流入管34、及び第1の配管25を介して、処理装置11に接続される。
第1の流出管35の一方の端部は、下端壁33に接続される。下端壁33と第1の流出管35との接続部分に、第1の流出口46が設けられる。第1の流出口46は、下端壁33に開き、内部屋41に連通する。このため、第1の流出口46は、第1の流入口45からZ軸に沿う方向に離間している。
第1の流出管35の他方の端部は、第2の配管26に接続される。これにより、内部屋41は、第1の流出口46、第1の流出管35、及び第2の配管26を介して、真空ポンプ22に接続される。
第1の流出管35は、Z軸に沿う方向に延びる。図1に示すように、回収装置24は、気液分離部21の下方向に位置する。このため、気液分離部21で凝縮された液体Lは、重力によって第1の流出管35で下方向に落下し、回収装置24に回収される。
図2に示すように、第2の流入管36の一方の端部は、外筒壁31aに接続される。外筒壁31aと第2の流入管36との接続部分に、第2の流入口47が設けられる。第2の流入口47は、外筒壁31aに開き、外部屋42に連通する。
第2の流入管36の他方の端部は、第3の配管27に接続される。これにより、外部屋42は、第2の流入口47、第2の流入管36、及び第3の配管27を介して、冷媒供給装置23に接続される。
第2の流出管37の一方の端部は、外筒壁31aに接続される。外筒壁31aと第2の流出管37との接続部分に、第2の流出口48が設けられる。第2の流出口48は、外筒壁31aに開き、外部屋42に連通する。第2の流出管37は、第2の流入管36からZ軸に離間した位置に配置される。このため、第2の流出口48は、第2の流入口47からZ軸に沿う方向に離間している。
本実施形態において、第2の流出口48は、第2の流入口47の下方向に位置する。言い換えると、第2の流出口48は、第2の流入口47よりも第1の流出管35に近い。しかし、第2の流出口48は、第2の流入口47の上方向に位置しても良い。
第2の流出管37の他方の端部は、第4の配管28に接続される。これにより、外部屋42は、第2の流出口48、第2の流出管37、及び第4の配管28を介して、冷媒供給装置23に接続される。
隔壁38は、内部屋41に設けられる。隔壁38は、例えば、付加造形により内筒壁31bと一体に形成される。なお、隔壁38は、内筒壁31bと異なる部品であっても良い。隔壁38は、内部屋41に、第1の通路51と、第2の通路52とを形成する。このため、気液分離部21に、第1の通路51と、第2の通路52とが設けられる。
隔壁38は、ジャイロイドの周期極小曲面に沿う壁である。ジャイロイドの周期極小曲面は、異なる三方向に無限に連結可能であり、空間を二つの領域に分ける極小曲面である。本実施形態において、ジャイロイドの周期極小曲面は、X軸に沿う方向、Y軸に沿う方向、及びZ軸に沿う方向に無限に連結可能である。
ジャイロイドの周期極小曲面は、極小曲面に含まれる。極小曲面は、与えられた境界条件下で面積が最小となり、積分されることで曲率がゼロとなる曲面である。ジャイロイドの周期極小曲面は、下記(数1)式に示される三角関数を用いた近似式により表現され得る。
隔壁38は、(数1)式により表現される仮想的な曲面を中心とし、当該曲面の法線方向における厚さが略一定な壁である。なお、隔壁38の中心は、(数1)式により表現される仮想的な曲面と異なっても良い。
第2の通路52は、隔壁38によって第1の通路51から隔てられる。Z軸に沿う方向における第2の通路52の両端は、隔壁38により塞がれている。このため、内部屋41において、第1の通路51と第2の通路52とは互いに隔てられる。さらに、第1の通路51は、内筒壁31bにより外部屋42から隔てられる。
第1の通路51は、第1の開口端51aと、第2の開口端51bとを有する。第1の開口端51aは、入口の一例である。第2の開口端51bは、出口の一例である。第1の開口端51aは、上方向における第1の通路51の端である。第2の開口端51bは、下方向における第1の通路51の端である。
本実施形態において、第1の開口端51aは、第1の流入口45から下方向に離間する。内部屋41において、第1の開口端51aと第1の流入口45との間に第1の空間41aが設けられる。すなわち、第1の通路51の第1の開口端51aは、第1の空間41aを介して、第1の流入口45に連通される。
本実施形態において、第2の開口端51bは、第1の流出口46から上方向に離間する。内部屋41において、第2の開口端51bと第1の流出口46との間に第2の空間41bが設けられる。すなわち、第1の通路51の第2の開口端51bは、第2の空間41bを介して、第1の流出口46に連通される。
真空ポンプ22が処理装置11の内部の気体Gを吸引すると、気体Gは、第1の流入口45及び第1の空間41aを通って、第1の通路51の第1の開口端51aに供給される。気体Gは、第1の通路51を通過し、第1の通路51の第2の開口端51bから排出される。当該気体Gは、第2の空間41b及び第1の流出口46を通って、内部屋41の外へ排出される。隔壁38は、気体Gが第2の通路52に流入することを防ぐ。
第2の通路52は、外部屋42を介して第2の流入口47及び第2の流出口48に連通される。冷媒供給装置23は、冷媒Mを、第2の流入口47から外部屋42に供給する。第2の通路52は、複数の位置において外部屋42に連通する。このため、外部屋42に供給された冷媒Mは、第2の通路52に供給される。
上記のように、冷媒供給装置23は、冷媒Mを第2の通路52に供給する。第2の通路52を通過した冷媒Mは、第2の流出口48から外部屋42の外へ排出される。隔壁38は、冷媒Mが第1の通路51に流入することを防ぐ。
図3は、第1の実施形態の隔壁38の一部を概略的に示す斜視図である。図3に示すように、第1の通路51は、複数の第1の延路61と、複数の第1の交差路62とを含む。第2の通路52は、複数の第2の延路65と、複数の第2の交差路66とを含む。第1の延路61、第1の交差路62、第2の延路65、及び第2の交差路66は、例えば、流路又は通路とも称され得る。
複数の第1の延路61、複数の第1の交差路62、複数の第2の延路65、及び複数の第2の交差路66は、互いに略同一の形状を有する。なお、第1の延路61、第1の交差路62、第2の延路65、及び第2の交差路66の形状は、互いに異なっても良い。
本実施形態において、第1の延路61及び第2の延路65はそれぞれ、全体的にZ軸に沿う方向に延びる。複数の第1の延路61は、互いに並行して延びる。また、複数の第2の延路65は、互いに並行して延びるとともに、第1の延路61に並行して延びる。
本実施形態において、複数の第1の延路61と、複数の第2の延路65とは、略平行に延びる。なお、互いに並行して延びることは、平行に延びることに限定されない。互いに並行して延びることは、並んで延びること、互いに沿って延びること、及び平行に延びること、のうち少なくとも一つを含み得る。このため、第1の延路61が延びる方向と、第2の延路65が延びる方向とが異なっても良い。
第1の延路61及び第2の延路65はそれぞれ、X軸に沿う方向から見た場合に、Z軸に沿って延びる基準線を持つ正弦関数に沿って延びる。正弦関数は、周期関数に含まれる。さらに、第1の延路61及び第2の延路65はそれぞれ、Y軸に沿う方向から見た場合にも、Z軸に沿って延びる基準線を持つ正弦関数に沿って延びる。このため、第1の延路61及び第2の延路65はそれぞれ、互いに反対方向に凸に曲げられるとともに互いに接続された部分を有する、略S字状の部分を含む。
図4は、第1の実施形態の隔壁38の一部を概略的に示す平面図である。図4に示すように、複数の第1の延路61は、第1の延路61が延びる方向(例えばZ軸に沿う方向)から見て、斜方格子(二等辺三角格子)状に配置される。斜方格子は、平面格子に含まれる。
例えば、複数の第1の延路61は、X軸に対してZ軸まわりに45°傾いた方向に略等間隔に配置されるとともに、X軸に対してZ軸まわりに−45°傾いた方向に略等間隔に配置される。
別の表現によれば、複数の第1の延路61は、当該複数の第1の延路61がX軸に沿う方向に略等間隔に並べられた複数の第1の列と複数の第2の列とを形成する。複数の第1の列と複数の第2の列とは、Y軸に沿う方向に交互に配置される。第1の列における第1の延路61は、第2の列における第1の延路61に対して、X軸に沿う方向に半ピッチ(第1の延路61の間隔の二分の一)ずれて配置される。
複数の第2の延路65は、第1の延路61が延びる方向から見て、斜方格子状に配置される。例えば、複数の第2の延路65は、X軸に対してZ軸まわりに45°傾いた方向に略等間隔に配置されるとともに、X軸に対してZ軸まわりに−45°傾いた方向に略等間隔に配置される。別の表現によれば、複数の第2の延路65は、第1の延路61と同じく、当該複数の第2の延路65がX軸に沿う方向に略等間隔に並べられた複数の第1の列と複数の第2の列とを形成する。
以下、説明のため、気液分離部21に内側部分21aを定義する。内側部分21aは、気液分離部21の一部である。内側部分21aは、平面格子状に並べられた複数の第1の延路61のうち、最も外側の第1の延路61及び第2の延路65に囲まれた複数の第1の延路61を含む。さらに、内側部分21aは、平面格子状に並べられた複数の第2の延路65のうち、最も外側の第1の延路61及び第2の延路65に囲まれた複数の第2の延路65を含む。
以下、説明のため、内側部分21aにおける一つの第1の延路61を、第1の中心延路71とする。第1の中心延路71は、八つの第1の隣接延路72によって周りを囲まれる。八つの第1の隣接延路72は、四つの第1の延路61と、四つの第2の延路65とを含む。
第1の隣接延路72において、第1の延路61と第2の延路65とは、略等間隔且つ交互に配置される。X軸に沿う方向及びY軸に沿う方向において、第1の中心延路71は、第1の隣接延路72に含まれる二つの第2の延路65の間に位置する。さらに、X軸に対してZ軸まわりに45°傾いた方向及びX軸に対してZ軸まわりに−45°傾いた方向において、第1の中心延路71は、第1の隣接延路72に含まれる二つの第1の延路61の間に位置する。
内側部分21aにおいて、複数の第1の延路61はそれぞれ、第1の中心延路71とも、第1の隣接延路72ともみなされ得る。すなわち、内側部分21aにおいて、複数の第1の延路61はそれぞれ、八つの第1の隣接延路72によって周りを囲まれる。
以下、説明のため、内側部分21aにおける一つの第2の延路65を、第2の中心延路75とする。第2の中心延路75は、八つの第2の隣接延路76によって周りを囲まれる。八つの第2の隣接延路76は、四つの第1の延路61と、四つの第2の延路65とを含む。
第2の隣接延路76において、第1の延路61と第2の延路65とは、略等間隔且つ交互に配置される。X軸に沿う方向及びY軸に沿う方向において、第2の中心延路75は、第2の隣接延路76に含まれる二つの第1の延路61の間に位置する。さらに、X軸に対してZ軸まわりに45°傾いた方向及びX軸に対してZ軸まわりに−45°傾いた方向において、第2の中心延路75は、第2の隣接延路76に含まれる二つの第2の延路65の間に位置する。
内側部分21aにおいて、複数の第2の延路65はそれぞれ、第2の中心延路75とも、第2の隣接延路76ともみなされ得る。すなわち、内側部分21aにおいて、複数の第2の延路65はそれぞれ、八つの第2の隣接延路76によって周りを囲まれる。また、第1の延路61及び第2の延路65は、第1の隣接延路72及び第2の隣接延路76の両方に含まれても良い。
図3に示すように、第1の交差路62及び第2の交差路66はそれぞれ、全体的にX軸又はY軸に沿う方向に延びる。複数の第1の交差路62は、互いに並行して延びる。また、複数の第2の交差路66は、互いに並行して延びるとともに、第1の交差路62に並行して延びる。
X軸に沿って延びる第1の交差路62及び第2の交差路66はそれぞれ、Y軸に沿う方向から見た場合に、X軸に沿って延びる基準線を持つ正弦関数に沿って延びる。さらに、X軸に沿って延びる第1の交差路62及び第2の交差路66はそれぞれ、Z軸に沿う方向から見た場合にも、X軸に沿って延びる基準線を持つ正弦関数に沿って延びる。
Y軸に沿って延びる第1の交差路62及び第2の交差路66はそれぞれ、X軸に沿う方向から見た場合に、Y軸に沿って延びる基準線を持つ正弦関数に沿って延びる。さらに、図4に示すように、Y軸に沿って延びる第1の交差路62及び第2の交差路66はそれぞれ、Z軸に沿う方向から見た場合にも、Y軸に沿って延びる基準線を持つ正弦関数に沿って延びる。このために、第1の交差路62及び第2の交差路66はそれぞれ、互いに反対方向に凸に曲げられるとともに互いに接続された部分を有する、略S字状の部分を含む。
図3に示すように、X軸に沿って延びる複数の第1の交差路62と、Y軸に沿って延びる複数の第1の交差路62とは、複数の第1の延路61と同様に配置される。すなわち、X軸に沿って延びる複数の第1の交差路62は、X軸に沿う方向から見て、斜方格子状に配置される。Y軸に沿って延びる複数の第1の交差路62は、Y軸に沿う方向から見て、斜方格子状に配置される。
複数の第1の交差路62は、第1の延路61が延びる方向(Z軸に沿う方向)に並ぶ。複数の第1の交差路62はそれぞれ、複数の第1の延路61と交差するとともに、複数の第1の延路61を接続する。
第1の延路61が延びる方向において、X軸に沿って延びる第1の交差路62と、Y軸に沿って延びる第1の交差路62とが、交互に配置される。このため、第1の延路61が延びる方向において、複数の第1の交差路62のうち隣接する二つは、互いにねじれの位置にある。
図4に示すように、複数の第1の交差路62はそれぞれ、複数の第1の接続路81を含む。第1の接続路81は、第1の交差路62の一部である。図4に示す位置において、複数の第1の接続路81は、第1の交差路62が延びる方向に連通することで、正弦関数に沿って延びる第1の交差路62を形成する。
複数の第1の接続路81はそれぞれ、第1の延路61が延びる方向(Z軸に沿う方向)に並ぶ。複数の第1の接続路81はそれぞれ、複数の第1の延路61のうち二つと交差するとともに、複数の第1の延路61のうち当該二つを接続する。
第1の延路61が延びる方向において、X軸に沿って延びる第1の交差路62の第1の接続路81と、Y軸に沿って延びる第1の交差路62の第1の接続路81とが、交互に配置される。このため、第1の延路61が延びる方向において、複数の第1の接続路81のうち隣接する二つは、互いにねじれの位置にある。
図3に示すように、X軸に沿って延びる複数の第2の交差路66と、Y軸に沿って延びる複数の第2の交差路66とは、複数の第2の延路65と同様に配置される。すなわち、X軸に沿って延びる複数の第2の交差路66は、X軸に沿う方向から見て、斜方格子状に配置される。Y軸に沿って延びる複数の第2の交差路66は、Y軸に沿う方向から見て、斜方格子状に配置される。
複数の第2の交差路66は、第1の延路61が延びる方向に並ぶ。複数の第2の交差路66はそれぞれ、複数の第2の延路65と交差するとともに、複数の第2の延路65を接続する。
第1の延路61が延びる方向において、X軸に沿って延びる第2の交差路66と、Y軸に沿って延びる第2の交差路66とが、交互に配置される。このため、第1の延路61が延びる方向において、複数の第2の交差路66のうち隣接する二つは、互いにねじれの位置にある。
図4に示すように、複数の第2の交差路66はそれぞれ、複数の第2の接続路82を含む。第2の接続路82は、第2の交差路66の一部である。図4に示す位置において、複数の第2の接続路82は、第2の交差路66が延びる方向に連通することで、正弦関数に沿って延びる第2の交差路66を形成する。
複数の第2の接続路82はそれぞれ、第1の延路61が延びる方向に並ぶ。複数の第2の接続路82はそれぞれ、複数の第2の延路65のうち二つと交差するとともに、複数の第2の延路65のうち当該二つを接続する。
第1の延路61が延びる方向において、X軸に沿って延びる第2の交差路66の第2の接続路82と、Y軸に沿って延びる第2の交差路66の第2の接続路82とが、交互に配置される。このため、第1の延路61が延びる方向において、複数の第2の接続路82のうち隣接する二つは、互いにねじれの位置にある。
図5は、第1の実施形態の隔壁38の一部を図2のF5−F5線に沿って概略的に示す断面図である。図6は、第1の実施形態の隔壁38の一部を図2のF6−F6線に沿って概略的に示す断面図である。図7は、第1の実施形態の隔壁38の一部を図2のF7−F7線に沿って概略的に示す断面図である。図8は、第1の実施形態の隔壁38の一部を図2のF8−F8線に沿って概略的に示す断面図である。図9は、第1の実施形態の隔壁38の一部を図2のF9−F9線に沿って概略的に示す断面図である。
図4乃至図9は、Z軸に沿う方向に進むに従って変化する隔壁38の断面を示す。図4乃至図9は、隔壁38の断面を、下方向に順に示す。すなわち、図9に示される隔壁38の断面は、図5に示す隔壁38の断面よりも下方向に位置する。
図4乃至図9に示すように、以下説明のため、第1の隣接延路72に含まれる四つの第1の延路61を、第1の延路61A,61B,61C,61Dと個別に称する。同様に、第2の隣接延路76に含まれる四つの第2の延路65を、第2の延路65A,65B,65C,65Dと個別に称する。
図4に示す位置において、複数の第1の接続路81は、全体的にY軸に沿う方向に連通し、正弦関数に沿って延びる第1の交差路62を形成する。同じく、複数の第2の接続路82は、全体的にY軸に沿う方向に連通し、正弦関数に沿って延びる第2の交差路66を形成する。
図5に示す位置において、複数の第1の接続路81は、互いに分離している。第1の接続路81は、二つの第1の延路61を接続する。例えば、第1の接続路81は、第1の隣接延路72に含まれる第1の延路61Aと、第1の隣接延路72に囲まれる第1の中心延路71とを接続する。図5において、第1の延路61Aは、第1の中心延路71の左上に位置する。
同じく、図5に示す位置において、複数の第2の接続路82は、互いに分離している。第2の接続路82は、二つの第2の延路65を接続する。例えば、第2の接続路82は、第2の隣接延路76に含まれる第2の延路65Aと、第2の隣接延路76に囲まれる第2の中心延路75とを接続する。図5において、第2の延路65Aは、第2の中心延路75の右上に位置する。図5に示す位置において、第1の接続路81が延びる方向と、第2の接続路82が延びる方向とは、互いに交差する。
図6に示す位置において、複数の第1の接続路81は、全体的にX軸に沿う方向に連通し、正弦関数に沿って延びる第1の交差路62を形成する。このように、複数の第1の接続路81は、第1の延路61が延びる方向に進むに従って、分離と連通とを繰り返す。
同じく、図6に示す位置において、複数の第2の接続路82は、全体的にX軸に沿う方向に連通し、正弦関数に沿って延びる第2の交差路66を形成する。このように、複数の第2の接続路82は、第1の延路61が延びる方向に進むに従って、分離と連通とを繰り返す。
図7に示す位置において、複数の第1の接続路81は、互いに分離し、二つの第1の延路61を接続する。例えば、第1の接続路81は、第1の中心延路71と、第1の隣接延路72に含まれる第1の延路61Bとを接続する。図7において、第1の延路61Bは、第1の中心延路71の右上に位置する。
同じく、図7に示す位置において、複数の第2の接続路82は、互いに分離し、二つの第2の延路65を接続する。例えば、第2の接続路82は、第2の中心延路75と、第2の隣接延路76に含まれる第2の延路65Bとを接続する。図7において、第2の延路65Bは、第2の中心延路75の左上に位置する。図7に示す位置において、第1の接続路81が延びる方向と、第2の接続路82が延びる方向とは、互いに交差する。
図8に示す位置において、複数の第1の接続路81は、互いに分離し、二つの第1の延路61を接続する。例えば、第1の接続路81は、第1の中心延路71と、第1の隣接延路72に含まれる第1の延路61Cとを接続する。図8において、第1の延路61Cは、第1の中心延路71の右下に位置する。
同じく、図8に示す位置において、複数の第2の接続路82は、互いに分離し、二つの第2の延路65を接続する。例えば、第2の接続路82は、第2の中心延路75と、第2の隣接延路76に含まれる第2の延路65Cとを接続する。図8において、第2の延路65Cは、第2の中心延路75の左下に位置する。図8に示す位置において、第1の接続路81が延びる方向と、第2の接続路82が延びる方向とは、互いに交差する。
図9に示す位置において、複数の第1の接続路81は、互いに分離し、二つの第1の延路61を接続する。例えば、第1の接続路81は、第1の中心延路71と、第1の隣接延路72に含まれる第1の延路61Dとを接続する。図9において、第1の延路61Dは、第1の中心延路71の左下に位置する。
同じく、図9に示す位置において、複数の第2の接続路82は、互いに分離し、二つの第2の延路65を接続する。例えば、第2の接続路82は、第2の中心延路75と、第2の隣接延路76に含まれる第2の延路65Dとを接続する。図9において、第2の延路65Dは、第2の中心延路75の右下に位置する。図9に示す位置において、第1の接続路81が延びる方向と、第2の接続路82が延びる方向とは、互いに交差する。
なお、図7に示す位置と図8に示す位置との間において、複数の第1の接続路81及び複数の第2の接続路82は、全体的にY軸に沿う方向に連通する。また、図8に示す位置と図9に示す位置との間において、複数の第1の接続路81及び複数の第2の接続路82は、全体的にX軸に沿う方向に連通する。
以上のように、複数の第1の延路61が延びる方向に進むに従って、第1の接続路81によって第1の中心延路71に接続される第1の隣接延路72のうち一つの第1の延路61が、第1の中心延路71を中心とする時計回り方向に入れ替わる。時計回り方向は、第1の回転方向の一例である。
さらに、複数の第1の延路61が延びる方向に進むに従って、第2の接続路82によって第2の中心延路75に接続される第2の隣接延路76のうち一つの第2の延路65が、第2の中心延路75を中心とする反時計回り方向に入れ替わる。反時計回り方向は、時計回り方向の反対方向であり、第2の回転方向の一例である。
以上述べた第1の通路51及び第2の通路52は、隔壁38がジャイロイドの周期極小曲面に沿うことにより得られるが、隔壁38がジャイロイドの周期極小曲面と異なる形状を有した場合にも得られ得る。すなわち、隔壁38は、ジャイロイドの周期極小曲面に沿う形状に限定されない。
以上説明したような隔壁38は、例えば、付加製造(Additive Manufacturing:AM)によって作られ得る。隔壁38は、例えば、金属によって作られる。なお、隔壁38は、他の方法及び他の材料によって作られても良い。
以上説明された半導体製造装置10において、図1の冷媒供給装置23が、第2の流入口47から外部屋42及び第2の通路52に冷媒Mを供給する。冷媒Mは、第2の通路52を流れることで、隔壁38を含む気液分離部21を冷却する。冷媒Mは、第2の流出口48から外部屋42及び第2の通路52の外に排出され、冷媒供給装置23に戻される。
真空ポンプ22が処理装置11の内部の気体Gを吸引すると、ミスト状の液体Lが混合された気体Gが、処理装置11から、第1の通路51の第1の開口端51aに供給される。隔壁38がジャイロイドの周期極小曲面に沿うため、第1の通路51は、正弦関数に沿って延びる第1の延路61及び第1の交差路62を含むとともに、複数の位置で分岐及び合流する。
第1の通路51を流れることで、気体Gは、蛇行し、分離及び衝突を繰り返して攪拌される。分離した気体Gが互いに衝突することで、気体Gに含まれる液体Lの粒子も衝突し、液体Lの粒径が増大する。粒径が増加するほど、液体Lは気体Gから分離しやすい。さらに、気体Gに乱流が生じ、気体Gが隔壁38や筒壁31に衝突する。これにより、液体Lが凝縮し、気体Gから分離される。
また、隔壁38が直線状に延びる場合に比べ、隔壁38の比表面積が大きい。このため、隔壁38を介して、第1の通路51の気体G及び液体Lと、第2の通路52の冷媒Mとの間で熱交換しやすい。冷媒Mが隔壁38を冷却することで、液体Lが隔壁38の表面で凝縮し、気体Gから分離される。
凝縮して気体Gから分離された液体Lは、気体Gに押されて、そして重力によって、隔壁38に沿って流れる。液体Lは、第2の開口端51bから、第1の通路51の外へ排出される。
以上のように、気体Gが第1の通路51を流れることで、液体Lが第1の通路51で凝集して、気体Gと共に第1の通路51の第2の開口端51bから排出される。気体Gは真空ポンプ22に吸引され、凝縮した液体Lは回収装置24に回収される。これにより、真空ポンプ22に液体Lが到達することが抑制される。
以上説明された第1の実施形態に係る半導体製造装置10において、ジャイロイドの周期極小曲面に沿う隔壁38によって第1の通路51と第2の通路52とが互いに隔てられ、第1の通路51にミスト状の液体Lが混合された気体Gが通る。隔壁38がジャイロイドの周期極小曲面に沿うことで、第1の通路51及び第2の通路52はそれぞれ、異なる三方向に無限に連結可能、且つ正弦関数に沿って延びる流路となる。このため、第1の通路51を通る気体Gは、蛇行し、複数の経路での分離及び衝突を繰り返す。これにより、第1の通路51を通る気体Gに乱流が生じ、気体Gに含まれるミスト状の液体Lが衝突により凝縮しやすい。従って、より効率的に気体Gからミスト状の液体Lを分離することができる。さらに、隔壁38は、ジャイロイドの周期極小曲面に沿うことで、直線状に延びる場合に比べて比表面積が大きくなる。このため、第2の通路52に冷媒Mを流すことにより、第1の通路51を流れる気体G及びミスト状の液体Lと冷媒Mとが熱交換しやすくなり、ミスト状の液体Lが凝縮しやすい。一方、隔壁38が極小曲面に沿うため、他の曲面に沿う場合に比べ、比表面積が不要に増大することが抑制される。これにより、第1の通路51を流れる気体Gの圧力損失が増大することが抑制される。
(第2の実施形態)
以下に、第2の実施形態について、図10乃至図12を参照して説明する。なお、以下の複数の実施形態の説明において、既に説明された構成要素と同様の機能を持つ構成要素は、当該既述の構成要素と同じ符号が付され、さらに説明が省略される場合がある。また、同じ符号が付された複数の構成要素は、全ての機能及び性質が共通するとは限らず、各実施形態に応じた異なる機能及び性質を有していても良い。
図10は、第2の実施形態に係る隔壁38の一部を示す斜視図である。図11は、第2の実施形態の隔壁38を示す側面図である。図12は、第2の実施形態の隔壁38を示す平面図である。
図10乃至図12に示すように、第2の実施形態において、複数の第1の延路61は、互いに並行して螺旋状に捩れて延びる。さらに、複数の第2の延路65は、互いに並行するとともに複数の第1の延路61と並行して螺旋状に捩れて延びる。このため、第1の延路61と第2の延路65とは、略同一の形状を有する。一方、第1の延路61及び第2の延路65と、第1の交差路62及び第2の交差路66とは、互いに異なる形状を有する。
以上説明された第2の実施形態の半導体製造装置10において、複数の第1の延路61と、複数の第2の延路65とは、螺旋状に延びる。これにより、第1の延路61を流れる気体Gに乱流が生じやすくなり、気体Gに含まれるミスト状の液体Lが衝突により凝縮しやすい。従って、より効率的に気体Gからミスト状の液体Lを分離することができる。
(第3の実施形態)
以下に、第3の実施形態について、図13及び図14を参照して説明する。図13は、第3の実施形態に係る隔壁38の一部を概略的に示す断面図である。図13に示すように、第3の実施形態の気液分離部21は、螺旋壁91を有する。螺旋壁91は、第2の壁の一例である。
図14は、第3の実施形態の螺旋壁91を概略的に示す斜視図である。図14に示すように、螺旋壁91は、螺旋状に延びる。図13に示すように、螺旋壁91は、隔壁38と一体に形成され、第1の通路51及び第2の通路52に位置する。なお、螺旋壁91は、隔壁38と異なる部品であっても良い。
以上説明された第3の実施形態の半導体製造装置10において、螺旋状に延びる螺旋壁91が、第1の通路51に位置する。これにより、第1の通路51を流れる気体Gに旋回流が生じ、気体Gに含まれるミスト状の液体Lに遠心力が作用する。このため、気体Gに含まれるミスト状の液体Lが衝突により凝縮しやすくなり、より効率的に気体Gからミスト状の液体Lを分離することができる。
(第4の実施形態)
以下に、第4の実施形態について、図15を参照して説明する。図15は、第4の実施形態に係る隔壁38の一部を概略的に示す断面図である。図15に示すように、複数の第1の交差路62の間隔は、第1の延路61が延びる方向に進むに従って短くなる。このため、複数の第1の接続路81の間隔も、第1の延路61が延びる方向に進むに従って短くなる。
同様に、複数の第2の交差路66の間隔は、第1の延路61が延びる方向に進むに従って短くなる。このため、複数の第2の接続路82の間隔も、第1の延路61が延びる方向に進むに従って短くなる。
複数の第1の接続路81の間隔が短くなることで、複数の第1の接続路81によって第1の中心延路71に接続される第1の隣接延路72のうち一つの第1の延路61が入れ替わる間隔は、第1の延路61が延びる方向に進むに従って短くなる。同様に、複数の第2の接続路82の間隔が短くなることで、複数の第2の接続路82によって第2の中心延路75に接続される第2の隣接延路76のうち一つの第2の延路65が入れ替わる間隔は、第1の延路61が延びる方向に進むに従って短くなる。
以上のように、複数の第1の接続路81の間隔、及び複数の第2の接続路82の間隔は、第1の延路61が延びる方向に進むに従って変化する。なお、複数の第1の接続路81の間隔、及び複数の第2の接続路82の間隔は、第1の延路61が延びる方向に進むに従って、増加しても良いし、増加する部分と減少する部分とが表れても良い。
以上説明された第4の実施形態の半導体製造装置10において、複数の第1の接続路81の間隔及び複数の第2の接続路82の間隔は、第1の延路61が延びる方向に進むに従って短くなる。別の表現によれば、第1の接続路81によって複数の第1の延路61のうち一つに接続される複数の第1の延路61のうち他の一つが入れ替わる間隔は、第1の延路61が延びる方向に進むに従って短くなる。さらに、第2の接続路82によって複数の第2の延路65のうち一つに接続される複数の第2の延路65のうち他の一つが入れ替わる間隔は、第1の延路61が延びる方向に進むに従って短くなる。これにより、気体Gが第1の延路61が延びる方向に進むに従って第1の通路51の断面積が小さくなるため、気体Gの分離及び衝突が生じやすくなり、気体Gに含まれるミスト状の液体Lが衝突により凝縮しやすくなる。従って、粒径が小さい液体Lも凝縮でき、より効率的に気体Gからミスト状の液体Lを分離することができる。
(第5の実施形態)
以下に、第5の実施形態について、図16を参照して説明する。図16は、第5の実施形態に係る隔壁38の一部を概略的に示す断面図である。図16に示すように、第5の実施形態において、気液分離部21に第3の通路95が設けられる。
第3の通路95は、隔壁38の内部に設けられ、ジャイロイドの周期極小曲面に沿う通路である。すなわち、第3の通路95は、(数1)式により表現される仮想的な曲面を中心として、略一定の幅を有する通路である。第3の通路95の幅は、隔壁38の厚さよりも小さい。なお、第3の通路95の中心は、(数1)式により表現される仮想的な曲面と異なっても良い。
第3の通路95が設けられるため、隔壁38は、第1の隔壁38aと、第2の隔壁38bとを含む。第1の隔壁38aは、第1の通路51と第3の通路95との間に位置し、第1の通路51と第3の通路95とを互いに隔てる。第2の隔壁38bは、第2の通路52と第3の通路95との間に位置し、第2の通路52と第3の通路95とを互いに隔てる。
第5の実施形態において、外部屋42、第2の流入口47、及び第2の流出口48は、第2の通路52の代わりに、第3の通路95に連通される。このため、冷媒供給装置23は、冷媒Mを第2の流入口47及び外部屋42を介して第3の通路95に供給する。第3の通路95を通過した冷媒Mは、第2の流出口48から外部屋42の外へ排出される。隔壁38及び内筒壁31bは、冷媒Mが第1の通路51及び第2の通路52に流入することを防ぐ。
第5の実施形態において、第2の通路52は、内部屋41の第1の空間41a及び第2の空間41bに連通する。このため、第2の通路52は、第1の空間41aを介して第1の流入口45に連通されるとともに、第2の空間41bを介して第1の流出口46に連通される。
真空ポンプ22が処理装置11の内部の気体Gを吸引すると、気体Gは、第1の流入口45及び第1の空間41aを通って、第1の通路51及び第2の通路52に供給される。第1の通路51を通過した気体Gと、第2の通路52と通過した気体Gとは、第2の空間41b及び第1の流出口46を通って、内部屋41の外へ排出される。隔壁38は、気体Gが第3の通路95に流入することを防ぐ。
第3の通路95を流れる冷媒Mと、第1の通路51及び第2の通路52を流れる気体G及びミスト状の液体Lとは、隔壁38を介して熱交換する。このため、冷媒Mが隔壁38を冷却することで隔壁38の表面で液体Lが凝縮し、気体Gから分離される。
以上の説明では、ミスト状の液体Lが混合された気体Gが第1の通路51及び第2の通路52を並列に流れた。しかし、気体Gは、例えば、第1の通路51を通過した後、第2の通路52を通過しても良い。これにより、気体Gが第1の通路51及び第2の通路52を流れる距離及び時間が長くなり、より確実に気体Gからミスト状の液体Lを分離することができる。
以上説明された第5の実施形態の半導体製造装置10において、隔壁38の内部に第3の通路95が設けられる。第3の通路95に冷媒Mを流し、第1の通路51及び第2の通路52にミスト状の液体Lを含む気体Gを流すことで、より効率的に気体Gからミスト状の液体Lを分離することができる。
以上説明された少なくとも一つの実施形態によれば、ジャイロイドの周期極小曲面に沿う第1の壁によって第1の通路と第2の通路とが互いに隔てられ、第1の通路にミスト状の液体が混合された気体が通る。第1の壁がジャイロイドの周期極小曲面に沿うことで、第1の通路及び第2の通路はそれぞれ、異なる三方向に無限に連結可能、且つ正弦関数に沿って延びる流路となる。このため、第1の通路を通る気体は、蛇行し、複数の経路での分離及び衝突を繰り返す。これにより、第1の通路を通る気体に乱流が生じ、気体に含まれるミスト状の液体が衝突により凝縮しやすい。従って、より効率的に気体からミスト状の液体を分離することができる。さらに、第1の壁は、ジャイロイドの周期極小曲面に沿うことで、直線状に延びる場合に比べて比表面積が大きくなる。このため、第2の流路に冷媒を流すことにより、第1の流路を流れる気体及びミスト状の液体と冷媒とが熱交換しやすくなり、ミスト状の液体が凝縮しやすい。一方、第1の壁が極小曲面に沿うため、他の曲面に沿う場合に比べ、比表面積が不要に増大することが抑制される。これにより、第1の流路を流れる気体の圧力損失が増大することが抑制される。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
10…半導体製造装置、11…処理装置、12…気液分離装置、21…気液分離部、21a…内側部分、22…真空ポンプ、23…冷媒供給装置、24…回収装置、38…隔壁、51…第1の通路、51a…第1の開口端、51b…第2の開口端、52…第2の通路、61,61A,61B,61C,61D…第1の延路、65,65A,65B,65C,65D…第2の延路、72…第1の隣接延路、76…第2の隣接延路、81…第1の接続路、82…第2の接続路、91…螺旋壁、95…第3の通路、G…気体、L…液体、M…冷媒。

Claims (8)

  1. ジャイロイドの周期極小曲面に沿う第1の壁を有し、ミスト状の液体が混合された気体が通るよう構成された第1の通路と、前記第1の壁によって前記第1の通路から隔てられた第2の通路と、が設けられた流路構造、
    を具備する気液分離装置。
  2. 第1の壁を有し、ミスト状の液体が混合された気体が通るよう構成された第1の通路と、前記第1の壁によって前記第1の通路から隔てられた第2の通路と、が設けられた流路構造、
    を具備し、
    前記第1の通路は、互いに並行して延びる複数の第1の延路と、前記複数の第1の延路のうち二つと交差するとともに前記複数の第1の延路のうち当該二つを接続する第1の接続路と、を含み、
    前記第2の通路は、互いに並行して延びるとともに前記複数の第1の延路と並行して延びる複数の第2の延路と、前記複数の第2の延路のうち二つと交差するとともに前記複数の第2の延路のうち当該二つを接続する第2の接続路と、を含み、
    前記流路構造の一部において、前記複数の第1の延路がそれぞれ、前記複数の第1の延路のうち四つと前記複数の第2の延路のうち四つとを含む八つの第1の隣接延路によって周りを囲まれ、前記八つの第1の隣接延路では前記複数の第1の延路と前記複数の第2の延路とが交互に配置され、
    前記流路構造の前記一部において、前記複数の第2の延路がそれぞれ、前記複数の第1の延路のうち四つと前記複数の第2の延路のうち四つとを含む八つの第2の隣接延路によって周りを囲まれ、前記八つの第2の隣接延路では前記複数の第1の延路と前記複数の第2の延路とが交互に配置され、
    前記第1の接続路は、前記第1の隣接延路に含まれる前記複数の第1の延路のうち一つと、当該第1の隣接延路に囲まれる前記複数の第1の延路のうち一つと、を接続し、
    前記複数の第1の延路が延びる方向に進むに従って、前記第1の接続路によって前記複数の第1の延路のうち一つに接続される前記複数の第1の延路のうち他の一つが、前記複数の第1の延路のうち当該一つを中心とする第1の回転方向に入れ替わり、
    前記複数の第2の接続路は、前記第2の隣接延路に含まれる前記複数の第2の延路のうち一つと、当該第2の隣接延路に囲まれる前記複数の第2の延路のうち一つと、を接続し、
    前記複数の第1の延路が延びる方向に進むに従って、前記第2の接続路によって前記複数の第2の延路のうち一つに接続される前記複数の第2の延路のうち他の一つが、前記複数の第2の延路のうち当該一つを中心とするとともに前記第1の回転方向の反対の第2の回転方向に入れ替わる、
    気液分離装置。
  3. 前記複数の第1の延路は、螺旋状に延び、
    前記複数の第2の延路は、螺旋状に延びる、
    請求項2の気液分離装置。
  4. 前記第1の通路に位置し、螺旋状に延びる第2の壁、をさらに具備する請求項1又は請求項2の気液分離装置。
  5. 前記第1の通路は、互いに並行して延びる複数の第1の延路と、前記複数の第1の延路が延びる方向に並ぶとともに前記複数の第1の延路のうち少なくとも二つを接続する複数の第1の接続路と、を含み、
    前記第2の通路は、互いに並行して延びるとともに前記複数の第1の延路と並行して延びる複数の第2の延路と、前記複数の第1の延路が延びる方向に並ぶとともに前記複数の第2の延路のうち少なくとも二つを接続する複数の第2の接続路と、を含み、
    前記複数の第1の延路が延びる方向において、前記複数の第1の接続路のうち隣り合う二つは互いにねじれの位置にあり、
    前記複数の第1の延路が延びる方向において、前記複数の第2の接続路のうち隣り合う二つは互いにねじれの位置にあり、
    前記複数の第1の接続路の間隔は、前記第1の延路が延びる方向に進むに従って短くなり、
    前記複数の第2の接続路の間隔は、前記第1の延路が延びる方向に進むに従って短くなる、
    請求項1の気液分離装置。
  6. 前記第1の接続路によって前記複数の第1の延路のうち一つに接続される前記複数の第1の延路のうち他の一つが入れ替わる間隔は、前記第1の延路が延びる方向に進むに従って短くなり、
    前記第2の接続路によって前記複数の第2の延路のうち一つに接続される前記複数の第2の延路のうち他の一つが入れ替わる間隔は、前記第1の延路が延びる方向に進むに従って短くなる、
    請求項2の気液分離装置。
  7. 前記第1の壁の内部に第3の通路が設けられた、請求項1又は請求項2の気液分離装置。
  8. 請求項1乃至請求項7のいずれか一つの気液分離装置と、
    前記第1の通路の入口に前記気体を供給する第1の装置と、
    前記第2の通路に冷媒を供給する第2の装置と、
    前記第1の通路で凝縮して前記第1の通路の出口から排出された前記液体を回収する第3の装置と、
    を具備する気液分離システム。
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