JP2019134022A - 容量素子及びプラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
このような構成であれば、収容容器の内部を液体誘電体が流れるので、収容容器内の液体誘電体が置換される。これにより、液体誘電体の温度上昇による比誘電率の変化などに起因した静電容量の不意の変動を抑えることができる。
このような構成であれば、第1の固定金属板や第2の固定金属板を導入ポートや導出ポートを介して収容容器内に挿入しているので、これらの固定金属板を挿入するための別のポートを収容容器に形成する必要がなく、製造の容易化を図れる。
このような構成であれば、収容容器と回転軸体との間を軸シールによりシールすることができ、例えば第1の固定金属板及び第2の固定金属板の間で誘電体板を並進移動させる構成に比べてシール性が良い。
このような構成であれば、第1の固定金属板や第2の固定金属板を収容容器から取り外すことなく、誘電体板を収容容器に対して挿脱することができ、組み立て性やメンテナンス性が良い。
このように構成された容量素子によれば、液体誘電体の容量を変更することで静電容量を変えることができるので、一対の固定電極や固体誘電体が傷つくことを防ぐことができる。そのうえ、一対の固定電極の間に液体誘電体を介在させているので、これらの間が空気により満たされている場合に比べて、静電容量の大幅な低下を抑えることができる。
このように構成されたプラズマ処理装置であれば、プラズマ生成時に生じる熱によって高温になりがちなアンテナ導体を、液体誘電体を用いてアンテナ導体を冷却することができるので、アンテナ自体の破損又はその周辺構造の破損などを防ぐことができ、安定してプラズマを発生させることが可能となる。
本実施形態のプラズマ処理装置100は、誘導結合型のプラズマPを用いて基板Wに処理を施すものである。ここで、基板Wは、例えば、液晶ディスプレイや有機ELディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ(FPD)用の基板、フレキシブルディスプレイ用のフレキシブル基板等である。また、基板Wに施す処理は、例えば、プラズマCVD法による膜形成、エッチング、アッシング、スパッタリング等である。
次に接続導体12について、図3〜図7を参照して詳細に説明する。なお、図3及び図4などにおいて一部のシール部材などは記載を省略している。
このように構成した本実施形態のプラズマ処理装置100によれば、第1の固定金属板161と可動誘電体板182との間や、第2の固定金属板171と可動誘電体板182との間に液体誘電体たる冷却液CLが介在しているので、固定金属板161、171や可動誘電体板182を傷つけることなく可動誘電体板182を回転させることができる。
そのうえ、第1の固定金属板161と可動誘電体板182との間や、第2の固定金属板171と可動誘電体板182との間に例えば空気が介在する場合に比べて、静電容量の大幅な低下を防ぐことができる。
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
さらに、固体誘電体18としては、前記実施形態では液体誘電体の比誘電率よりも小さいものを用いていたが、液体誘電体の比誘電率よりも大きいものを用いても良い。この場合、可動誘電体板182を非介在位置から介在位置に回転移動させることにより、その回転角度θに応じて静電容量が増大する。
この場合、循環流路11を循環する冷却液とは別の液体を液体誘電体として収容容器19に収容させることが好ましく、その液体誘電体の容量の調整は自動或いは手動で行えば良い。
W・・・基板
P・・・誘導結合プラズマ
2・・・真空容器
3・・・アンテナ導体
3S・・・流路
CL・・・冷却液
13・・・可変コンデンサ
16・・・第1の固定電極
161・・・固定金属板
17・・・第2の固定電極
171・・・固定金属板
18・・・固体誘電体
C・・・回転軸
182・・・可動誘電体板
161a、171a・・・先端辺
161b、171b・・・端辺
182a・・・端辺
19・・・収容容器
P1・・・導入ポート
P2・・・導出ポート
Claims (9)
- 互いに対向して設けられた一対の固定電極と、
前記一対の固定電極の間に出入可能に設けられた固体誘電体と、
前記一対の固定電極及び前記固体誘電体を収容する収容容器と、
前記収容容器内に導入されて前記一対の固定電極の間に介在する液体誘電体とを具備する、容量素子。 - 前記収容容器が、前記液体誘電体を導入する導入ポート及び前記液体誘電体を導出する導出ポートを有している、請求項1記載の容量素子。
- 前記一対の固定電極の一方が、前記導入ポートに設けられた第1のフランジ部材と、前記第1のフランジ部材に支持された複数の第1の固定金属板とを有し、
前記一対の固定電極の他方が、前記導出ポートに設けられた第2のフランジ部材と、前記第1の固定金属板の間に位置するように前記第2のフランジ部材に支持された複数の第2の固定金属板とを有し、
前記第1のフランジ部材及び前記第2のフランジ部材に前記液体誘電体が流通可能な開口が形成されている、請求項2記載の容量素子。 - 前記固体誘電体が、
前記収容容器の側壁に回転軸周りに回転可能に支持された回転軸体と、
前記回転軸体に支持されて前記回転軸周りに回転し、前記第1の固定金属板及び前記第2の固定金属板の間を出入する複数の誘電体板とを有している、請求項3記載の容量素子。 - 前記複数の誘電体板が、前記第1の固定金属板及び前記第2の固定金属板の間から抜き出された状態において、前記第1の固定金属板及び前記第2の固定金属板の何れにも対向しない、請求項4記載の容量素子。
- 前記液体誘電体が水である、請求項1乃至5のうち何れか一項に記載の容量素子。
- 前記固体誘電体の比誘電率が水の比誘電率よりも小さい、請求項1乃至6のうち何れか一項に記載の容量素子。
- 互いに対向して設けられた一対の固定電極と、
前記一対の固定電極の間に設けられた固体誘電体と、
前記一対の固定電極及び前記固体誘電体を収容する収容容器と、
前記収容容器内に導入されて前記一対の固定電極の間に介在する液体誘電体とを具備し、
前記収容容器内の前記液体誘電体の容量を変更可能に構成されている、容量素子。 - 請求項1乃至8のうち何れか一項に記載の容量素子と、
前記容量素子と電気的に接続されるとともに、高周波電流が流されて、プラズマを発生させるためのアンテナ導体とを具備し、
前記液体誘電体が前記アンテナ導体の冷却液である、プラズマ処理装置。
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JP2018013771A JP7022313B2 (ja) | 2018-01-30 | 2018-01-30 | 容量素子及びプラズマ処理装置 |
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Family Applications (1)
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0232515A (ja) * | 1988-07-21 | 1990-02-02 | Nichicon Corp | プラズマx線発生装置 |
JPH0644207U (ja) * | 1992-11-25 | 1994-06-10 | 株式会社村田製作所 | 静電容量可変手段ならびにそれを用いた誘電体同軸共振器および誘電体フィルタ |
JPH0869945A (ja) * | 1994-08-30 | 1996-03-12 | Nec Eng Ltd | 可変コンデンサ及びその容量変化方法 |
-
2018
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