JP2019130652A - Single-sided polishing device - Google Patents

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Abstract

To provide a single-sided polishing device in which a structure for transferring and removing weights relative to a workpiece is simplified, and in which handling work of the weights can be easily performed in short time.SOLUTION: A single-sided polishing device uses plural weights to press a workpiece W inside a work holder 105 disposed via an abrasive pad 104a on a surface table 104, and polishes one surface of the workpiece W using the abrasive pad 104a by rotating the surface table 104 and the workpiece W relative to each other. As the weights, plural kinds of split weights 110a-110c of different weights are prepared, and the split weights 110a-110c prearranged according to a prescribed load distribution outside the surface table 104 are transferrable collectively onto a top surface of the workpiece W according to a weight conveyance device.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、ガラス基板や半導体ウェハ等のワークを研磨する片面研磨装置に関し、詳しくは、定盤の表面に貼布された研磨パッドに対して、ワークを所定の荷重分布に従って加圧するための技術に関するものである。   The present invention relates to a single-side polishing apparatus for polishing a workpiece such as a glass substrate or a semiconductor wafer, and more specifically, a technique for pressurizing a workpiece according to a predetermined load distribution against a polishing pad attached to the surface of a surface plate. It is about.

この種の片面研磨装置において、ワークの端部、及び、特に矩形ワークにおいては四隅部が中心部より過剰に研磨されるのを防止してワークを均一に研磨するようにした従来技術が、種々提供されている。   In this kind of single-side polishing apparatus, there are various conventional techniques for uniformly polishing the workpiece by preventing the edge of the workpiece and particularly the four corners of the rectangular workpiece from being excessively polished from the central portion. Is provided.

例えば、特許文献1には、ウェハ等のワークが吸着された吸着パッドに複数のリングウェイトにより荷重をかけながら研磨パッドに圧接するCMP(化学機械研磨)装置であって、研磨レートがワーク全面で均一になるようにした従来技術が記載されている。
特許文献2には、ラップ定盤に研磨パッドを固定してその表面にワークを載置し、この研磨基板の上面に保護シートを介して球状の加圧部材を複数配置すると共に、これらの加圧部材を加圧用錘によって加圧することにより、ワークに対する加圧力を均一化する研磨装置が記載されている。
特許文献3には、加工台の表面にワークを吸着・載置させ、その上方に配置された研磨パッドを、弾性体を介して複数の加圧棒にて加圧することにより、ワークに対する加圧力を均一化する研磨装置が記載されている。
For example, Patent Document 1 discloses a CMP (Chemical Mechanical Polishing) apparatus that presses against a polishing pad while applying a load to a suction pad to which a workpiece such as a wafer is sucked by a plurality of ring weights, and the polishing rate is the entire surface of the workpiece. The prior art is made uniform.
In Patent Document 2, a polishing pad is fixed to a lapping surface plate, a workpiece is placed on the surface, and a plurality of spherical pressure members are disposed on the upper surface of the polishing substrate via a protective sheet. A polishing apparatus is described that pressurizes a pressure member with a pressurizing weight to make the pressure applied to the workpiece uniform.
In Patent Document 3, a workpiece is sucked and placed on the surface of a work table, and a polishing pad disposed above the workpiece is pressed with a plurality of pressure bars via an elastic body, thereby applying pressure to the workpiece. A polishing apparatus for homogenizing is described.

また、特許文献4には、研磨熱による定盤形状の変化等によって発生するワークの研磨ムラに合わせて、ワークに対する所定の荷重分布を発生させるようにした研磨装置が記載されている。
図9は、この研磨装置の主要部を示す側面図であり、1は定盤、2は研磨パッド、3は荷重保持器、4は荷重保持部材、5は多数のウェイト(荷重)、6は研磨液を供給するノズル、Wはワークである。図9では、ウェイト5を全て同じ高さで示しているが、後述するように、ワークWの研磨ムラ形状に応じた荷重分布を得るために、高さ(重さ)が異なる複数種類のウェイトを使用可能となっている。
Further, Patent Document 4 describes a polishing apparatus that generates a predetermined load distribution on a workpiece in accordance with uneven polishing of the workpiece caused by a change in the surface plate shape caused by polishing heat.
FIG. 9 is a side view showing the main part of this polishing apparatus, wherein 1 is a surface plate, 2 is a polishing pad, 3 is a load holder, 4 is a load holding member, 5 is a number of weights (loads), and 6 is A nozzle for supplying a polishing liquid, W is a workpiece. In FIG. 9, the weights 5 are all shown at the same height. However, as will be described later, in order to obtain a load distribution according to the shape of uneven polishing of the workpiece W, a plurality of types of weights having different heights (weights) are used. Can be used.

図10は、ワークWの研磨ムラ形状W’を誇張して示したものであり、この研磨ムラ形状W’は実験によって予め求めることができる。また、x,y,zはワークWの基準面からの距離であり、a〜dは研磨ムラ形状W’が距離x,y,zをそれぞれ超える領域を示す。
特許文献4では、上記の領域a〜dに応じて重さが異なる4種類のウェイト5a〜5dをワークW上に配置して不均一な荷重分布を構成し、この状態でワークWを研磨することにより、研磨ムラ形状W’を相殺している。
FIG. 10 exaggerates the polishing uneven shape W ′ of the workpiece W, and this polishing uneven shape W ′ can be obtained in advance by experiments. Further, x, y, and z are distances from the reference surface of the workpiece W, and a to d indicate regions where the uneven polishing shape W ′ exceeds the distances x, y, and z, respectively.
In Patent Document 4, four types of weights 5a to 5d having different weights according to the above regions a to d are arranged on the workpiece W to form a non-uniform load distribution, and the workpiece W is polished in this state. As a result, the uneven polishing shape W ′ is offset.

次に、図11(a)〜(d)は、特許文献4において、ウェイト5a〜5dをワークW上の所定位置に移載するためのハンドリング動作を示しており、7は荷重ハンドリング装置、7aは個々のウェイト5a〜5dを吸着する吸着部を備えたハンドリング部である。
図10の研磨ムラ形状W’を相殺するためにウェイト5a〜5dをワークW上に移載する場合には、ハンドリング部7aが移載済みのウェイトと機械的に干渉するのを防止するため、最も高さの低い(最も軽い)ウェイト5aから5b→5c→5dの順に、ハンドリング部7aの下面の吸着部が吸着、解除を繰り返してウェイト5a〜5dをワークW上に移載していく。これにより、最終的には、図11(d)に示すごとく図10の研磨ムラ形状W’に対応させたウェイト5a〜5dの分布が構成されることになる。
Next, FIGS. 11A to 11D show handling operations for transferring the weights 5a to 5d to predetermined positions on the workpiece W in Patent Document 4, and 7 is a load handling device, 7a. Is a handling part provided with a suction part for sucking the individual weights 5a to 5d.
When the weights 5a to 5d are transferred onto the workpiece W in order to offset the uneven polishing shape W ′ of FIG. 10, in order to prevent the handling unit 7a from mechanically interfering with the transferred weight, The suction part on the lower surface of the handling part 7a repeats suction and release in the order of the lowest (lightest) weights 5a to 5b → 5c → 5d to transfer the weights 5a to 5d onto the workpiece W. As a result, finally, as shown in FIG. 11D, the distribution of the weights 5a to 5d corresponding to the polishing uneven shape W ′ of FIG. 10 is configured.

特開2004−122318号公報(段落[0019]〜[0024]、図1等)JP 2004-122318 A (paragraphs [0019] to [0024], FIG. 1 and the like) 特開2001−9698号公報(段落[0019]〜[0023]、図1等)JP 2001-9698 (paragraphs [0019] to [0023], FIG. 1 and the like) 特許第3326442号公報(段落[0022]〜[0031]、図1等)Japanese Patent No. 3326442 (paragraphs [0022] to [0031], FIG. 1, etc.) 特開2002−18701号公報(段落[0027]〜[0047]、図1〜図4等)JP 2002-18701 A (paragraphs [0027] to [0047], FIGS. 1 to 4 and the like)

特許文献1に記載の研磨装置では、同心円状に組み合わされる複数種類のリングウェイトの形状、構造が複雑であり、コスト高になる恐れがある。
また、特許文献2に記載の研磨装置では、複数の加圧部材として全て同じ重量の球状部材を用いている。しかし、例えば矩形のワークを研磨する場合には、ワークの四隅部分が過剰研磨される傾向にあるため、この四隅部分については加圧力を小さくする等、ワークの平面的な位置に応じて加圧力を調整できることが望ましいが、特許文献2の研磨装置ではこれが困難である。
特許文献3に記載の研磨装置では、加圧棒を加圧するためのリニアアクチュエータやシリンダブロック、ばね等を加圧棒の数だけ設けなくてはならず、装置の構造が複雑化するという問題がある。
In the polishing apparatus described in Patent Document 1, the shapes and structures of a plurality of types of ring weights combined concentrically are complicated, which may increase the cost.
Further, in the polishing apparatus described in Patent Document 2, spherical members having the same weight are used as the plurality of pressure members. However, when polishing a rectangular workpiece, for example, the four corners of the workpiece tend to be excessively polished. For this corner, the pressure is reduced according to the planar position of the workpiece. However, it is difficult for the polishing apparatus disclosed in Patent Document 2.
In the polishing apparatus described in Patent Document 3, it is necessary to provide as many linear actuators, cylinder blocks, springs, and the like as the number of pressure bars to pressurize the pressure bars, which complicates the structure of the apparatus. is there.

特許文献4に記載の研磨装置では、ウェイトの数だけハンドリング部7aの吸着部を設ける必要があるため、荷重ハンドリング装置7の構造が複雑になる。また、ウェイトの配置を変更する場合には、基本的に、全てのウェイトを除去した後に軽いウェイトから順にワーク上へ移載しなくてはならない。
更に、複数のワークを連続的に研磨する場合を想定すると、1枚のワークの研磨が終了してから多数のウェイトを重いものから順に除去し、研磨済みワークを搬出してから次のワークを研磨パッド上に搬入し、その後、多数のウェイトを軽量のものから順にワーク上へ移載する、といった作業を順次行う必要がある。
つまり、特許文献4の研磨装置では、荷重ハンドリング装置7の構造が複雑であると共に、ウェイトの移載や除去等の作業が煩雑で長時間を要するため、一連の研磨加工の作業性が悪いという問題があった。
In the polishing apparatus described in Patent Document 4, it is necessary to provide as many suction portions as the handling parts 7a as many as the number of weights, so that the structure of the load handling apparatus 7 becomes complicated. Further, when changing the weight arrangement, basically, all the weights must be removed and then transferred onto the workpiece in order from the lighter weight.
Furthermore, assuming a case where a plurality of workpieces are continuously polished, a number of weights are removed in order from the heaviest after the polishing of one workpiece is finished, and after the polished workpiece is taken out, the next workpiece is removed. It is necessary to sequentially perform operations such as loading onto a polishing pad and then transferring a large number of weights onto a workpiece in order from a light weight.
That is, in the polishing apparatus of Patent Document 4, the structure of the load handling apparatus 7 is complicated, and work such as weight transfer and removal is complicated and takes a long time, so that a series of polishing workability is poor. There was a problem.

そこで、本発明の解決課題は、ワークに対してウェイトを移載、除去するための構造を簡略化し、また、ウェイトのハンドリング作業を短時間で簡単に行えるようにした片面研磨装置を提供することにある。   SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the problem to be solved by the present invention is to provide a single-side polishing apparatus that simplifies the structure for transferring and removing weights to and from the workpiece, and that can easily perform weight handling operations in a short time. It is in.

上記課題を解決するため、請求項1に係る発明は、定盤上に研磨パッドを介して配置されたワークホルダ内のワークを複数のウェイトにより加圧すると共に、前記定盤と前記ワークとを相対的に回転させて前記ワークの一面を前記研磨パッドにより研磨する片面研磨装置であって、
前記ウェイトとして、重さが異なる複数の分割ウェイトを用意しておき、
前記定盤の外部において所定の荷重分布に従って予め配置された前記複数の分割ウェイトを、ウェイト搬送装置により一括して前記ワークホルダ内の前記ワークの上面に移載可能としたことを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 1 is directed to pressurize a work in a work holder arranged on a surface plate via a polishing pad with a plurality of weights, and to make the surface plate and the work relatively A single-side polishing apparatus for rotating one surface of the workpiece with the polishing pad,
As the weight, a plurality of divided weights having different weights are prepared,
The plurality of divided weights arranged in advance according to a predetermined load distribution outside the surface plate can be collectively transferred to the upper surface of the work in the work holder by a weight conveying device.

請求項2に係る発明は、請求項1に記載した片面研磨装置において、前記分割ウェイトをそれぞれ保持する保持棒の上端部が吊り下げプレートを貫通して抜け止めプレートにより支持され、前記ウェイト搬送装置は前記吊り下げプレート及び前記抜け止めプレートを一体的に把持して前記分割ウェイトを前記ワークの上面に移載することを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, in the single-side polishing apparatus according to the first aspect, the upper ends of the holding rods respectively holding the divided weights are supported by the retaining plate through the suspension plate, and the weight conveying device Is characterized in that the suspension plate and the retaining plate are gripped integrally and the divided weight is transferred to the upper surface of the workpiece.

請求項3に係る発明は、請求項2に記載した片面研磨装置において、前記抜け止めプレートを前記吊り下げプレートに対して相対的にスライドさせることにより、前記吊り下げプレートを貫通した前記保持棒の上端部を前記抜け止めプレートの係止孔に係止可能であることを特徴とする。   The invention according to claim 3 is the single-side polishing apparatus according to claim 2, wherein the retaining rod penetrating the suspension plate is slid relative to the suspension plate. The upper end can be locked in the locking hole of the retaining plate.

請求項4に係る発明は、請求項2または3の何れか1項に記載した片面研磨装置において、前記吊り下げプレートの両端部に位置決め部材がそれぞれ配置され、これらの位置決め部材により前記吊り下げプレート及び前記抜け止めプレートを前記ワークホルダに位置決めしながら前記分割ウェイトを前記ワークの上面に載置することを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, in the single-side polishing apparatus according to any one of the second or third aspects, positioning members are respectively disposed at both ends of the suspension plate, and the suspension plate is formed by these positioning members. The division weight is placed on the upper surface of the workpiece while positioning the retaining plate on the workpiece holder.

請求項5に係る発明は、請求項4に記載した片面研磨装置において、前記抜け止めプレート及び前記吊り下げプレートを前記位置決め部材により前記ワークホルダに位置決めした状態で前記ワークを研磨することを特徴とする。   The invention according to claim 5 is the single-side polishing apparatus according to claim 4, wherein the workpiece is polished in a state where the retaining plate and the suspension plate are positioned on the workpiece holder by the positioning member. To do.

本発明によれば、特許文献1,3の研磨装置における加圧手段や加圧機構に比べて構造が簡単であり、コストの低減が可能である。また、特許文献2の研磨装置では困難であった所定の荷重分布による研磨を実現することができる。
更に、特許文献4に記載された研磨装置と比較すると、ワークに対してウェイトを移載し、除去するためのハンドリング作業を短時間で行うことができ、研磨加工の作業性を大幅に向上させることができる。
加えて、研磨時の放熱効率が良く、研磨熱によってワークや定盤が変形する恐れもない等の効果を有する。
According to the present invention, the structure is simpler than the pressurizing means and pressurizing mechanism in the polishing apparatus of Patent Documents 1 and 3, and the cost can be reduced. Further, it is possible to realize polishing with a predetermined load distribution, which was difficult with the polishing apparatus of Patent Document 2.
Furthermore, compared with the polishing apparatus described in Patent Document 4, the handling work for transferring and removing the weight to the workpiece can be performed in a short time, and the workability of the polishing process is greatly improved. be able to.
In addition, the heat radiation efficiency at the time of polishing is good, and there is an effect that the workpiece and the surface plate are not deformed by the polishing heat.

本発明の実施形態の主要部の平面図及び側面断面図である。It is the top view and side sectional drawing of the principal part of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の主要部の斜視図である。It is a perspective view of the principal part of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の主要部の斜視図である。It is a perspective view of the principal part of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の使用状態を示す主要部の側面図である。It is a side view of the principal part which shows the use condition of embodiment of this invention. 参考例として均一ウェイトを用いた場合の主要部の側面図である。It is a side view of the principal part at the time of using a uniform weight as a reference example. 本発明の実施形態における分割ウェイトの配置例を示す平面図である。It is a top view which shows the example of arrangement | positioning of the division | segmentation weight in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における分割ウェイトの段取り動作を説明するための側面図である。It is a side view for demonstrating the setup operation | movement of the division | segmentation weight in embodiment of this invention. 本発明の実施形態の全体構成を示す平面図及び側面図である。It is the top view and side view which show the whole structure of embodiment of this invention. 特許文献4に記載された研磨装置の主要部を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the principal part of the grinding | polishing apparatus described in patent document 4. 特許文献4におけるワークの研磨ムラ形状に応じたウェイトの配置を示す図である。It is a figure which shows arrangement | positioning of the weight according to the grinding | polishing nonuniformity shape of the workpiece | work in patent document 4. FIG. 特許文献4におけるウェイトのハンドリング動作の説明図である。10 is an explanatory diagram of a weight handling operation in Patent Document 4. FIG.

以下、図に沿って本発明の実施形態を説明する。
図1は、本発明の実施形態に係る片面研磨装置の主要部を示す平面図(図1(a))及び側面断面図(図1(b))である。これらの図において、筐体101の上方には定盤104が配置され、この定盤104は駆動モータ102により回転軸103を中心として回転可能となっている。なお、定盤104の表面には研磨パッドが貼り付けられているが、便宜的に図示を省略してある。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a plan view (FIG. 1 (a)) and a side sectional view (FIG. 1 (b)) showing a main part of a single-side polishing apparatus according to an embodiment of the present invention. In these drawings, a surface plate 104 is disposed above the housing 101, and the surface plate 104 can be rotated about a rotation shaft 103 by a drive motor 102. A polishing pad is affixed to the surface of the surface plate 104, but is not shown for convenience.

定盤104の上面には円盤状のワークホルダ105が載置されており、その中央の窓部には矩形基板等のワークWが収容される。ワークホルダ105は、図1(a)に示すように、側方に配置されたワークホルダ揺動用フレーム111が矢印a方向に移動することで揺動可能であると共に、ワークホルダ駆動用モータ115によって回転可能となっている。
上記の構成により、定盤104と、ワークホルダ105及びワークWとは、相対的に回転、揺動可能である。
A disk-shaped work holder 105 is placed on the upper surface of the surface plate 104, and a work W such as a rectangular substrate is accommodated in the central window portion thereof. As shown in FIG. 1A, the work holder 105 can be swung by moving a work holder rocking frame 111 arranged on the side in the direction of arrow a, and the work holder driving motor 115 can move the work holder 105. It can be rotated.
With the above configuration, the surface plate 104, the work holder 105, and the work W can be relatively rotated and swung.

図1(b)に示すごとく、ワークホルダ105の上方には、吊り下げプレート106及び抜け止めプレート108が、棒状の位置決め部材107によって配置されている。また、吊り下げプレート106及び抜け止めプレート108には、保持棒109によって多数の分割ウェイト110が保持されており、これらの分割ウェイト110はワークホルダ105内のワークWを上方から加圧している。
なお、分割ウェイト110の下方には、後述の図4に示すようにベースウェイト110xが配置されているが、図1(b)では、便宜的にベースウェイト110xの図示を省略する。
As shown in FIG. 1B, a suspension plate 106 and a retaining plate 108 are disposed above the work holder 105 by a rod-shaped positioning member 107. In addition, a large number of divided weights 110 are held on the suspension plate 106 and the retaining plate 108 by holding bars 109, and these divided weights 110 press the work W in the work holder 105 from above.
A base weight 110x is arranged below the divided weight 110 as shown in FIG. 4 described later. However, in FIG. 1B, the base weight 110x is not shown for convenience.

また、図1(a)では、図1(b)における吊り下げプレート106、抜け止めプレート108等を省略して分割ウェイト110の配置のみを示している。図示するように、個々の分割ウェイト110は平面から見て矩形の直方体状であり、多数の分割ウェイト110を縦横に配置した全体的な平面形状がワークWの外形にほぼ一致するようになっている。
これらの分割ウェイト110は、その高さを変える方法の他に、一定の高さ(重さ)の単位ウェイトを保持棒109の上部から挿入する枚数を変えて重さを任意に設定することにより、複数種類の重さを持たせることができる。
In FIG. 1A, only the arrangement of the divided weights 110 is shown with the suspension plate 106, the retaining plate 108 and the like in FIG. 1B omitted. As shown in the drawing, each of the divided weights 110 has a rectangular parallelepiped shape when viewed from the plane, and the overall planar shape in which a large number of divided weights 110 are arranged vertically and horizontally substantially matches the outer shape of the workpiece W. Yes.
In addition to the method of changing the height of these divided weights 110, the weight is arbitrarily set by changing the number of unit weights of a certain height (weight) inserted from the upper part of the holding rod 109. , Can have multiple kinds of weight.

次に、図2は、ワークホルダ105上の各部材の配置を示した斜視図である。ワークホルダ105の周囲4か所には、このワークホルダ105を上方から支持するための吊り下げ片112が立設されている。
吊り下げプレート106の周囲4か所に配置された位置決め部材107は、ピン−ホゾ構造によって吊り下げプレート106を上下方向に移動可能に支持すると共に、この吊り下げプレート106をワークホルダ105に対して位置決めする機能を有する。
なお、図2及び後述の図3においても、分割ウェイト110の下方に配置されるベースウェイト110xの図示を省略してある。
また、図3は、図2に示した各部材と定盤104及びワークホルダ揺動用フレーム111との位置関係を示した斜視図である。
Next, FIG. 2 is a perspective view showing the arrangement of each member on the work holder 105. Suspension pieces 112 for supporting the work holder 105 from above are provided at four positions around the work holder 105.
Positioning members 107 arranged at four positions around the suspension plate 106 support the suspension plate 106 so as to be movable in the vertical direction by a pin-hozo structure, and also support the suspension plate 106 with respect to the work holder 105. Has the function of positioning.
2 and FIG. 3 to be described later, the illustration of the base weight 110x disposed below the divided weight 110 is omitted.
FIG. 3 is a perspective view showing the positional relationship between each member shown in FIG. 2 and the surface plate 104 and the work holder swing frame 111.

次に、図4は、この実施形態の使用状態を示す主要部の側面図である。
矩形のワークWを研磨する場合、一般にワークWの四隅付近が過剰研磨となり、中央部付近が研磨不足になる傾向がある。このため、前述した方法により重さを異ならせた複数種類の分割ウェイト110a,110b,110c(重さは110a>110b>110c)を用意しておき、ワークWの中心部から四隅方向に向かって重さが徐々に軽くなるように多数の分割ウェイト110a〜110cを配置する。これにより、ワークWの厚さが全体的に均一になるように研磨することができる。
Next, FIG. 4 is a side view of the main part showing the use state of this embodiment.
When a rectangular workpiece W is polished, generally, the vicinity of the four corners of the workpiece W tends to be excessively polished, and the vicinity of the central portion tends to be insufficiently polished. Therefore, a plurality of types of divided weights 110a, 110b, and 110c (weight is 110a>110b> 110c) prepared with different weights by the above-described method are prepared, and from the center of the workpiece W toward the four corners. A large number of divided weights 110a to 110c are arranged so that the weight is gradually reduced. Thereby, it can grind | polish so that the thickness of the workpiece | work W may become uniform as a whole.

図4(a)は、保持棒109により保持された分割ウェイト110a〜110c及びベースウェイト110xをワークWの表面に載置する前の状態を示し、位置決め部材107によってワークホルダ105に位置決めする前の状態である。また、図4(b)は、位置決め部材107によってワークホルダ105への位置決めを行い、分割ウェイト110a〜110c及びベースウェイト110xによりワークWを加圧している状態である。
なお、ベースウェイト110xは保持棒109の下端部にそれぞれ固定されており、分割ウェイト110a〜110cの中心部の通孔を上方から保持棒109に通して分割ウェイト110a〜110cをベースウェイト110xに積層するように構成されている。
4A shows a state before the divided weights 110a to 110c and the base weight 110x held by the holding bar 109 are placed on the surface of the workpiece W, and before the positioning member 107 positions the workpiece weight 105 on the workpiece holder 105. FIG. State. FIG. 4B shows a state where the workpiece W is positioned by the positioning member 107 and the workpiece W is pressurized by the divided weights 110a to 110c and the base weight 110x.
The base weight 110x is fixed to the lower end portion of the holding rod 109, and the divided weights 110a to 110c are stacked on the base weight 110x by passing through the central through hole of the divided weights 110a to 110c from above. Is configured to do.

図4(a)に示すごとく、保持棒109の上端の凸部は、吊り下げプレート106の通孔を貫通したうえで抜け止めプレート108の長円形または円形の係止孔108aを貫通可能であり、係止孔108aを貫通させた後に抜け止めプレート108を矢印b方向にスライドさせることで、保持棒109、ベースウェイト110x及び分割ウェイト110a〜110c,110xを、吊り下げプレート106及び抜け止めプレート108に対してそれぞれ一体的に取り付けることができる。   As shown in FIG. 4A, the convex portion at the upper end of the holding rod 109 can penetrate the oval or circular locking hole 108a of the retaining plate 108 after passing through the through hole of the hanging plate 106. The retaining plate 108 is slid in the direction of the arrow b after passing through the locking hole 108a, so that the holding rod 109, the base weight 110x, and the divided weights 110a to 110c, 110x are suspended from the suspension plate 106 and the retaining plate 108. Can be integrally attached to each other.

位置決め部材107には、吊り下げプレート106とワークホルダ105(ワークW)との間の距離を調整するための姿勢調整部107aが設けられている。この姿勢調整部107aを調整して吊り下げプレート106の姿勢をワークWに対して平行に保つことにより、図4(b)のように位置決め部材107によりワークホルダ105への位置決めを行った際に、ベースウェイト110xの下面が万遍なく均等にワークWの表面に接触するように考慮されている。   The positioning member 107 is provided with a posture adjusting unit 107a for adjusting the distance between the suspension plate 106 and the work holder 105 (work W). By adjusting the posture adjusting unit 107a to keep the posture of the suspending plate 106 parallel to the workpiece W, when the workpiece is positioned on the workpiece holder 105 by the positioning member 107 as shown in FIG. The lower surface of the base weight 110x is considered to be in contact with the surface of the workpiece W evenly and uniformly.

なお、104aは定盤104の上面に貼り付けられた研磨パッド、105aは位置決め部材107の下端部の凸部に係合する位置決め凹部である。また、113はゴム板等からなる緩衝材である。この緩衝材113は、ワークWの上面全体とほぼ同じ大きさにしてワークWの上面に予め載置しておく。   Reference numeral 104 a denotes a polishing pad affixed to the upper surface of the surface plate 104, and reference numeral 105 a denotes a positioning recess that engages with a protrusion at the lower end of the positioning member 107. Reference numeral 113 denotes a buffer material made of a rubber plate or the like. The cushioning material 113 is placed on the upper surface of the workpiece W in advance so as to be approximately the same size as the entire upper surface of the workpiece W.

研磨の進行に伴って生じるワークWの厚さの分布、すなわち、ワークWの四隅付近及び中央部付近において厚さが不均一になる状態は、実験によって予め確認することが可能であり、その状態に応じて重さが異なる分割ウェイト110a〜110cの平面的な配置を決定することができる。
図4(a),(b)に示すように、ワークWの中央部から四隅に向かって重さが軽くなるように分割ウェイト110a,110b,110cを順次配置すれば、図5のように重さが均一な均一ウェイト110’を使用する場合に比べて、研磨後のワークWの厚さは全体的にほぼ均一になる。なお、図5において、105’はワークホルダ、 113’は緩衝材である。
The distribution of the thickness of the workpiece W generated as the polishing progresses, that is, the state in which the thickness becomes nonuniform in the vicinity of the four corners and the central portion of the workpiece W can be confirmed in advance by an experiment. Accordingly, the planar arrangement of the divided weights 110a to 110c having different weights can be determined.
As shown in FIGS. 4 (a) and 4 (b), if the divided weights 110a, 110b, and 110c are sequentially arranged so that the weight decreases from the center of the workpiece W toward the four corners, the weight is increased as shown in FIG. Compared with the case of using a uniform weight 110 ′ having a uniform thickness, the thickness of the workpiece W after polishing becomes substantially uniform as a whole. In FIG. 5, 105 ′ is a work holder, and 113 ′ is a cushioning material.

図6は、この実施形態における分割ウェイト110a〜110cの配置例を示す平面図である。図5のように均一ウェイト110’を使用する場合には、ワークWの大きさや設定荷重に応じて大きさや重さが異なる各種の均一ウェイト110’を用意しなければならず、また、大型の均一ウェイト110’はワークWに対する加圧面の精度を維持することが難しい。   FIG. 6 is a plan view showing an example of arrangement of the divided weights 110a to 110c in this embodiment. When using the uniform weight 110 ′ as shown in FIG. 5, various uniform weights 110 ′ having different sizes and weights according to the size of the workpiece W and the set load must be prepared. It is difficult for the uniform weight 110 ′ to maintain the accuracy of the pressing surface with respect to the workpiece W.

本実施形態では、ワークWの大きさや設定荷重に応じて分割ウェイト110a〜110cの数や配置を図6(a)〜(e)のように変更すれば、所定の荷重分布を得ることができる。
ちなみに、図6(a)は大型のワークWを対象としてその全面を加圧するべく3種類の分割ウェイト110a〜110cを配置した例であり、図6(b)は大型のワークWに対してその四隅に分割ウェイトを配置しない(分割ウェイトのない部分を白抜きで示す)例である。また、図6(c),(d),(e)は小型のワークWの外形に適合するように3種類の分割ウェイト110a〜110cを配置した例である。
In the present embodiment, a predetermined load distribution can be obtained by changing the number and arrangement of the divided weights 110a to 110c as shown in FIGS. 6A to 6E in accordance with the size of the work W and the set load. .
Incidentally, FIG. 6A is an example in which three types of divided weights 110a to 110c are arranged to pressurize the entire surface of a large workpiece W, and FIG. This is an example in which no divided weight is arranged at the four corners (a portion without a divided weight is shown in white). 6C, 6D, and 6E are examples in which three types of divided weights 110a to 110c are arranged so as to conform to the outer shape of the small work W.

次に、図7は本実施形態における分割ウェイトの段取り動作(ワークWに合わせて多数の分割ウェイトを所定位置に配置する動作)を説明するための側面図である。
図7において、201は段取り台車であり、その上面にはワークWとほぼ同じ大きさのウェイト載置用平板202が載置されている。分割ウェイトの配置用鳥瞰図等を参照して、分割ウェイト110a〜110d(ここでは、分割ウェイト110aよりも重いものとして分割ウェイト110dを追加している)の何れかの通孔に保持棒109を貫通させたウェイトユニット117を多数、構成し、これら多数のウェイトユニット117をウェイト載置用平板202の上面に配置する。なお、分割ウェイト110a〜110dの交換(配置換え)すなわち荷重分布の変更は、例えば保持棒109に挿入する単位ウェイトの枚数を変更して行えば良い。
Next, FIG. 7 is a side view for explaining the divided weight setup operation (operation for arranging a number of divided weights at predetermined positions in accordance with the workpiece W) in the present embodiment.
In FIG. 7, reference numeral 201 denotes a set-up carriage, and a weight placing flat plate 202 having the same size as the work W is placed on the upper surface thereof. With reference to a bird's-eye view for arranging the divided weights, the holding rod 109 is passed through any one of the divided weights 110a to 110d (here, the divided weight 110d is added as being heavier than the divided weight 110a). A large number of the weight units 117 are configured, and the large number of weight units 117 are arranged on the upper surface of the weight mounting flat plate 202. The divided weights 110a to 110d can be replaced (rearranged), that is, the load distribution can be changed by changing the number of unit weights inserted into the holding rod 109, for example.

その後、吊り下げプレート106、抜け止めプレート108、位置決め部材107、及び搬送用保持棒114からなるウェイト搬送用保持部118を多数のウェイトユニット117の上方から下降させ、位置決め部材107を段取り台車201側の位置決め受け部203に係合させると共に、保持棒109の上端凸部を吊り下げプレート106の通孔から抜け止めプレート108の貫通孔108aに貫通させ、更に抜け止めプレート108をスライドさせることにより、ウェイト搬送用保持部118と多数のウェイトユニット117とを一体化させる。
上記のように、ウェイト搬送用保持部118及び多数のウェイトユニット117を段取り台車201の上で予め一体化させておき、その後に、段取り台車201ごと後述のウェイト搬送装置301の直下に移動させてから、ワークW上へのウェイトユニット117の移載工程に移る。
Thereafter, the weight transfer holding portion 118 including the suspension plate 106, the retaining plate 108, the positioning member 107, and the transfer holding rod 114 is lowered from above the many weight units 117, and the positioning member 107 is moved to the setup carriage 201 side. The upper end convex portion of the holding rod 109 is passed through the through hole 108a of the retaining plate 108 through the through hole 108a of the retaining plate 108, and the retaining plate 108 is further slid. The weight transfer holding unit 118 and a large number of weight units 117 are integrated.
As described above, the weight transfer holding unit 118 and a number of weight units 117 are integrated in advance on the set-up carriage 201, and thereafter, the entire set-up carriage 201 is moved directly below the weight transfer device 301 described later. Then, the process moves to the process of transferring the weight unit 117 onto the workpiece W.

次いで、図8を参照しながら、ウェイト搬送用保持部118により保持した多数のウェイトユニット117を搬送してワークW上に移載する動作について説明する。
図8(a)は、段取り台車201を含めた片面研磨装置全体の平面図、図8(b)は同じく側面図である。
Next, with reference to FIG. 8, an operation of transferring a number of weight units 117 held by the weight transfer holding unit 118 and transferring them onto the workpiece W will be described.
FIG. 8A is a plan view of the entire single-side polishing apparatus including the setup carriage 201, and FIG. 8B is a side view of the same.

図8(b)において、ウェイト搬送装置301は、搬送用把持部303を昇降させる昇降機構304を備え、搬送用把持部303は搬送用保持棒114の上端部を把持可能となっている。また、昇降機構304及び搬送用把持部303は、搬送用回転軸302を中心として段取り台車201の上方と定盤104の上方との間を回動可能である。   In FIG. 8B, the weight transfer device 301 includes an elevating mechanism 304 that raises and lowers the transfer gripping portion 303, and the transfer gripping portion 303 can hold the upper end portion of the transfer holding rod 114. Further, the elevating mechanism 304 and the conveyance gripping portion 303 can rotate between the upper side of the setup carriage 201 and the upper side of the surface plate 104 about the conveyance rotary shaft 302.

段取り台車201上で、ウェイト搬送用保持部118の搬送用保持棒114の上端部を搬送用把持部303により把持し、昇降機構304を駆動して矢印c方向に上昇させた後、搬送用回転軸302を中心として図8(a)に一点鎖線で示すように回動させる。そして、ウェイト搬送用保持部118をワークWの上方へ搬送してから昇降機構304を駆動して下降させると共に、位置決め部材107にてワークホルダ105に位置決めすることにより、多数のウェイトユニット117をワークWの上面に載置することができる。なお、ワークWは、定盤104上のワークホルダ105の窓部に予め収容しておく。   On the set-up carriage 201, the upper end of the transport holding rod 114 of the weight transport holder 118 is gripped by the transport grip 303, and the lifting mechanism 304 is driven to raise in the direction of the arrow c, and then the transport rotation. The shaft 302 is rotated as shown by a one-dot chain line in FIG. Then, the weight transfer holder 118 is transferred to the upper side of the workpiece W, and then the elevating mechanism 304 is driven and lowered, and the positioning member 107 is positioned on the workpiece holder 105, whereby a large number of weight units 117 are moved. It can be placed on the top surface of W. The workpiece W is stored in advance in the window portion of the workpiece holder 105 on the surface plate 104.

その後に搬送用把持部303が搬送用保持棒114の把持を解除してウェイト搬送装置301を退避させ、定盤104とワークホルダ105とを相対的に回転、揺動させれば、多数のウェイトユニット117により所定の荷重分布が与えられたワークWの下面を研磨パッド104aに圧接して研磨することが可能になる。
なお、ウェイト搬送用保持部118を、ワークWの研磨中も図8(b)に示すごとくワークホルダ105の上方に配置しておけば、ウェイトユニット117が振動によってずれるのを防ぐことができる。ウェイト搬送用保持部118は位置決め部材107を介してワークホルダ105に支持されているので、ウェイト搬送用保持部118の自重がワークWに加わる恐れはない。
After that, if the gripping part 303 for transport releases the gripping of the transporting holding rod 114 and retracts the weight transporting device 301 to relatively rotate and swing the surface plate 104 and the work holder 105, a large number of weights can be obtained. It is possible to perform polishing by pressing the lower surface of the workpiece W given a predetermined load distribution by the unit 117 against the polishing pad 104a.
If the weight transfer holder 118 is disposed above the work holder 105 as shown in FIG. 8B even during polishing of the work W, it is possible to prevent the weight unit 117 from being displaced due to vibration. Since the weight transfer holder 118 is supported by the work holder 105 via the positioning member 107, there is no possibility that the weight of the weight transfer holder 118 is applied to the workpiece W.

以上のようにこの実施形態によれば、段取り台車201上で分割ウェイト110a〜110dを保持棒109に取り付けて多数のウェイトユニット117を構成することにより、例えば、ワークWの中央部付近の荷重を四隅付近よりも大きくした荷重分布を得ることができ、ウェイト搬送用保持部118及び搬送用把持部303等を動作させて多数のウェイトユニット117を一括してワークW上に移載し、その後に搬送用把持部303を退避させれば、研磨加工を直ちに開始することができる。
また、荷重分布の異なる条件での研磨加工を円滑に行うため、予め複数の段取り台車201の上に異なった荷重分布のウェイトを配置しておき、必要な段取り台車201をウェイト搬送装置301の直下に移動させて図8(b)の矢印d方向に昇降させ、段取り台車201ごと交換可能にすれば、段取り変えを短時間で行うことができる。
このように、本発明においては、特に矩形のワークWに対してその四隅付近が過剰に研磨されるのを防止して、ワークWの全体をほぼ均一の厚さに研磨することが可能である。また、多数の分割ウェイト110a〜110d及びベースウェイト110xを用いているので、放熱効率が良く、研磨熱によってワークWや定盤104が変形する恐れもない。
更に、研磨終了後には、多数のウェイトユニット117を一括してワークW上から除去すれば研磨済みのワークWを搬出することができ、多数のワークWの連続的な研磨加工も容易である。
As described above, according to this embodiment, the divided weights 110a to 110d are attached to the holding rod 109 on the set-up carriage 201 to form a large number of weight units 117. A load distribution larger than the vicinity of the four corners can be obtained, and the weight transfer holding unit 118, the transfer gripping unit 303, and the like are operated to transfer a large number of weight units 117 onto the workpiece W in a lump. If the conveying grip 303 is retracted, the polishing process can be started immediately.
In addition, in order to smoothly perform polishing under different load distribution conditions, weights having different load distributions are arranged in advance on a plurality of setup carriages 201, and the necessary setup carriage 201 is placed directly below the weight transfer device 301. If it is moved up and down in the direction of the arrow d in FIG. 8B and the entire set-up carriage 201 can be exchanged, the set-up change can be performed in a short time.
As described above, in the present invention, it is possible to prevent the vicinity of the four corners of the rectangular workpiece W from being excessively polished and to polish the entire workpiece W to a substantially uniform thickness. . Further, since a large number of divided weights 110a to 110d and base weight 110x are used, the heat dissipation efficiency is good, and there is no possibility that the workpiece W or the surface plate 104 is deformed by polishing heat.
Furthermore, after the polishing is completed, if the numerous weight units 117 are removed from the workpiece W at once, the polished workpiece W can be carried out, and continuous polishing of the numerous workpieces W is easy.

101:筐体
102:駆動モータ
103:回転軸
104:定盤
104a:研磨パッド
105:ワークホルダ
105a:位置決め凹部
106:吊り下げプレート
107:位置決め部材
107a:姿勢調整部
108:抜け止めプレート
108a:係止孔
109:保持棒
110,110a,110b,110c,110d:分割ウェイト
110x:ベースウェイト
111:ワークホルダ揺動用フレーム
112:吊り下げ片
113:緩衝材
114:搬送用保持棒
115:ワークホルダ駆動用モータ
117:ウェイトユニット
118:ウェイト搬送用保持部
201:段取り用台車
202:ウェイト載置用平板
203:位置決め受け部
301:ウェイト搬送装置
302:搬送用回転軸
303:搬送用把持部
304:昇降機構
W:ワーク
101: Housing 102: Drive motor 103: Rotating shaft 104: Surface plate 104a: Polishing pad 105: Work holder 105a: Positioning recess 106: Hanging plate 107: Positioning member
107a: posture adjusting unit 108: retaining plate 108a: locking hole 109: holding rods 110, 110a, 110b, 110c, 110d: divided weight 110x: base weight 111: work holder swing frame
112: Hanging piece 113: Buffer material 114: Transfer holding rod 115: Work holder driving motor 117: Weight unit 118: Weight transfer holding unit 201: Set-up carriage 202: Weight mounting plate 203: Positioning receiving unit 301: Weight transfer device 302: Transfer rotating shaft 303: Transfer gripping part 304: Lifting mechanism W: Workpiece

Claims (5)

定盤上に研磨パッドを介して配置されたワークホルダ内のワークを複数のウェイトにより加圧すると共に、前記定盤と前記ワークとを相対的に回転させて前記ワークの一面を前記研磨パッドにより研磨する片面研磨装置であって、
前記ウェイトとして、重さが異なる複数の分割ウェイトを用意しておき、
前記定盤の外部において所定の荷重分布に従って予め配置された前記複数の分割ウェイトを、ウェイト搬送装置により一括して前記ワークホルダ内の前記ワークの上面に移載可能としたことを特徴とする片面研磨装置。
The work in the work holder placed on the surface plate via the polishing pad is pressurized with a plurality of weights, and the surface plate and the work are rotated relatively to polish one surface of the work with the polishing pad. A single-side polishing apparatus that
As the weight, a plurality of divided weights having different weights are prepared,
The one side, wherein the plurality of divided weights arranged in advance according to a predetermined load distribution outside the surface plate can be collectively transferred to the upper surface of the work in the work holder by a weight conveying device. Polishing equipment.
請求項1に記載した片面研磨装置において、
前記分割ウェイトをそれぞれ保持する保持棒の上端部が吊り下げプレートを貫通して抜け止めプレートにより支持され、前記ウェイト搬送装置は前記吊り下げプレート及び前記抜け止めプレートを一体的に把持して前記分割ウェイトを前記ワークの上面に移載することを特徴とする片面研磨装置。
In the single-side polishing apparatus according to claim 1,
The upper ends of the holding rods that respectively hold the divided weights are supported by a retaining plate that penetrates a suspension plate, and the weight transfer device integrally grips the suspension plate and the retaining plate and performs the division. A single-side polishing apparatus, wherein a weight is transferred to the upper surface of the workpiece.
請求項2に記載した片面研磨装置において、
前記抜け止めプレートを前記吊り下げプレートに対して相対的にスライドさせることにより、前記吊り下げプレートを貫通した前記保持棒の上端部を前記抜け止めプレートの係止孔に係止可能であることを特徴とする片面研磨装置。
In the single-side polishing apparatus according to claim 2,
By sliding the retaining plate relative to the suspension plate, the upper end portion of the holding rod penetrating the suspension plate can be latched in the retaining hole of the retaining plate. A single-side polishing apparatus characterized.
請求項2または3の何れか1項に記載した片面研磨装置において、
前記吊り下げプレートの両端部に位置決め部材がそれぞれ配置され、これらの位置決め部材により前記吊り下げプレート及び前記抜け止めプレートを前記ワークホルダに位置決めしながら前記分割ウェイトを前記ワークの上面に載置することを特徴とする片面研磨装置。
In the single-side polishing apparatus according to any one of claims 2 and 3,
Positioning members are disposed at both ends of the suspension plate, and the divided weights are placed on the upper surface of the workpiece while the suspension plate and the retaining plate are positioned on the workpiece holder by the positioning members. A single-side polishing apparatus characterized by the above.
請求項4に記載した片面研磨装置において、
前記抜け止めプレート及び前記吊り下げプレートを前記位置決め部材により前記ワークホルダに位置決めした状態で前記ワークを研磨することを特徴とする片面研磨装置。
In the single-side polishing apparatus according to claim 4,
A single-side polishing apparatus, wherein the workpiece is polished in a state where the retaining plate and the suspension plate are positioned on the workpiece holder by the positioning member.
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