JP2019128964A - 磁気記録媒体用アルミニウム合金基板とその製造方法、磁気記録媒体用基板、磁気記録媒体およびハードディスクドライブ - Google Patents
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Abstract
Description
しかしながら、基板を薄くした場合、アルミニウム合金基板は、ガラス基板に比べ、フラッタリングを生じやすい問題がある。
フラッタリングとは、磁気記録媒体を高速回転させた場合に生じる磁気記録媒体のばたつきであり、フラッタリングが大きくなると、ハードディスクドライブの磁気情報を安定して読み取ることが困難になる。
まず、アルミニウム合金鋳塊を圧延して、厚さ2mm以下程度のアルミニウム合金板材を得、このアルミニウム合金板材を円盤状に打ち抜いて所望の寸法とする。
次に、打ち抜かれたアルミニウム合金板材の円盤に対し、内外径の面取り加工およびデータ面の旋削加工を施す。その後、アルミニウム合金板材の表面粗さやうねりを下げるために、砥石による研削加工を施し、アルミニウム合金基板とする。次いで、表面硬さの付与と表面欠陥の抑制を目的として、アルミニウム合金基板の表面にNiP系のめっきを施す。次に、NiP系のめっき被膜が形成されたアルミニウム合金基板の両面(データ面)に対し、研磨加工を施す。
特許文献3には、0.5質量%以上24.0質量%以下のSiと、0.01質量%以上3.00質量%以下のFeとを含有し、残部Alと不可避的不純物からなる磁気ディスク用アルミニウム合金基板が開示されている。
特許文献7には、Al−Si系合金粉末の予備成形体を470〜500℃で加熱処理した後、熱間成形することで切欠強度に優れたAl−Si系合金粉末成形体を得る技術について開示されている。
特許文献8には、磁気ディスク基板用高剛性アルミニウム合金板として、アルミニウム合金マトリックス中にセラミック粒子または繊維を体積比で5〜50%分散させた合金板が開示されている。
これらの性能を向上させるために、特許文献2〜5に記載の技術では、アルミニウム合金基板に種々の元素を添加することを検討している。
しかし、粉末冶金法による成形体は、特許文献7や特許文献8に記載の如く一時は盛んに研究されていたものの、目的の形状に加工することが難しく、成形後の加工性にも難点があることから、現状では限られた用途の部品に適用されているに過ぎない。
例えば、磁気記録媒体用基板においては、NiP系のめっき被膜表面の平坦度を確保する必要がある。ところが、Al−Si系合金においてヤング率を高くするために多量のSiを含有させると硬質のSi晶出物が析出し、表面にSi晶出物に起因する凹凸が生じるので平坦なめっき被膜を形成できない問題がある。
そして、このアルミニウム合金基板に、NiP系めっき被膜を形成した磁気記録媒体用基板は、規格化されたハードディスクドライブのドライブケースに従来よりも多数枚収容することができる薄型であっても、NRROが小さく、かつめっき性に優れることを確認して、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、前記の課題を解決するため、以下の手段を提供する。
(3)前記(1)または(2)に記載のAl合金に、さらに、Mn、Ti、Cr、V、Zr、Mo、Coのうち1種または2種以上を0.01質量%以上0.5質量%以下の範囲内で含んでいてもよい。
(5)前記(1)〜(4)のうちいずれか1つに記載の磁気記録媒体用アルミニウム合金基板においては、前記金属組織が前記Al合金の粉末粒子成形体の押出組織であることを特徴とする。
(7)本発明の一態様に係る磁気記録媒体は、磁気記録媒体用基板と、前記磁気記録媒体用基板の表面に備えられている磁性層とを有する磁気記録媒体であって、前記磁気記録媒体用基板が、前記(6)に記載の磁気記録媒体用アルミニウム合金基板であって、前記磁性層が、前記磁気記録媒体用アルミニウム合金基板の前記NiP系めっき被膜が形成されている側の表面に備えられていることを特徴とする。
(8)本発明の一態様に係るハードディスクドライブは、磁気記録媒体を具備したハードディスクドライブであって、前記磁気記録媒体が前記(7)に記載の磁気記録媒体であることを特徴とする。
(10)本発明の一形態に係る磁気記録媒体用アルミニウム合金基板の製造方法は、前記Al合金に、さらに、Znを、0.01質量%以上0.5質量%以下の範囲内で含むことを特徴とする。
(11)本発明の一形態に係る磁気記録媒体用アルミニウム合金基板の製造方法は、前記Al合金に、さらに、Mn、Ti、Cr、V、Zr、Mo、Coのうち1種または2種以上を0.01質量%以上0.5質量%以下の範囲内で含むことを特徴とする。
(12)本発明の一形態に係る磁気記録媒体用アルミニウム合金基板の製造方法は、最長径0.5μm以上であって、平均粒子径が2μm以下の初晶Si粒子を分散させることを特徴とする。
図1は、本実施形態に係る磁気記録媒体用基板の一例を示す断面図である。
図1に示すように、磁気記録媒体用基板1は、磁気記録媒体用アルミニウム合金基板11と、アルミニウム合金基板11の少なくとも一方の表面に形成されているNiP系めっき被膜12とを有する円板状に形成されている。
本実施形態における磁気記録媒体用アルミニウム合金基板11は、以下に説明するAl合金の粉末粒子から成形体を形成し、この成形体から押出加工により円柱体を形成し、この円柱体から輪切り状に切り出して得た円板を加工して得られる。
粉末粒子30は後述するアトマイズ法により形成された粉末からなり、この粉末粒子30を複数集合して加圧成形することにより円柱状の成形体を形成し、この成形体を押出加工することで図2に示す金属組織を有する円柱体を得ることができる。
また、前記Al合金に、さらに、Znを、0.01質量%以上0.5質量%以下の範囲内で含んでいてもよい。また、前記Al合金に、さらに、Mn、Ti、Cr、V、Zr、Mo、Coのうち1種または2種以上を0.01質量%以上0.5質量%以下の範囲内で含んでいてもよい。
不可避不純物は、原料及び製造工程から不回避的に混入する不純物である。本実施形態において、例えば、不可避不純物として、B含有量:0.01質量%未満、P含有量:0.1質量%未満であることが好ましい。
以下、本実施形態で用いるAl合金の各成分について説明する。
Siは、アルミニウム合金基板11の剛性(ヤング率)を向上させる作用がある。Siは、Alへの固溶量が少ないため、主にSi単体の初晶Si粒子としてAl合金組織中に分散析出する。Al合金組織中に初晶Si粒子が分散することによって、アルミニウム合金基板11の剛性(ヤング率)が向上する。このため、本実施形態で用いるAl合金は、28.0質量%以上32.0質量%以下のSiを含んでいる必要がある。
また、過度に大きいSi粒子が分散していると押出加工が困難となるおそれがある。
このため、本実施形態において、Si含有量は28.0質量%以上32.0質量%以下の範囲内とする。Siの含有量は、29.0質量%以上31.5質量%以下の範囲内にあることがより好ましい。
Cuは、Al合金マトリックスに固溶することにより、アルミニウム合金基板11の剛性を向上させる効果を有する。また、Cuは、Al合金マトリックス中にAl2Cu相を形成することによって、アルミニウム合金基板11の剛性をさらに向上させる効果を有する。
一方、Cuの含有量が4.0質量%を超えると、延性と靭性が低下するため、押出困難となるおそれがあり、アルミニウム合金基板11の密度が高くなりすぎるおそれがある。密度が高いアルミニウム合金基板を用いた磁気記録媒体用基板は、NRROが大きくなる傾向があるので、フラッタリング抑制の面ではアルミニウム合金基板11の密度を低くする方が好ましい。
このため、本実施形態では、Cuの含有量は2.5質量%以上4.0質量%以下の範囲内とされている。Cuの含有量は、3.0質量%以上3.8質量%以下の範囲内にあることがより好ましい。
Mgは、Al合金マトリックスに固溶することにより、アルミニウム合金基板11の機械的強度を向上させると共に、アルミニウム合金基板11の密度を低く抑える効果を有する。
Mgの含有量が0.8質量%未満であると、時効硬化による高温での材質強化の効果がなくなり、熱間押出などの加工が困難となる。また、Mgの含有量が少ない場合はMg−Siの析出量が減少するので、実質的にAl合金マトリックスのSiが増加し、初晶Si粒子の径が大きくなり、めっき性の低下につながるおそれがある。一方、Mgの含有量が1.5質量%を超えると、延性と靭性が低下するため、押出加工が困難になるおそれがある。
このため、本実施形態では、Mgの含有量は0.8質量%以上1.5質量%以下の範囲内とする。Mgの含有量は、1.0質量%以上1.4質量%以下の範囲内にあることがより好ましい。
Znは、Al合金マトリックスに固溶すると共に、他の添加物と結合し、析出物として、Al合金マトリックスに分散する。Zn含有量が0.01質量%未満の場合、めっき性向上効果がなくなる。Zn含有量が0.5質量%を超えると効果が飽和し、密度が大きくなりすぎるため、0.5質量%以下とすることが好ましい。このため、Znを添加する場合の含有量は0.01質量%以上0.5質量%以下の範囲が好ましい。Znの含有量は、0.05質量%以上0.3質量%以下の範囲内にあることがより好ましい。
Mn、Ti、Cr、V、Zr、Mo、Coについては、これらの元素のうち、1種または2種以上を0.01質量%以上0.5質量%以下の範囲で含有していても良い。これらの元素が0.01質量%未満であると、高温強度向上の効果がなく、押出での加工性改善効果がなくなる。これら元素の含有量が0.5質量%を超える場合、上述の効果が飽和し、密度が大きくなりすぎる。このため、これらの元素を添加する場合の含有量は0.01質量%以上0.5質量%以下の範囲が好ましい。これら元素の含有量は、0.05質量%以上0.3質量%以下の範囲内にあることがより好ましい。
磁気記録媒体用アルミニウム合金基板11のフラッタリングを抑制し、フラッタリングによる変位の幅(NRRO)の増大を抑えるために、磁気記録媒体用アルミニウム合金基板11の剛性を高くすることは有効な方法の一つである。一方、通常の使用時において、5000rpm以上と極めて速い回転速度で回転させる磁気記録媒体においては、磁気記録媒体用基板の密度によってもNRROが変動することが知られている。
そして、材料の剛性を指標する一つの物性値であるヤング率に着目し、磁気記録媒体用基板のヤング率E(単位:GPa)と密度ρ(単位:g/cm3)とNRROとの関係を検討した結果、ヤング率Eと密度ρとの比E/ρが36.5以上となると、NRROの増大が抑えられること、即ちフラッタリングを抑制できることを見出した。
このため、本実施形態のアルミニウム合金基板11において、ヤング率Eと密度ρとの比E/ρが36.5以上であることが好ましい。比E/ρは、36.8以上であることがより好ましい。
粒子径が2μmを超える初晶Si粒子を析出させていると、表面研削および研磨の際に初晶Si粒子が脱粒して凹部が形成され、その上にNiP系めっき被膜12を形成してもアルミニウム合金基板の表面を平坦化することができない。このため、凹部を表面に有するめっき被膜になるため、後に形成する磁性層の形成に影響があり、望ましくない。また、初晶Si粒子の上にはめっきが生成し難いので、粒子径が2μmを超える初晶Si粒子の上に形成しためっき被膜に細孔が形成されるおそれもある。
初晶Si粒子の定義とその測定方法については後に詳述する。
NiP系めっき被膜12は、磁気記録媒体用基板1の剛性(ヤング率)を向上させる効果を有する。
NiP系めっき被膜12は、NiとP以外の元素を含有していてもよい。NiP系めっき被膜12は、NiとPとを含むNiP合金、もしくはNiとWとPとを含むNiWP合金で形成されていることが好ましい。NiP合金は、Pを10質量%以上15質量%以下の範囲内で含み、残部がNi及び不可避不純物であることが好ましい。NiWP合金は、Wを15質量%以上22質量%以下の範囲内で、Pを3質量%以上10質量%以下の範囲内で含み、残部がNi及び不可避不純物であることが好ましい。NiP系めっき被膜12を、前記の組成を有するNiP合金もしくはNiWP合金で形成することによって、磁気記録媒体用基板1の剛性を確実に向上させることができる。
また、NiP系めっき被膜12の厚さは、20μm以下であることが好ましく、17μm以下であることが特に好ましい。NiP系めっき被膜12の厚さをこの範囲の厚さとすることによって、磁気記録媒体用基板1の平坦性と軽量性を両立できる。
前述のとおり、粒子径が過度に大きい初晶Si粒子4が分散しているアルミニウム合金基板を用いた磁気記録媒体用基板はめっき性が低下するおそれがある。
本発明者らの検討によると、初晶Si粒子4の平均粒子径が2μmを超えるアルミニウム合金基板を用いた磁気記録媒体用基板は、めっき性が大きく低下する傾向があることが判明した。
このため、本実施形態では、初晶Si粒子4の平均粒子径を2μm以下とすることが好ましい。
次いで、得られた断面画像から画像解析法によって、最長径が0.5μm以上の初晶Si粒子を抽出し、その抽出された初晶Si粒子の最長径を測定し、測定した最長径の平均値を算出することによって求めた値が初晶Si粒子の平均粒子径である。
本実施形態のアルミニウム合金基板11は、主として、ハードディスクドライブの磁気記録媒体用として使用される。磁気記録媒体は、規格化されたハードディスクドライブ、すなわち、2.5インチのハードディスクドライブ、3.5インチのハードディスクドライブ等に収納することができる必要がある。例えば、2.5インチのハードディスクドライブでは、最大直径で約67mmの磁気記録媒体が用いられ、3.5インチのハードディスクドライブでは、最大直径で約97mmの磁気記録媒体が用いられる。
このため、本実施形態では、アルミニウム合金基板の直径を53mm以上97mm以下の範囲内としている。
このため、本実施形態では、アルミニウム合金基板11の厚さは0.2mm以上0.9mm以下の範囲内としている。この範囲の厚さのアルミニウム合金基板11であるならば、ハードディスクドライブのケース内に従来より多くの枚数の磁気記録媒体を収容することが可能となる。
本実施形態の磁気記録媒体用アルミニウム合金基板は、例えば、上述の元素を含有するアルミニウム合金の粉末粒子を製造する工程(粉末粒子製造工程)と、この粉末粒子を金型等により圧縮し、円柱体に成形する工程(円柱体成形工程)を有する。さらに、この円柱体を押出装置に収容し、円柱状に押出成形する工程(押出工程)と、押出により得られた円柱体を切断により輪切りすることで円板を得る工程(切断工程)と、円板に孔開け加工する工程(孔開け工程)により製造することができる。なお、必要に応じて孔開け部分の内周縁や円板外周縁の面取りと仕上げ研磨などを行う仕上げ工程を施す。
粉末粒子を製造する場合、例えば、上向きノズルを用いたガスアトマイズ法によってアルミニウム合金のアトマイズ粉末を製造するためのアトマイズ装置を用いることができる。このアトマイズ装置の具体的な一例を図3に模式的に示す。
図3に示すアトマイズ装置において、軸線方向に沿って溶湯流通路10を形成した中空管状のノズル基体13が、軸線方向が垂直となるように設置されており、その下端部は、溶湯保持室7内のアルミニウム合金溶湯5中に浸漬されている。ノズル基体13の上端面13Aは水平面とされ、その中央には溶湯流通路10の上端の溶湯吐出口13Bが開口されている。ノズル基体13の上部の外周側には、それを取り囲むように全体として環状をなすガス噴出用基体9が配置されている。このガス噴出用基体9は、その内側に環状の中空室9Aが形成されており、その中空室9Aに外部からガス流入口9Bを経てアトマイズ用のガス(例えば、空気)が導入される。
なお、図3では示していないが、アトマイズガス噴出口9Cから噴出されるアトマイズガスは、ノズル基体13の中心軸線を基準として所定方向に旋回するように、噴出口9Cの向き、もしくは中空室9Aから噴出口9Cの開口端に至るガス流路の方向(旋回方向)が設定されている。
ノズル基体13における上端面13Aの上方空間17は、アトマイズガス噴出口9Cからの噴出ガス流及び吸気用筒体14の側からの吸引によって負圧となり、この負圧によって、溶湯保持室7内のアルミニウム合金溶湯5がノズル基体13の溶湯流通路10に吸い上げられる。そしてアルミニウム合金溶湯は、ノズル基体13の上端面13Aの溶湯吐出口13Bから吐出されて、上端面13Aの周縁側に流れ、その周縁部において、アトマイズガス噴出口9Cからのアトマイズガスによって微細に液滴化(霧化)される。
そしてその微小液滴は、旋回しながら上昇する。さらにその過程で微小液滴の凝固が進行し、固体の粉末粒子となり、その粉末粒子からなる粉末(アトマイズ粉末)20が上昇し、吸気用筒体14及び減圧ポンプ15を経て、粉末捕集容器16に収容される。
本実施形態のアルミニウム合金アトマイズ粉末は、前述のように粒子の全体の外形が非球状となっている。すなわち、球体のような等方的な形状ではなく、最大長さを示す長径と、その長径よりも短い短径とを有する異形の粒子(形状異方性を有する粒子)であり、さらに外面が実質的に曲面をなすことから、擬球状ともいうことができる形状である。
なお、微視的に見れば、粒子表面は初晶Si粒子によって微小な凹凸が付与されていることから、全体形状の外面については、その微小な凹凸は無視して、前記のように「実質的に曲面をなす」と表現している。
従来の一般的なガスアトマイズ法に従って、非酸化性ガス(窒素ガスあるいは不活性ガス)を用いてアトマイズした場合は、アトマイズ粉末は真球体もしくはそれに近い球体となることが確認されている。すなわちアトマイズ時には、ノズルからのアルミニウム合金溶湯は、アトマイズガスによって微小液滴に分断され、さらにその微小液滴はアトマイズガスの旋回流によって上方に旋回しながら凝固する。
なお、本実施形態で適用するアトマイズ粉末は、図4〜図6に示す例のような非球状に限るものではなく、一般的なアトマイズ装置で製造される球状や疑似球状のアトマイズ粉末であっても良いのは勿論である。
次に、この円柱状の圧粉成形体を押出装置に収容し、300〜450℃、例えば350℃で熱間押出加工を施し、直径53mm〜97mm程度であって、任意の長さの円柱状の押出材を得る(押出工程)。この押出材の直径は製造目的とする磁気記録媒体用アルミニウム合金基板の外径と同等の外径であればよい。このため、直径53mm以上97mm以下の範囲を採用する。
次いで、円板の中心部分に放電加工などの孔開け加工法により丸孔を形成し、磁気記録媒体用アルミニウム合金円板を得ることができる(孔開け工程)。
このアルミニウム合金円板を350〜400℃、例えば、380℃で1時間焼鈍することが好ましい。
その後、アルミニウム合金円板の表面と端面をダイヤモンドバイトなどの工具により切削加工し、目的の直径と厚さを有するアルミニウム合金基板11を得ることができる。また、必要に応じて基板に仕上げ研磨などの仕上げ工程を施すことができる。
本実施形態の磁気記録媒体用基板1は、例えば、アルミニウム合金基板11にめっき法によってNiP系めっき被膜12を形成するめっき工程と、NiP系めっき被膜付アルミニウム合金基板の表面に対して研磨加工を施す研磨加工工程とを含む方法によって製造することができる。
めっき工程において、アルミニウム合金基板11にNiP系めっき被膜12を形成する方法としては、無電解めっき法を用いることが好ましい。NiP合金からなるめっき被膜は、従来から使用されている方法を用いて形成することができる。NiWP合金からなるめっき被膜は、NiP合金用のめっき液に、タングステン塩を添加しためっき液を用いることができる。タングステン塩としては、例えば、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸アンモニウム等を用いることができる。
研磨加工工程では、めっき工程で得られたNiP系めっき被膜付アルミニウム合金基板の表面を研磨する。研磨加工工程は、平滑で、傷が少ないといった表面品質の向上と生産性の向上との両立の観点から、複数の独立した研磨盤を用いた2段階以上の研磨工程を有する多段階研磨方式を採用するのが好ましい。例えば、第1の研磨盤を用いて、アルミナ砥粒を含む研磨液を供給しながら研磨する粗研磨工程と、研磨されたアルミニウム合金基板を洗浄した後に、第2の研磨盤を用いて、コロイダルシリカ砥粒を含む研磨液を供給しながら研磨する仕上げ研磨工程を行う。
図7に示すように、第1及び第2の研磨盤20は、上下一対の定盤21、22を備え、互いに逆向きに回転する定盤21、22の間で複数枚の基板Wを挟み込みながら、これら基板Wの両面を定盤21、22に設けられた研磨パッド23により研磨する。
この研磨加工により図1に示す構成の磁気記録媒体用基板1を得ることができる。
図8は、本実施形態における磁気記録媒体の一例を示す断面模式図である。
図8に示すように、磁気記録媒体31は、上述の磁気記録媒体用基板1と、NiP系めっき被膜12の表面に備えられている磁性層32とを含む。磁性層32の表面には、さらに、保護層33と潤滑剤層34とがこの順序で積層されている。
磁性層32の厚みは、例えば5〜25nmとすることが好ましい。
保護層33の膜厚は、例えば1nm〜10nmの範囲内であることが好ましい。
潤滑剤層34の膜厚は、例えば0.5nm〜2nmの範囲内であることが好ましい。
図9は、本実施形態におけるハードディスクドライブの一例を示す斜視図である。
図9に示すように、ハードディスクドライブ40は、上述の磁気記録媒体31と、磁気記録媒体31を記録方向に駆動する媒体駆動部41と、記録部と再生部からなる磁気ヘッド42と、磁気ヘッド42を磁気記録媒体31に対して相対移動させるヘッド移動部43と、磁気ヘッド42からの記録再生信号の処理を行う記録再生信号処理部44とを具備する。
また、磁気記録媒体用基板1は、機械加工性が高く、廉価で製造することが可能であれば、高記録容量のハードディスクドライブのビット単価を下げることができる。
また、ハードディスクドライブ40は、特に、高記録容量の3.5インチのハードディスクドライブとして用いることが好ましい。
そして、本実施形態のハードディスクドライブは、上述の磁気記録媒体31を具備するので、従来よりも多数枚の磁気記録媒体31をドライブケースに収納することができ、これにより、ハードディスクドライブの記録容量が増加する。
[アルミニウム合金基板の製造]
原料としてAlメタル、Si塊、Al−Mg合金、Cuメタルを用意した。なお、Al、Si、Cuの各原料については、Bの含有量が0.01質量%未満、Pの含有量が0.01質量%未満のものを用意した。
表1に示す実施例と比較例では、得られたアルミニウム合金溶湯を図3に示す構成の上向きノズル方式のガスアトマイズ装置によって、アトマイズ粉末を作製した。
アトマイズガスとして、常温の空気を用い、雰囲気も常温の空気中とした。アトマイズガス(空気)の流量は、3m3/minに設定し、アルミニウム合金溶湯の温度は1100℃に設定した。
得られたアトマイズ粉末の粒子形状を調べたところ、アスペクト比が平均で1.7程度の非球状となっていることが確認された。また、粉末粒子表面には、複数の初晶Si粒子が露呈していることも確認できた。なお、得られたアトマイズ粉末の粒径は、平均で57μmであった。
次いで、円柱状の押出材からワイヤーソー装置により厚さ0.4mmの円板を切り出し、円板の中心部分に放電加工により丸孔を形成し、試験用のアルミニウム合金円板を得た。
アトマイズ粉末を用いて成形体を形成した状態においてアトマイズ粉末の粒子が密接に結合され、アトマイズ粒子の粒界が存在する金属組織を有するが、押出材となった段階でアトマイズ粉末粒子の粒界はほぼ消失して均一なマトリックスの内部に初晶Si粒子が分散された組織となることを光学顕微鏡による組織観察により確認することができた。
このアルミニウム合金円板を380℃で1時間焼鈍した。その後、アルミニウム合金円板の表面と端面をダイヤモンドバイトにより切削加工し、直径55mm、厚さ0.4mmのアルミニウム合金基板を得た。
アルミニウム合金基板をNiP系めっき液に浸漬し、無電解めっき法を用いてアルミニウム合金基板の表面に、NiP系めっき被膜としてNi88P12(Pの含有量12質量%、残部Ni)膜を形成した。
次いで、NiP系めっき被膜を形成したアルミニウム合金基板を300℃で3分間加熱して、NiP系めっき被膜付アルミニウム合金基板を得た。
以下の項目を、評価した。
(初晶Si粒子の粗大粒子平均粒子径)
アルミニウム合金基板の合金組織を断面観察し、初晶Si粒子の最長径が0.5μm以上の粒子の分布密度を測定した。そして、測定した最長径が0.5μm以上の粒子の分布密度から初晶Si粒子の平均粒子径を算出した。
アルミニウム合金基板の製造時の加工性に関し、切削加工後のアルミニウム合金基板の表面を1000倍の微分干渉型光学顕微鏡で観察し、その平坦性から評価した。なお、平坦性が優れている場合を○、わずかにスクラッチが見られるが実用上問題がない場合を△、多数のスクラッチが見られ、使用できない部分が多く発生した場合を×として、判定した。その結果を、下記の表1に示す。
アルミニウム合金基板をNiP系めっき液に浸漬し、無電解めっき法を用いてアルミニウム合金基板の表面に、NiP系めっき被膜としてNi88P12膜を形成し、次いで、アルミニウム合金基板を300℃で3分間加熱して、NiP系めっき被膜付アルミニウム合金基板を製造した。NiP系めっき被膜の形成条件は、磁気記録媒体用基板の製造のときと同じ条件とした。
アルミニウム合金基板をNiP系めっき液に浸漬し、無電解めっき法を用いてアルミニウム合金基板の表面に、NiP系めっき被膜としてNi88P12膜を形成する際の膜の成長速度を評価した。なお、メッキレートが量産適用可能なレベルを○、劣っているものを×とした。
磁気記録媒体用基板のヤング率を、日本工業規格JIS Z 2280−1993に基づいて、常温で測定した。なお、ヤング率は、磁気記録媒体用基板を、長さ50mm、幅10mm、厚さ0.8mmの短冊状に切り出し、これを試験片として測定した。
そして、前記のヤング率Eと密度ρとの比E/ρを算出した。その結果を、下記の表1に示す。
フラッタリング特性はNRROを測定して評価した。NRROは磁気記録媒体用基板を10000rpmで1分間回転させ、磁気記録媒体用基板の最外周面で生ずるフラッタリングによる変位の幅を、He−Neレーザー変位計を用いて測定し、得られた変位の幅の最大値をNRROとした。
NRROが3.2μm以下であったものを◎、3.2μmを超え3.4μm以下であったものを○、3.4μmを超え3.6μm以下であったものを△、3.6μmを超えたものを×と評価した。その結果を、下記の表1に示す。
比較例2はSi含有量を望ましい範囲より少なくした試料であるが、フラッタリング特性に劣る結果となった。これは、Siの含有量が望ましい範囲よりも少なく、ヤング率Eが低くなりすぎたためであると考えられる。
比較例4はCu含有量を望ましい範囲より少なくした試料であるが、加工性に劣る結果となった。CuはCu−Siの析出に貢献するが、Cuの含有量が少ない場合、Al合金マトリックスに含まれるSiが多くなるので初晶Si粒子が成長し、粗大化するため、加工性とめっき性に劣るようになる。
比較例6はMg含有量を望ましい範囲より少なくした試料であるが、加工性に劣る結果となった。Mg含有量が少ない場合、初晶Si粒子が成長し、粗大化するため、加工性とめっき性に劣るようになる。
比較例8はZnを望ましい範囲より少なくした試料であるが、メッキレートが低すぎる問題を生じた。
Claims (12)
- Siを28.0質量%以上32.0質量%以下の範囲内、Cuを2.5質量%以上4.0質量%以下の範囲内、Mgを0.8質量%以上1.5質量%以下の範囲内で含み、残部Alの組成を有するAl合金からなる金属組織を有し、
前記金属組織内に、最長径0.5μm以上であって、平均粒子径が2μm以下の初晶Si粒子が分散され、
直径が53mm以上97mm以下の範囲内にあって、厚さが0.2mm以上0.9mm以下の範囲内にあることを特徴とする磁気記録媒体用アルミニウム合金基板。 - 前記Al合金に、さらに、Znを、0.01質量%以上0.5質量%以下の範囲内で含むことを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体用アルミニウム合金基板。
- 前記Al合金に、さらに、Mn、Ti、Cr、V、Zr、Mo、Coのうち1種または2種以上を0.01質量%以上0.5質量%以下の範囲内で含むことを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体用アルミニウム合金基板。
- E/ρ(E:ヤング率、ρ:密度)の値が36.5以上であることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の磁気記録媒体用アルミニウム合金基板。
- 前記金属組織が前記Al合金の粉末粒子成形体の押出組織であることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載の磁気記録媒体用アルミニウム合金基板。
- アルミニウム合金基板と、前記アルミニウム合金基板の少なくとも一方の表面に形成されたNiP系めっき被膜とを有する磁気記録媒体用基板であって、
前記アルミニウム合金基板が、請求項1〜請求項5のうち、いずれか1項に記載の磁気記録媒体用アルミニウム合金基板であることを特徴とする磁気記録媒体用基板。 - 磁気記録媒体用基板と、前記磁気記録媒体用基板の表面に備えられている磁性層とを有する磁気記録媒体であって、
前記磁気記録媒体用基板が、請求項6に記載の磁気記録媒体用基板であって、前記磁性層が、前記磁気記録媒体用基板の前記NiP系めっき被膜が形成されている側の表面に備えられていることを特徴とする磁気記録媒体。 - 磁気記録媒体を具備したハードディスクドライブであって、前記磁気記録媒体が請求項7に記載の磁気記録媒体であることを特徴とするハードディスクドライブ。
- Siを28.0質量%以上32.0質量%以下の範囲内、Cuを2.5質量%以上4.0質量%以下の範囲内、Mgを0.8質量%以上1.5質量%以下の範囲内で含み、残部Alの組成を有するAl合金からなる粉末粒子の成形体を形成し、この成形体に押出加工を施して円柱体を形成し、この円柱体から切断加工により円板状の磁気記録媒体用アルミニウム合金基板を得ることを特徴とする磁気記録媒体用アルミニウム合金基板の製造方法。
- 前記Al合金に、さらに、Znを、0.01質量%以上0.5質量%以下の範囲内で含むことを特徴とする請求項9に記載の磁気記録媒体用アルミニウム合金基板の製造方法。
- 前記Al合金に、さらに、Mn、Ti、Cr、V、Zr、Mo、Coのうち1種または2種以上を0.01質量%以上0.5質量%以下の範囲内で含むことを特徴とする請求項9または請求項10に記載の磁気記録媒体用アルミニウム合金基板の製造方法。
- 最長径0.5μm以上であって、平均粒子径が2μm以下の初晶Si粒子を分散させることを特徴とする請求項9〜請求項11のいずれか一項に記載の磁気記録媒体用アルミニウム合金基板の製造方法。
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