JP2019096627A - 回転プラテン装置および回転ユニオン - Google Patents
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Abstract
Description
イオン注入とは、エネルギーを与えられた複数のイオンによる基板の衝撃によって、基板の中に化学種を堆積する処理である。半導体製造において、イオン注入装置は、対象となる複数の材料の導電型および導電性レベルを変化させるドーピング処理に使用される。集積回路(IC)基板における精密なドーピングプロファイルおよびその薄膜構造は、適切なIC性能のために重要である。所望のドーピングプロファイルを得るべく、1または複数のイオン種が異なる照射量および異なるエネルギーレベルで注入され得る。
[項目1]
ベースと、
上記ベースに回転可能に連結されるプラテンと、
上記プラテンを冷却すべく極低温流体を供給するための回転ユニオンと、を備え、上記回転ユニオンは上記ベースと上記プラテンとの間に連結され、上記回転ユニオンは、コイル状管部を備え、上記コイル状管部は、上記プラテンの非回転位置に関連付けられる第1の形状、および上記プラテンの回転位置に関連付けられる第2の形状を有し、
上記第1の形状において上記コイル状管部は第1の曲げ半径を有し、上記第2の形状において上記コイル状管部は第2の曲げ半径を有し、上記第1の曲げ半径と上記第2の曲げ半径とは異なる
回転プラテン装置。
[項目2]
上記コイル状管部の第1の端部および第2の端部に関連付けられる第1の管継手および第2の管継手をさらに備え、上記第1の管継手は極低温流体源から極低温流体を受け取るためのものであり、上記第2の管継手は上記プラテンに極低温流体を供給するためのものである
項目1に記載の回転プラテン装置。
[項目3]
上記回転ユニオンは、上記コイル状管部が上記第1の形状と上記第2の形状との間を移動するとき、上記コイル状管部の移動を制御可能に制限するためのクランプ部材をさらに備える
項目1または2に記載の回転プラテン装置。
[項目4]
上記回転ユニオンは、上記コイル状管部が上記第1の形状と上記第2の形状との間を移動するとき、上記コイル状管部の移動を制御可能に制限するための周辺外壁を有するユニオンベース部材をさらに備える
項目1から3の何れか一項に記載の回転プラテン装置。
[項目5]
上記コイル状管部と上記第1の管継手との間に連結される駆動ブロック部をさらに備え、上記駆動ブロック部は、極低温流体が上記コイル状管部と上記第1の管継手との間を流れることを可能にする流路を備える
項目2に記載の回転プラテン装置。
[項目6]
上記駆動ブロック部に連結されるステムをさらに備え、上記ステムは、上記回転ユニオンのベース部に回転可能に連結されており、上記ベース部は上記ベースに固定されている
項目5に記載の回転プラテン装置。
[項目7]
上記プラテンに対して固定される保護部材をさらに備え、上記保護部材は上記駆動ブロック部に連結され、上記保護部材は、上記プラテンおよび上記ベースが互いに対して回転するとき、上記回転ユニオンを通して回転力を伝える
項目5または6に記載の回転プラテン装置。
[項目8]
ベース部材であり、上記ベース部材に接続される周辺外壁およびカバーを有するベース部材をさらに備え、上記ベース部材、上記周辺外壁、および上記カバーは、上記コイル状管部が上記第1の形状と上記第2の形状との間を移動するとき、上記コイル状管部の移動を制御可能に制限する
項目1から7の何れか一項に記載の回転プラテン装置。
[項目9]
上記プラテンから極低温流体を排水するための第2の回転ユニオンをさらに備え、上記第2の回転ユニオンは上記ベースと上記プラテンとの間に連結され、上記第2の回転ユニオンはコイル状管部を備え、上記コイル状管部は、上記プラテンの非回転位置に関連付けられる第1の形状、および上記プラテンの回転位置に関連付けられる第2の形状を有し、
上記第1の形状において上記コイル状管部は第1の曲げ半径を有し、上記第2の形状において上記コイル状管部は第2の曲げ半径を有し、上記第1の曲げ半径と上記第2の曲げ半径とは異なる
項目1から8の何れか一項に記載の回転プラテン装置。
[項目10]
半導体処理用回転ユニオンであり、上記ユニオンは、
ベース部と、
上記ベース部に回転可能に連結されるステムと、
第1の端部において上記ステムに接続され、第2の端部において第1の管継手に接続される駆動ブロック部と、
第1の端部および第2の端部を有するコイル状管部であり、上記第1の端部は上記駆動ブロック部に連結され、上記第2の端部は第2の管継手に連結されるコイル状管部と、を備え、
上記コイル状管部は、上記ユニオンの非回転位置に関連付けられる第1の形状、および上記ユニオンの回転位置に関連付けられる第2の形状を有し、
上記第1の形状において、上記コイル状管部は第1の曲げ半径を有し、上記第2の形状において、上記コイル状管部は第2の曲げ半径を有し、上記第1の曲げ半径と上記第2の曲げ半径とは異なる
回転ユニオン。
[項目11]
上記第1の管継手は極低温流体源から極低温流体を受け取るためのものであり、上記第2の管継手はプラテンに極低温流体を供給するためのものである
項目10に記載の回転ユニオン。
[項目12]
上記回転ユニオンは、上記コイル状管部が、上記第1の形状と上記第2の形状との間を移動するとき、上記コイル状管部の移動を制御可能に制限するためのクランプ部材をさらに備える
項目10または11に記載の回転ユニオン。
[項目13]
上記ベース部は、上記コイル状管部が、上記第1の形状と上記第2の形状との間を移動するとき、上記コイル状管部の移動を制御可能に制限するための周辺外壁をさらに有する
項目10から12の何れか一項に記載の回転ユニオン。
[項目14]
上記駆動ブロック部は、極低温流体が上記コイル状管部と上記第1の管継手との間を流れることを可能にする流路を備える
項目10から13の何れか一項に記載の回転ユニオン。
[項目15]
上記ベース部は、上記ベース部に接続される、周辺外壁およびカバーを有し、上記ベース部、上記周辺外壁、および上記カバーは、上記コイル状管部が、上記第1の形状と上記第2の形状との間を移動するとき、上記コイル状管部の移動を制御可能に制限する
項目10から14の何れか一項に記載の回転ユニオン。
Claims (15)
- ベースと、
前記ベースに回転可能に連結されるプラテンと、
前記プラテンを冷却すべく極低温流体を供給するための回転ユニオンと、を備え、
前記回転ユニオンは、前記ベースと前記プラテンとの間に連結されたコイル状管部であって、前記プラテンの非回転位置に関連付けられる第1の形状、および前記プラテンの回転位置に関連付けられる第2の形状を有するコイル状管部と、
前記コイル状管部の移動を制御可能に制限するための拘束装置と
を備え、
前記第1の形状において前記コイル状管部は第1の曲げ半径を有し、前記第2の形状において前記コイル状管部は第2の曲げ半径を有し、前記第1の曲げ半径と前記第2の曲げ半径とは異なる
回転プラテン装置。 - 前記コイル状管部の第1の端部および第2の端部に関連付けられる第1の管継手および第2の管継手をさらに備え、前記第1の管継手は極低温流体源から極低温流体を受け取るためのものであり、前記第2の管継手は前記プラテンに極低温流体を供給するためのものである
請求項1に記載の回転プラテン装置。 - 前記コイル状管部が前記第1の形状と前記第2の形状との間を移動するとき、前記コイル状管部の移動を制御可能に制限するためのクランプ部材を備える
請求項1または2に記載の回転プラテン装置。 - 前記コイル状管部が前記第1の形状と前記第2の形状との間を移動するとき、前記コイル状管部の移動を制御可能に制限するための周辺外壁を有するユニオンベース部材を備える
請求項1から3の何れか一項に記載の回転プラテン装置。 - 前記コイル状管部と前記第1の管継手との間に連結される駆動ブロック部をさらに備え、前記駆動ブロック部は、極低温流体が前記コイル状管部と前記第1の管継手との間を流れることを可能にする流路を備える
請求項2に記載の回転プラテン装置。 - 前記駆動ブロック部に連結されるステムとを備え、前記ステムは、前記回転ユニオンのベース部に回転可能に連結されており、前記ベース部は前記ベースに固定されている
請求項5に記載の回転プラテン装置。 - 前記プラテンに対して固定される保護部材をさらに備え、前記保護部材は前記駆動ブロック部に連結され、前記保護部材は、前記プラテンおよび前記ベースが互いに対して回転するとき、前記回転ユニオンを通して回転力を伝える
請求項6に記載の回転プラテン装置。 - ベース部材であり、前記ベース部材に接続される周辺外壁およびカバーを有するベース部材を備え、前記ベース部材、前記周辺外壁、および前記カバーは、前記コイル状管部が前記第1の形状と前記第2の形状との間を移動するとき、前記コイル状管部の移動を制御可能に制限する
請求項1から7の何れか一項に記載の回転プラテン装置。 - 前記プラテンから極低温流体を排水するための第2の回転ユニオンをさらに備え、前記第2の回転ユニオンは前記ベースと前記プラテンとの間に連結され、前記第2の回転ユニオンはコイル状管部を備え、前記コイル状管部は、前記プラテンの非回転位置に関連付けられる第1の形状、および前記プラテンの回転位置に関連付けられる第2の形状を有し、
前記第1の形状において前記コイル状管部は第1の曲げ半径を有し、前記第2の形状において前記コイル状管部は第2の曲げ半径を有し、前記第1の曲げ半径と前記第2の曲げ半径とは異なり、
前記回転ユニオンおよび前記第2の回転ユニオンは、前記プラテンを挟んだ一対の回転ユニオンである
請求項1から5の何れか一項に記載の回転プラテン装置。 - 半導体処理用の回転ユニオンであり、前記回転ユニオンは、
ベース部と、
前記ベース部に回転可能に連結されるステムと、
第1の端部において前記ステムに接続され、第2の端部において第1の管継手に接続される駆動ブロック部と、
第1の端部および第2の端部を有するコイル状管部であり、前記第1の端部は前記駆動ブロック部に連結され、前記第2の端部は第2の管継手に連結されるコイル状管部と、
前記コイル状管部の移動を制御可能に制限するための拘束装置と
を備え、
前記コイル状管部は、前記回転ユニオンの非回転位置に関連付けられる第1の形状、および前記回転ユニオンの回転位置に関連付けられる第2の形状を有し、
前記第1の形状において、前記コイル状管部は第1の曲げ半径を有し、前記第2の形状において、前記コイル状管部は第2の曲げ半径を有し、前記第1の曲げ半径と前記第2の曲げ半径とは異なる
回転ユニオン。 - 前記第1の管継手は極低温流体源から極低温流体を受け取るためのものであり、前記第2の管継手はプラテンに極低温流体を供給するためのものである
請求項10に記載の回転ユニオン。 - 前記回転ユニオンは、前記コイル状管部が、前記第1の形状と前記第2の形状との間を移動するとき、前記コイル状管部の移動を制御可能に制限するためのクランプ部材を備える
請求項10または11に記載の回転ユニオン。 - 前記ベース部は、前記コイル状管部が、前記第1の形状と前記第2の形状との間を移動するとき、前記コイル状管部の移動を制御可能に制限するための周辺外壁を有する
請求項10から12の何れか一項に記載の回転ユニオン。 - 前記駆動ブロック部は、極低温流体が前記コイル状管部と前記第1の管継手との間を流れることを可能にする流路を備える
請求項10から13の何れか一項に記載の回転ユニオン。 - 前記ベース部は、前記ベース部に接続される、周辺外壁およびカバーを有し、前記ベース部、前記周辺外壁、および前記カバーは、前記コイル状管部が、前記第1の形状と前記第2の形状との間を移動するとき、前記コイル状管部の移動を制御可能に制限する
請求項10から14の何れか一項に記載の回転ユニオン。
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KR20160146309A (ko) | 냉매 공급 장치 |
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