JP2019091054A - 多層ミラーアセンブリ - Google Patents

Abstract

【課題】金属層を腐食から効果的に保護するための、金属層と一体になったポリマー層の連続的な被膜が確実に得られる、光透過性ポリマー基材の金属被覆方法を用いた多層ミラーアセンブリの製造方法を提供する。【解決手段】（ｉ）少なくとも１種のフルオロポリマーＦを含む組成物Ｃ１から作られる、好ましくは少なくとも１種のフルオロポリマーＦからなる組成物Ｃ１から作られる、内表面及び外表面を有する光透過性層Ｌ１を準備する工程と、（ｉｉ）層Ｌ１の内表面を、エッチングガスの存在下、高周波グロー放電法によって処理する工程と、（ｉｉｉ）工程（ｉｉ）で準備した層Ｌ１の処理した内表面に、金属層Ｌ２を無電解めっきする工程であって、層Ｌ２は少なくとも１種の金属化合物Ｍを含む組成物Ｃ２から作られる工程と、を含む。【選択図】なし

Description

関連出願の相互参照
本出願は、２０１３年３月２９日出願の欧州特許出願第１３１６１８２８．２号に基づく優先権を主張するものであり、この出願の全内容は、あらゆる目的のために参照により本明細書に援用される。

本発明は、多層ミラーアセンブリ、前記多層ミラーアセンブリの製造方法、及び前記多層ミラーアセンブリの様々な用途での使用に関する。

太陽光発電は、光発電システム（ＰＶ）を用いた直接的な太陽光の電気への変換、あるいは集光型太陽熱発電システム（ＣＳＰ）を用いた間接的な太陽光の電気への変換である。

集光型太陽熱発電（ＣＳＰ）技術は、典型的にはレンズ又は反射鏡と、広い面積の入射電磁放射を小さいビームへと集光する追尾システムとを使用する。集光された放射光は、その際、従来の発電所用の熱源として使用される。最も進んだ集光技術としては、パラボリックトラフ型集光器を挙げることができる。

集光型太陽光発電技術（ＣＰＶ）は、典型的には、太陽電池上に入射放射光を集光するのに好適な反射鏡を使用する。その際、太陽電池は光電効果を用いて放射光を電流に変換する。

前記ＣＳＰ技術及びＣＰＶ技術での使用に好適な反射鏡は、一般的にミラーフィルムをベースとするものである。金属は、その特有の反射特性から、ミラー製造のための最も一般的な材料である。

反射率とは、一般的には、界面で反射した入射電磁放射の割合のことをいい、典型的には入射光の波長の関数として、及び界面での入射放射光の角度の関数として、変化する。

しかし、金属表面の反射率は、通常、大気中に存在する気体の化学作用による、金属腐食を引き起こす酸化物の蓄積によって変化する。

そのため、光学実務においては、腐食から金属を護るために、金属ミラー上の薄い非金属フィルムが益々頻繁に使用されるようになってきている。

例えば、米国特許出願公開第２０１２／０１８２６０７号明細書（ＥＶＯＮＩＫ ＤＥＧＵＳＳＡ ＧＭＢＨ）（２０１２年７月１９日）には、透明性が高いポリマー層が物理蒸着によって銀鏡層で被覆されている、発電システムのための自己支持型集光器の製造方法が開示されている。

しかし、典型的にはポリマー層と金属層との間にプライマー層が設けられており、これが集光器の長寿命性能に貢献している。

また、独国特許第３７０９２０８号明細書（ＢＯＭＩＮ ＳＯＬＡＲ ＧＭＢＨ）（１９８８年９月２９日）には、金属層を介してフルオロポリマー層に密着したプラスチック支持体層を含むミラーアセンブリが開示されている。金属層は、物理蒸着によってプラスチック支持体層上に被覆されている。

当該技術分野では、スパッタリング法又はイオン衝撃法によってフルオロポリマー表面への金属の密着接合が促進されることも知られている。しかし、これらの方法は表面の化学特性及び形態特性に悪影響を与えうる。

そのため、当該技術分野では、光透過性ポリマー層のバルク特性に影響を与えずに、入射電磁放射の少なくとも９０％の反射放射光を標的に保持しつつ、金属層を腐食から効果的に保護するための、金属層と一体になったポリマー層の連続的な被膜が確実に得られる、光透過性ポリマー基材の金属被覆方法が未だ必要とされている。

今回、驚くべきことに、本発明の方法によって得られる多層ミラーアセンブリが、有利には、極めて優れた反射特性及を示し且つ極めて優れた柔軟性及び耐候性を維持しつつも、改良された層間密着特性を備えていることが見出された。

特に、本発明の多層ミラーアセンブリは、有利にはその外表面全体で入射太陽放射光を均一に反射させつつも、外側のフルオロポリマー層の耐薬品性、防汚性、及び耐傷性によって、過酷な環境条件に耐えることができる。

更に、本発明の多層ミラーアセンブリは、有利には極めて優れた柔軟性を長期間にわたり維持しつつも、良好な機械特性及び耐破損性を有している。

第一の態様では、本発明は多層ミラーアセンブリの製造方法であって、前記方法は、
（ｉ）少なくとも１種のフルオロポリマー［ポリマー（Ｆ）］を含む組成物［組成物（Ｃ１）］から作られる、好ましくは少なくとも１種のフルオロポリマー［ポリマー（Ｆ）］からなる組成物［組成物（Ｃ１）］から作られる、光透過性層［層（Ｌ１）］を準備する工程であって、前記層（Ｌ１）は内表面及び外表面を有する工程と、
（ｉｉ）層（Ｌ１）の内表面を、エッチングガスの存在下、高周波グロー放電法によって処理する工程と、
（ｉｉｉ）工程（ｉｉ）で準備した層（Ｌ１）の、処理した内表面に、金属層［層（Ｌ２）］を無電解めっきする工程であって、前記層（Ｌ２）は少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ）］を含む組成物［組成物（Ｃ２）］から作られる工程と、
（ｉｖ）任意選択的に、工程（ｉｉｉ）で準備した層（Ｌ２）の反対側に、金属層［層（Ｌ３）］を電着塗装する工程であって、前記層（Ｌ３）は、少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ）］を含む組成物［組成物（Ｃ３）］から作られており、前記組成物（Ｃ３）は組成物（Ｃ２）と同じ又は異なる工程と、
（ｖ）任意選択的に、工程（ｉｉｉ）で準備した層（Ｌ２）又は工程（ｉｖ）で準備した層（Ｌ３）の反対側に、１つ以上の別の層を設ける工程と、
を含む、製造方法に関する。

第二の態様では、本発明は、本発明の方法によって得られる多層ミラーアセンブリに関する。

本発明の多層ミラーアセンブリは、典型的には、
− 少なくとも１種のフルオロポリマー［ポリマー（Ｆ）］を含む組成物［組成物（Ｃ１）］から作られる、好ましくは少なくとも１種のフルオロポリマー［ポリマー（Ｆ）］からなる組成物［組成物（Ｃ１）］から作られる、層［層（Ｌ１）］であって、前記層（Ｌ１）は内表面及び外表面を有しており、内表面がエッチングガス存在下での高周波グロー放電法によって処理されている層と、
− 層（Ｌ１）の処理された内表面に直接密着した、少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ）］を含む組成物［組成物（Ｃ２）］から作られる金属層［層（Ｌ２）］と、
− 層（Ｌ２）の反対側に直接密着した、少なくとも１種の化合物（Ｍ）を含む組成物［組成物（Ｃ３）］から作られる任意選択的な金属層［層（Ｌ３）］であって、前記組成物（Ｃ３）は組成物（Ｃ２）と同じ又は異なるものである層と、
− 層（Ｌ２）又は（Ｌ３）の反対側に直接密着した、任意選択的な１つ以上の別の層と、
を含む。

多層ミラーアセンブリは、好ましくは、
− 少なくとも１種のフルオロポリマー［ポリマー（Ｆ）］を含む組成物［組成物（Ｃ１）］から作られる、好ましくは少なくとも１種のフルオロポリマー［ポリマー（Ｆ）］からなる組成物［組成物（Ｃ１）］から作られる、層［層（Ｌ１）］であって、前記層（Ｌ１）は内表面及び外表面を有しており、内表面がエッチングガス存在下での高周波グロー放電法によって処理されている層と、
− 層（Ｌ１）の処理された内表面に直接密着した、少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ）］を含む組成物［組成物（Ｃ２）］から作られる金属層［層（Ｌ２）］と、
− 層（Ｌ２）の反対側に直接密着した、少なくとも１種の化合物（Ｍ）を含む組成物［組成物（Ｃ３）］から作られる金属層［層（Ｌ３）］であって、前記組成物（Ｃ３）は組成物（Ｃ２）と同じ又は異なるものである層と、
− 層（Ｌ３）の反対側に直接密着した、任意選択的な１つ以上の別の層と、
を含む。

多層ミラーアセンブリの製造方法は、好ましくは、
（ｉ）少なくとも１種のフルオロポリマー［ポリマー（Ｆ）］を含む組成物［組成物（Ｃ１）］から作られる、好ましくは少なくとも１種のフルオロポリマー［ポリマー（Ｆ）］からなる組成物［組成物（Ｃ１）］から作られる、光透過性層［層（Ｌ１）］を準備する工程であって、前記層（Ｌ１）は内表面及び外表面を有する工程と、
（ｉｉ）層（Ｌ１）の内表面を、エッチングガスの存在下、高周波グロー放電法によって処理する工程と、
（ｉｉｉ）工程（ｉｉ）で準備した層（Ｌ１）の、処理した内表面に、金属層［層（Ｌ２）］を無電解めっきする工程であって、前記層（Ｌ２）は少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ）］を含む組成物［組成物（Ｃ２）］から作られる工程と、
（ｉｖ）工程（ｉｉｉ）で準備した層（Ｌ２）の反対側に、金属層［層（Ｌ３）］を電着塗装する工程であって、前記層（Ｌ３）は、少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ）］を含む組成物［組成物（Ｃ３）］から作られており、前記組成物（Ｃ３）は組成物（Ｃ２）と同じ又は異なる工程と、
（ｖ）任意選択的に、工程（ｉｖ）で準備した層（Ｌ３）の反対側に、１つ以上の別の層を設ける工程と、を含む。

第三の態様では、本発明は、太陽光集光器を含む（ただしこれらに限定されない）、様々な用途での本発明の多層ミラーアセンブリの使用に関する。

かくして第四の態様では、本発明は太陽光集光器の製造方法であって、前記方法は、
（ｉ）少なくとも１種のフルオロポリマー［ポリマー（Ｆ）］を含む組成物［組成物（Ｃ１）］から作られる、好ましくは少なくとも１種のフルオロポリマー［ポリマー（Ｆ）］からなる組成物［組成物（Ｃ１）］から作られる、光透過性層［層（Ｌ１）］を準備する工程であって、前記層（Ｌ１）は内表面及び外表面を有する工程と、
（ｉｉ）層（Ｌ１）の内表面を、エッチングガスの存在下、高周波グロー放電法によって処理する工程と、
（ｉｉｉ）工程（ｉｉ）で準備した層（Ｌ１）の、処理した内表面に、金属層［層（Ｌ２）］を無電解めっきする工程であって、前記層（Ｌ２）は少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ）］を含む組成物［組成物（Ｃ２）］から作られる工程と、
（ｉｖ）任意選択的に、工程（ｉｉｉ）で準備した層（Ｌ２）の反対側に、金属層［層（Ｌ３）］を電着塗装する工程であって、前記層（Ｌ３）は、少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ）］を含む組成物［組成物（Ｃ３）］から作られており、前記組成物（Ｃ３）は組成物（Ｃ２）と同じ又は異なる工程と、
（ｖ）任意選択的に、工程（ｉｉｉ）で準備した層（Ｌ２）又は工程（ｉｖ）で準備した層（Ｌ３）の反対側に、１つ以上の別の層を設ける工程と、
を含む、製造方法に関する。

太陽光集光器の製造方法は、好ましくは、
（ｉ）少なくとも１種のフルオロポリマー［ポリマー（Ｆ）］を含む組成物［組成物（Ｃ１）］から作られる、好ましくは少なくとも１種のフルオロポリマー［ポリマー（Ｆ）］からなる組成物［組成物（Ｃ１）］から作られる、光透過性層［層（Ｌ１）］を準備する工程であって、前記層（Ｌ１）は内表面及び外表面を有する工程と、
（ｉｉ）層（Ｌ１）の内表面を、エッチングガスの存在下、高周波グロー放電法によって処理する工程と、
（ｉｉｉ）工程（ｉｉ）で準備した層（Ｌ１）の、処理した内表面に、金属層［層（Ｌ２）］を無電解めっきする工程であって、前記層（Ｌ２）は少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ）］を含む組成物［組成物（Ｃ２）］から作られる工程と、
（ｉｖ）工程（ｉｉｉ）で準備した層（Ｌ２）の反対側に、金属層［層（Ｌ３）］を電着塗装する工程であって、前記層（Ｌ３）は、少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ）］を含む組成物［組成物（Ｃ３）］から作られており、前記組成物（Ｃ３）は組成物（Ｃ２）と同じ又は異なる工程と、
（ｖ）任意選択的に、工程（ｉｖ）で準備した層（Ｌ３）の反対側に、１つ以上の別の層を設ける工程と、
を含む。

第五の態様では、本発明は、本発明にかかる少なくとも１つの多層ミラーアセンブリを含む、太陽光集光器にも関する。

太陽光集光器は、有利には本発明の方法によって得ることができる。

本発明の第一の実施形態によれば、本発明の太陽光集光器は、
− 少なくとも１つの本発明にかかる多層ミラーアセンブリと、
− 伝熱流体と、
を含む。

本発明の第二の実施形態によれば、本発明の太陽光集光器は、
− 少なくとも１つの本発明にかかる多層ミラーアセンブリと、
− 太陽電池と、
を含む。

層（Ｌ１）は入射電磁放射に対して光学的に透明である。

層（Ｌ１）の厚さは特に限定されない。しかし、層（Ｌ１）は典型的には少なくとも５μｍ、好ましくは少なくとも１０μｍの厚さを有すると理解される。５μｍ未満の厚さを有する層（Ｌ１）も、本発明の多層アセンブリに好適ではあるものの、十分な機械的耐性が必要とされるときには使用されないであろう。

層（Ｌ１）の厚さの上限の通り、これは、前記層（Ｌ１）が目的とする特定の使用分野に必要とされる可撓性及び透明性を依然として提供することができる限り、特に制限されない。

層（Ｌ１）は、典型的には最大３００μｍｍ、好ましくは最大２００μｍの厚さを有する。

当業者であれば、ポリマー（Ｆ）の性質に応じて、必要とされる光透過性を与えるように層（Ｌ１）の適切な厚さを選択するであろう。

層（Ｌ１）の外表面は、典型的には入射電磁放射に曝される。

光透過層（Ｌ１）は、有利には入射電磁放射の少なくとも７０％、好ましくは少なくとも８０％、より好ましくは少なくとも８５％の透過率を有する。

透過率はいずれの好適な手法によっても測定することができる。

「電磁放射」は、本明細書においては、３００ｎｍ〜２５００ｎｍ、好ましくは４００〜２５００ｎｍの間に含まれる波長の太陽放射光を意図する。

本発明の多層ミラーアセンブリに組み込まれる際に、少なくとも層（Ｌ１）の処理された内表面に金属層（Ｌ２）を無電解めっきすることによって、（Ｌ１）の外表面は有利に入射電磁放射を反射することができる。

出願人は、驚くべきことに、（Ｌ１）の処理された内表面が、金属層（Ｌ２）に、及び任意選択的には金属層（Ｌ３）に、うまく連続的に密着することを見出した。

かくして出願人は、本発明の多層ミラーアセンブリが、有利には入射電磁放射の少なくとも９０％を反射させることも見出した。

反射率は、いずれの好適な手法によっても測定することができる。

用語「フルオロポリマー（Ｆ）］は、少なくとも１種のフッ素化モノマー由来の繰り返し単位を含むフルオロポリマーを意味すると理解される。

用語「フッ素化モノマー」とは、ここでは、少なくとも１個のフッ素原子を含むエチレン系不飽和モノマーを意味することを意図する。

用語「少なくとも１種のフッ素化モノマー」は、ポリマー（Ｆ）が１種もしくは２種以上のフッ素化モノマーに由来する繰り返し単位を含んでいてもよいことを意味すると理解される。本文の残りにおいて、表現「フッ素化モノマー」は、本発明の目的のためには、複数形及び単数形の両方で、すなわち、それらが、上で定義されたような１種もしくは２種以上のフッ素化モノマーの両方を意味すると理解される。

好適なフッ素化モノマーの非限定的な例としては、とりわけ、以下のもの：
− テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）及びヘキサフルオロプロペン（ＨＦＰ）などの、Ｃ_３〜Ｃ_８パーフルオロオレフィン、
− フッ化ビニリデン（ＶＤＦ）、フッ化ビニル、１，２−ジフルオロエチレン、及びトリフルオロエチレン（ＴｒＦＥ）などの、Ｃ_２〜Ｃ_８の含水素フルオロオレフィン；
− 式ＣＨ_２＝ＣＨ−Ｒ_ｆ０のパーフルオロアルキルエチレン（式中、Ｒ_ｆ０はＣ_１〜Ｃ_６パーフルオロアルキル基である）；
− クロロ−及び／又はブロモ−及び／又はヨード−のＣ_２〜Ｃ_６フルオロオレフィン、例えばクロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ）；
− 式ＣＦ_２＝ＣＦＯＲ_ｆ１の（パー）フルオロアルキルビニルエーテル（式中、Ｒ_ｆ１はＣ_１〜Ｃ_６のフルオロ−又はパーフルオロアルキル基、例えばＣＦ_３、Ｃ_２Ｆ_５、Ｃ_３Ｆ_７である）；
− ＣＦ_２＝ＣＦＯＸ_０の（パー）フルオロ−オキシアルキルビニルエーテル（式中、Ｘ_０は、Ｃ_１〜Ｃ_１２アルキル基、又はＣ_１〜Ｃ_１２オキシアルキル基、又はパーフルオロ−２−プロポキシ−プロピル基などの１つもしくは複数のエーテル基を有するＣ_１〜Ｃ_１２（パー）フルオロオキシアルキルである）；
− 式ＣＦ_２＝ＣＦＯＣＦ_２ＯＲ_ｆ２の（パー）フルオロアルキルビニルエーテル（式中、Ｒ_ｆ２は例えばＣＦ_３、Ｃ_２Ｆ_５、Ｃ_３Ｆ_７などのＣ_１〜Ｃ_６のフルオロ−もしくはパーフルオロアルキル基、又は、−Ｃ_２Ｆ_５−Ｏ−ＣＦ_３などの１個もしくは複数のエーテル基を有するＣ_１〜Ｃ_６（パー）フルオロオキシアルキル基である）；
− 式ＣＦ_２＝ＣＦＯＹ_０（式中、Ｙ_０は、Ｃ_１〜Ｃ_１２アルキルもしくは（パー）フルオロアルキル基、又はＣ_１〜Ｃ_１２オキシアルキル基、又は１つもしくは複数のエーテル基を有するＣ_１〜Ｃ_１２（パー）フルオロオキシアルキル基であり、Ｙ_０は、その酸、酸ハライドもしくは塩の形態での、カルボン酸もしくはスルホン酸を含む）の官能性（パー）フルオロ−オキシアルキルビニルエーテル；
− フルオロジオキソール、好ましくはパーフルオロジオキソール；及び
− 式ＣＲ_７Ｒ_８＝ＣＲ_９ＯＣＲ_１０Ｒ_１１（ＣＲ_１２Ｒ_１３）_ａ（Ｏ）_ｂＣＲ_１４＝ＣＲ_１５Ｒ_１６（式中、各Ｒ_７〜Ｒ_１６は互いに独立に、−Ｆ及びＣ_１〜Ｃ_３フルオロアルキル基から選択され、ａは０又は１であり、ｂは０又は１であり、ただし、ａが１の場合はｂは０である）の環化重合可能なモノマー、
が挙げられる。

ポリマー（Ｆ）は、少なくとも１種の水素化モノマーを更に含んでいてもよい。

用語「水素化モノマー」とは、ここでは、少なくとも１個の水素原子を含み、フッ素原子を含まないエチレン系不飽和モノマーを意味することを意図する。

用語「少なくとも１種の水素化モノマー」は、ポリマー（Ｆ）が１種もしくは２種以上の水素化モノマーに由来する繰り返し単位を含んでいてもよいことを意味すると理解される。本文の残りにおいて、表現「水素化モノマー」は、本発明の目的のためには、複数形及び単数形の両方で、すなわち、それらが、上で定義されたような１種もしくは２種以上の水素化モノマーの両方を意味すると理解される。

好適な水素化モノマーの非限定的な例には、特に、エチレンやプロピレンなどの非フッ素化モノマー、酢酸ビニルなどのビニルモノマー、メタクリル酸メチルやアクリル酸ブチルなどのアクリルモノマーならびにスチレンやｐ-メチルスチレンなどのスチレンモノマーが含まれる。

ポリマー（Ｆ）は半結晶性であってもアモルファスであってもよい。

用語「半結晶性」は、本明細書ではＡＳＴＭ Ｄ３４１８−０８に従って測定した融解熱が１０〜９０Ｊ／ｇ、好ましくは３０〜６０Ｊ／ｇ、より好ましくは３５〜５５Ｊ／ｇであるポリマー（Ｆ）を意味することが意図されている。

用語「アモルファス」は、本明細書ではＡＳＴＭ Ｄ３４１８−０８に従って測定した融解熱が５Ｊ／ｇ未満、好ましくは３Ｊ／ｇ未満、より好ましくは２Ｊ／ｇ未満であるポリマー（Ｆ）を意味することが意図されている。

ポリマー（Ｆ）は典型的には、
（１）テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）及びクロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ）から選択される少なくとも１種のフッ素化モノマーに由来する繰り返し単位と、エチレン、プロピレン及びイソブチレンから選択される少なくとも１種の水素化モノマーに由来する繰り返し単位とを含み、任意選択的に、ＴＦＥ及び／又はＣＴＦＥならびに前記水素化モノマーの総量基準で典型的には０．０１モル％〜３０モル％の量の１種以上の追加的なコモノマーも含む、ポリマー（Ｆ−１）；
（２）フッ化ビニリデン（ＶＤＦ）由来の繰り返し単位を含み、任意選択的に、ＶＤＦとは異なる１種以上のフッ素化モノマーも含む、ポリマー（Ｆ−２）；
（３）テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）由来の繰り返し単位と、以下の群、すなわち、
− 式ＣＦ_２＝ＣＦＯＲ_ｆ１’（式中、Ｒ_ｆ１’はＣ_１〜Ｃ_６パーフルオロアルキル基である）のパーフルオロアルキルビニルエーテル；
− 式ＣＦ_２＝ＣＦＯＸ_０（式中、Ｘ_０はパーフルオロ−２−プロポキシ−プロピル基などの、１つ以上のエーテル基を有するＣ_１〜Ｃ_１２パーフルオロオキシアルキル基である）のパーフルオロ−オキシアルキルビニルエーテル；
− ヘキサフルオロプロペン（ＨＦＰ）などの、Ｃ_３〜Ｃ_８のパーフルオロオレフィン；
− 式（Ｉ）のパーフルオロジオキソール：

（式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３及びＲ_４は互いに同じ又は異なり、独立に、−Ｆ、任意選択的に１つ以上の酸素原子を含んでいてもよいＣ_１〜Ｃ_６フルオロアルキル基、及び任意選択的に１つ以上の酸素原子を含んでいてもよいＣ_１〜Ｃ_６フルオロアルコキシ基からなる群から選択される）
からなる群から選択されるＴＦＥとは異なる少なくとも１種のフッ素化モノマー由来の繰り返し単位とを含む、ポリマー（Ｆ−３）；
（４）式ＣＲ_７Ｒ_８＝ＣＲ_９ＯＣＲ_１０Ｒ_１１（ＣＲ_１２Ｒ_１３）_ａ（Ｏ）_ｂＣＲ_１４＝ＣＲ_１５Ｒ_１６（式中、各Ｒ_７〜Ｒ_１６は互いに独立に、−Ｆ及びＣ_１〜Ｃ_３フルオロアルキル基から選択され、ａは０又は１であり、ｂは０又は１であり、ただし、ａが１の場合はｂは０である）の少なくとも１種の環化重合可能なモノマー由来の繰り返し単位を含む、ポリマー（Ｆ−４）；
からなる群から選択される。

ポリマー（Ｆ−１）は、好ましくはエチレン（Ｅ）、少なくとも１種のクロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ）、及びテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）由来の繰り返し単位を含む。

ポリマー（Ｆ−１）は、より好ましくは、
（ａ）３０モル％〜４８モル％、好ましくは３５モル％〜４５モル％のエチレン（Ｅ）と、
（ｂ）５２モル％〜７０モル％、好ましくは５５モル％〜６５モル％のクロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）又はそれらの混合物と、
（ｃ）モノマー（ａ）及び（ｂ）の総量を基準として、５モル％以下、好ましくは２．５モル％以下の１種以上の含フッ素及び／又は水素化コモノマーと、
を含む。

コモノマーは、好ましくは（メタ）アクリル酸モノマーの群から選択される水素化コモノマーである。より好ましくは、水素化コモノマーは、ヒドロキシアルキルアクリレートコモノマー（ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート及び（ヒドロキシ）エチルヘキシルアクリレートなど）、及びアルキルアクリレートコモノマー（ｎ−ブチルアクリレートなど）の群から選択される。

ポリマー（Ｆ−１）の中でも、ＥＣＴＦＥコポリマー、すなわちエチレンとＣＴＦＥと、任意選択的な第三のコポリマーとのコポリマーが好ましい。

本発明の方法に好適なＥＣＴＦＥポリマーは、典型的には、２１０℃を超えない、好ましくは２００℃を超えない、さらには１９８℃を超えない、好ましくは１９５℃を超えない、より好ましくは１９３℃を超えない、更により好ましくは１９０℃を超えない融点を有する。ＥＣＴＦＥポリマーは有利には、少なくとも１２０℃、好ましくは少なくとも１３０℃、なお好ましくは少なくとも１４０℃、より好ましくは少なくとも１４５℃、更により好ましくは少なくとも１５０℃の融点を有する。

融点は、ＡＳＴＭ Ｄ３４１８に従って、加熱速度１０℃／分の示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によって決定される。

特に良好な結果を与えることが見出されたＥＣＴＦＥポリマーは、
（ａ）３５モル％〜４７モル％のエチレン（Ｅ）と、
（ｂ）５３モル％〜６５モル％のクロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ）と、
に由来する繰り返し単位から本質的になるものである。

先に述べたものとは異なる繰り返し単位をもたらす末端鎖、欠陥、又は微量のモノマー不純物も、物質の性質に影響せずに、好ましいＥＣＴＦＥに含まれ得る。

ＡＳＴＭ３２７５−８１の手順に従い２３０℃、２．１６Ｋｇで測定したＥＣＴＦＥポリマーのメルトフローレートは、通常、０．０１〜７５ｇ／１０分の範囲にあり、好ましくは０．１〜５０ｇ／１０分、より好ましくは０．５〜３０ｇ／１０分である。

ポリマー（Ｆ−１）の融解熱は、ＡＳＴＭ Ｄ３４１８に準じて１０℃／分の加熱速度で、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によって測定される。

ポリマー（Ｆ−１）は、典型的には最大で３５Ｊ／ｇ、好ましくは最大で３０Ｊ／ｇ、より好ましくは最大で２５Ｊ／ｇの融解熱を有する。

ポリマー（Ｆ−１）は、典型的には少なくとも１Ｊ／ｇの、好ましくは少なくとも２Ｊ／ｇの、より好ましくは少なくとも５Ｊ／ｇの融解熱を有する。

ポリマー（Ｆ−１）は、有利には半結晶性ポリマーである。

ポリマー（Ｆ−２）は、好ましくは：
（ａ’）少なくとも６０モル％、好ましくは少なくとも７５モル％、より好ましくは少なくとも８５モル％のフッ化ビニリデン（ＶＤＦ）と；
（ｂ’）０．１モル％〜１５モル％、好ましくは０．１モル％〜１２モル％、より好ましくは０．１モル％〜１０モル％のフッ化ビニル（ＶＦ_１）、クロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ）、ヘキサフルオロプロペン（ＨＦＰ）、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）、トリフルオロエチレン（ＴｒＦＥ）、パーフルオロメチルビニルエーテル（ＰＭＶＥ）から選択される任意選択的な１種以上のフッ素化モノマーと；
を含む。

ポリマー（Ｆ−２）は、上で定義したような少なくとも１種の（メタ）アクリル酸モノマーを、０．０１モル％〜２０モル％、好ましくは０．０５モル％〜１８モル％、より好ましくは０．１モル％〜モル１０％更に含んでいてもよい。

ポリマー（Ｆ−３）は、好ましくはテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）由来の繰り返し単位と、少なくとも１．５重量％、好ましくは少なくとも５重量％、より好ましくは少なくとも７重量％の、ＴＦＥとは異なる少なくとも１種のフッ素化モノマー由来の繰り返し単位とを含む。

ポリマー（Ｆ−３）は、好ましくはテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）由来の繰り返し単位と、最大３０重量％、好ましくは最大２５重量％、より好ましくは最大２０重量％のＴＦＥとは異なる少なくとも１種のフッ素化モノマー由来の繰り返し単位とを含む。

ポリマー（Ｆ−３）は、より好ましくは：
− テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）由来の繰り返し単位と、式ＣＦ_２＝ＣＦＯＣＦ_３のパーフルオロメチルビニルエーテル、式ＣＦ_２＝ＣＦＯＣ_２Ｆ_５のパーフルオロエチルビニルエーテル、及び式ＣＦ_２＝ＣＦＯＣ_３Ｆ_７のパーフルオロプロピルビニルエーテルからなる群から選択される少なくとも１種のパーフルオロアルキルビニルエーテル由来の繰り返し単位とを含む、ポリマー（Ｆ−３Ａ）；及び
− テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）由来の繰り返し単位と、式（Ｉ）

（式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３及びＲ_４は互いに同じ又は異なり、独立に−Ｆ、Ｃ_１〜Ｃ_３パーフルオロアルキル基（例えば−ＣＦ_３、−Ｃ_２Ｆ_５、−Ｃ_３Ｆ_７）、及び任意選択的に酸素原子を含んでいてもよいＣ_１〜Ｃ_３パーフルオロアルコキシ基（例えば−ＯＣＦ_３、−ＯＣ_２Ｆ_５、−ＯＣ_３Ｆ_７、−ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_３）からなる群から選択され、好ましくは、式中、Ｒ_１＝Ｒ_２＝−Ｆ及びＲ_３＝Ｒ_４がＣ_１〜Ｃ_３パーフルオロアルキル基であり好ましくはＲ_３＝Ｒ_４＝−ＣＦ_３であるか、式中、Ｒ_１＝Ｒ_３＝Ｒ_４＝−Ｆであり、Ｒ_２がＣ_１〜Ｃ_３パーフルオロアルコキシ（例えば−ＯＣＦ_３、−ＯＣ_２Ｆ_５、−ＯＣ_３Ｆ_７）である）
の少なくとも１種のパーフルオロジオキソール由来の繰り返し単位とを含む、ポリマー（Ｆ−３Ｂ）；
からなる群から選択される。

好適なポリマー（Ｆ−３Ａ）の非限定的な例としては、特には、Ｓｏｌｖａｙ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｐｏｌｙｍｅｒｓ Ｉｔａｌｙ Ｓ．ｐ．Ａから、商標名ＨＹＦＬＯＮ（登録商標）ＰＦＡ Ｐシリーズ及びＭシリーズ、並びに、ＨＹＦＬＯＮ（登録商標）ＭＦＡとして販売されているものが挙げられる。

ポリマー（Ｆ−３Ｂ）は、より好ましくはテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）由来の繰り返し単位と、少なくとも１種の上で定義した式（Ｉ）のパーフルオロジオキソール（式中、Ｒ_１＝Ｒ_３＝Ｒ_４＝−Ｆであり、Ｒ_２＝−ＯＣＦ_３であるか、式中、Ｒ_１＝Ｒ_２＝−Ｆであり、Ｒ_３＝Ｒ_４＝−ＣＦ_３である）由来の繰り返し単位を含む。

好適なポリマー（Ｆ−３Ｂ）の非限定的な例としては、特には、Ｓｏｌｖａｙ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｐｏｌｙｍｅｒｓ Ｉｔａｌｙ Ｓ．ｐ．Ａから商標名ＨＹＦＬＯＮ（登録商標）ＡＤとして販売されているもの、及び、Ｅ．Ｉ．Ｄｕ Ｐｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ａｎｄ Ｃｏ．から、ＴＥＦＬＯＮ（登録商標）として販売されているものが挙げられる。

ポリマー（Ｆ−４）は、好ましくは少なくとも１種の式ＣＲ_７Ｒ_８＝ＣＲ_９ＯＣＲ_１０Ｒ_１１（ＣＲ_１２Ｒ_１３）_ａ（Ｏ）_ｂＣＲ_１４＝ＣＲ_１５Ｒ_１６（式中、各Ｒ_７〜Ｒ_１６は互いに独立に−Ｆであり、ａ＝１及びｂ＝０である）で表される環化重合可能なモノマー由来の繰り返し単位を含む。

ポリマー（Ｆ−４）は典型的にはアモルファスである。

好適なポリマー（Ｆ−４）の非限定的な例としては、特には、旭硝子株式会社から、商標名ＣＹＴＯＰ（登録商標）として販売されているものが挙げられる。

ポリマー（Ｆ）は、典型的には懸濁重合法又は乳化重合法によって製造される。

組成物（Ｃ１）は、耐衝撃剤、ＵＶ安定剤、ＵＶ阻害剤、可塑剤、加工助剤、フィラー、顔料、酸化防止剤、帯電防止剤、界面活性剤、分散助剤、及び難燃剤などの（ただしこれらに限定されない）、１種以上の添加剤を更に含んでいてもよい。

当業者であれば、層（Ｌ１）の厚さに応じて、組成物（Ｃ１）中の１種以上の添加剤の適切な量を選択するであろう。

本発明の目的のためには、用語「ＵＶ安定剤」は、３００ｎｍから４００ｎｍの間に含まれる波長における光誘起劣化の物理プロセス及び化学プロセスを阻害することができる化合物を意味すると理解される。

好ましいＵＶ安定剤の中でも、特にはヒンダードアミン光安定剤（ＨＡＬＳ）を挙げることができる。

本発明の目的のためには、用語「ＵＶ阻害剤」は、３００ｎｍから４００ｎｍの間に含まれる波長で電磁放射を吸収することができる化合物を意味すると理解される。

本発明の方法の工程（ｉ）では、組成物（Ｃ１）は典型的には標準的な方法によって製造される。

スタティックミキサー及び強力ミキサーなどの通常の混合装置を使用することができる。優れた混合効率を得るためには、強力ミキサーが好ましい。

本発明の方法の工程（ｉ）では、組成物（Ｃ１）は典型的には溶融加工法を用いて溶融状態で加工される。通常、組成物（Ｃ１）は一般に１００℃〜３００℃に含まれる温度でのダイを通しての押出によって処理されてストランドを生成し、ストランドはペレットにするために通常カットされる。二軸スクリュー押出機が、本組成物（Ｃ１）の溶融配合を成し遂げるための好ましい装置である。

層（Ｌ１）は、典型的にはこのようにして得られたペレットを従来のフィルム押出技術によって加工することによって製造される。フィルム押出は、好ましくは、フラットキャストフィルム押出法又はホットインフレートフィルム押出法により達成する。

層（Ｌ１）は、好ましくは１つ以上の平坦化技術によって更に加工することができる。

好適な平坦化技術の非限定的なとしては、特に、二軸延伸、研磨、及び平坦化被膜処理が挙げられる。

層（Ｌ１）を１つ以上の平坦化技術によって更に加工することで、その表面が滑らかになり、その結果、層間密着性がより高まると共に、得られる多層ミラーアセンブリの反射率もより高まることが見出された。

本発明の方法の工程（ｉｉ）では、フルオロポリマー［ポリマー（Ｆ）］層の一つの表面が、エッチングガスの存在下、高周波グロー放電法によって処理される。

本明細書においては、「高周波グロー放電法」とは、高周波増幅器を動力源とする方法であって、エッチングガスを含むセルの中の２つの電極間にかけられた電圧によってグロー放電が起こる方法のことをいう。このグロー放電は、その際、噴射ヘッドを通って処理する材料の表面に到達する。

本明細書においては、「エッチングガス」とは、高周波グロー放電法での使用に好適な気体又は気体混合物のことをいう。

本発明の方法の第一の実施形態によれば、工程（ｉｉ）ではエッチングガスは大気であり、それによって供給されるグロー放電はコロナ放電である。

本発明の方法の第二の実施形態によれば、工程（ｉｉ）ではエッチングガスは酸素を含まず、グロー放電はプラズマ放電である。

高周波グロー放電法は、典型的には１０ｋＨｚから１００ｋＨｚの間に含まれる高周波で行われる。

高周波グロー放電法は、典型的には５ｋＶから２０ｋＶの間に含まれる電圧で行われる。

エッチングガスは、典型的にはＮ_２、ＮＨ_３、ＣＯ_２、Ｈ_２及びこれらの混合物から選択される。

本発明の方法の工程（ｉｉ）では、フルオロポリマー［ポリマー（Ｆ）］層の一つの表面は、好ましくは高周波プラズマ放電法によって処理される。

本発明の方法の工程（ｉｉ）において、大気圧下、４０ｋＨＺの高周波及び２０ｋＶの電圧での高周波プラズマ放電を行うことでポリマー（Ｆ）層の１つの面を処理することにより、非常に良好な結果が得られた。

大気圧プラズマは、低圧プラズマや高圧プラズマとは異なり、反応容器を大気圧とは異なる圧力レベルに確実に維持し続ける必要がないことから、大きな技術的意義を有している。

本発明の方法の工程（ｉｉ）では、第一の層［層（Ｌ１）］の内表面が、有利にはエッチングガスの存在下、高周波グロー放電法によって連続的に処理される。

出願人は、エッチングガスの存在下での高周波グロー放電法による層（Ｌ１）の処理の後でも、層（Ｌ１）の光透過性がうまく保たれていることを見出した。

本発明の範囲をこれに限定するものではないが、出願人は、ＮＨ_３及び／又はＮ_２雰囲気の存在下での高周波グロー放電法によって、アミン官能基（−ＮＨ_２）やイミン官能基（−ＣＨ＝ＮＨ）やニトリル官能基（−ＣＮ）などの窒素ベースの官能基が層（Ｌ１）の処理された内表面上に結合すると考えている。

本発明の範囲をこれに限定するものではないが、出願人は、特に、ＮＨ_３雰囲気の存在下での高周波グロー放電法によって、アミン（−ＮＨ_２）官能基が層（Ｌ１）の処理された内表面上に結合すると考えている。

また、出願人は、このように処理された層（Ｌ１）が、この上に無電解めっきされる層（Ｌ２）に対して非常に優れた層間密着性を示すことを見出した。

本発明の目的のためには、「無電解めっき」は、典型的には、めっき浴中で、金属カチオンと前記金属カチオンを単体状態に還元するのに好適な適切な化学還元剤との間で行われる還元工程を意味する。

本発明の方法の工程（ｉｉｉ）では、典型的には、層（Ｌ１）の処理された内表面を無電解めっき触媒と接触させて触媒表面を得、その後、典型的には前記触媒表面を少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ）］を含む無電解めっき浴と接触させて、層（Ｌ２）で被覆された内表面を有する層（Ｌ１）を得る。

本発明の方法の工程（ｉｉｉ）では、層（Ｌ１）の処理された内表面は、有利には連続的に層（Ｌ２）と密着している。

層（Ｌ２）は、典型的には０．０５〜５μｍ、好ましくは０．８〜１．５μｍの厚さを有する。

本発明の方法にかかる無電解めっき触媒として、パラジウム触媒、白金触媒、ロジウム触媒、イリジウム触媒、ニッケル触媒、銅触媒、銀触媒、及び金触媒などの様々な化合物を用いることができる。

電解めっき触媒は、好ましくはＰｄＣｌ_２などのパラジウム触媒から選択される。

層（Ｌ１）の処理された内表面は、典型的には、少なくとも１種の液体媒体の存在下、液相で無電解めっき触媒と接触する。

無電解めっき浴は、典型的には少なくとも１種の化合物（Ｍ）と、少なくとも１種の還元剤と、少なくとも１種の液体媒体と、任意選択的な１種以上の添加剤とを含む。

好適な液体媒体の非限定的な例としては、特には、水、有機溶媒、及びイオン性液体が挙げられる。

有機溶媒の中でも、エタノールなどのアルコールが好ましい。

好適なイオン性液体の例としては、特には、カチオンとしてスルホニウムイオン、イミダゾリウム環、ピリジニウム環、ピロリジウム環、又はピペリジウム環など（前記環は任意選択的に窒素原子上が置換されていてもよく、特には１〜８個の炭素原子を有する１つ以上のアルキル基によって置換されていてもよく、また、炭素原子上も置換されていてもよく、特には１〜３０個の炭素原子を有する１つ以上のアルキル基によって置換されていてもよい）のカチオンを含むものが挙げられる。

イオン性液体は、有利には、アニオンとしてハライドアニオン、パーフルオロアニオン、及びホウ酸塩から選択されるものを含むものである。

好適な添加剤の非限定的な例としては、特には、塩、緩衝剤、及び液体組成物中での触媒の安定性を高めるのに好適な他の材料が挙げられる。

化合物（Ｍ）は、典型的には１種以上の金属塩を含む。

化合物（Ｍ）は、好ましくはＲｈ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｔｉ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｃｄ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｉｎ、Ｓｂ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｖ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｗ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｇａ及びこれらの合金由来の金属塩を１種以上含む。

好ましくは、化合物（Ｍ）はＡｌ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ及びこれらの合金のうちの少なくとも１つ由来の１種以上の金属塩を含む。

無電解めっき浴は、好ましくは１種以上の金属塩を含む少なくとも１種の化合物（Ｍ）、少なくとも１種の還元剤、少なくとも１種の液体媒体、及び任意選択的な１種以上の添加剤を含む。

無電解めっき浴は、典型的には１種以上の還元剤を更に含む。

好適な還元剤の非限定的な例としては、特にはホルムアルデヒド、次亜リン酸ナトリウム、及びヒドラジンが挙げられる。

本発明の方法は、層（Ｌ２）の反対側が層（Ｌ３）上に電着塗装される、工程（ｉｖ）を更に含んでいてもよい。

本発明の目的のためには、「電着」とは、電流を用いて電解質溶液から金属カチオンを還元し、その単体状態の前記金属の層（Ｌ３）を層（Ｌ２）上に密着させる方法のことを意味する。

電解質溶液は、好ましくはＡｌ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、及びこれらの合金由来の少なくとも１種の金属塩と、少なくとも１種の金属ハライドとを含有し、任意選択的には上で定義したような少なくとも１種のイオン性液体も含む。

本発明の方法の工程（ｉｖ）において、層（Ｌ３）がある場合、有利には層（Ｌ２）の反対側の面は層（Ｌ３）と連続的に密着している。

本発明の好ましい実施形態によれば、本発明の多層ミラーアセンブリは、処理された内表面を有する層（Ｌ１）と、層（Ｌ１）の前記処理された内表面に直接密着した、単体状態のＡｇからなる層（Ｌ２）と、前記層（Ｌ２）の反対側に直接密着した、単体状態のＡｌ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ及びこれらの合金からなる層（Ｌ３）と、を含む。

層（Ｌ３）は、典型的には０．１〜３０μｍ、好ましくは１〜１５μｍの厚さを有する。

本発明の方法は、層（Ｌ２）の反対側に、又は存在する場合には層（Ｌ３）の反対側に、１つ以上の層が設けられる、工程（ｖ）も更に含んでいてもよい。

本発明の方法の工程（ｖ）では、層（Ｌ３）が存在する場合で層（Ｌ３）の層（Ｌ２）とは反対側の面に１つ以上の層が設けられる場合、それらは当該技術分野で広く知られた技術によって設けられる。

従来技術の中でも、特に、共ラミネート法、共押出法（例えば共押出−ラミネート法、共押出−ブロー成形法、及び共押出−成形法など）、押出−コーティング法、コーティング法、二重射出−成形法、又は共射出−成形法などの溶融加工法が挙げられる。

これらの技術のどれを選ぶかの選択は、典型的にはそれぞれの前記層の材質及び厚さに基づいて行われる。

本発明の方法の工程（ｖ）での使用に好適な層の非限定的な例としては、特にはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、及びエチレン酢酸ビニル共重合体からなる群から選択されるポリマーからなる層が挙げられる。

本発明の太陽光集光器は好ましくは放物面鏡である。

放物面鏡は典型的には冷間曲げ加工によって製造される。

参照によって本明細書に組み込まれる何れかの特許、特許出願及び刊行物の開示が、用語が不明確になるほどに本願の記載と矛盾する場合は、本記載が優先される。

以降、本発明を以下の実施例を参照しつつ詳細に説明するが、実施例は単に例示に過ぎず、本発明の範囲を限定するものではない。

原材料
ＥＣＴＦＥ（モル比５０：５０）

フルオロポリマー層の製造
薄層フィルム製造のため、ＥＣＴＦＥのペレットを、２．５”一段押出機を備えたキャスト押出フィルムラインで加工した。押し出し機は、ブレーカープレートを備えたアダプターを介してダイと連結されている。ダイは１３７０ｍｍ幅のオートゲージ・ダイであった。ダイから出た後、溶融テープを後続の３つの冷却ロール上にキャスティングし、その速度はフィルムを得られるように調整した。全厚さ及び幅に沿った厚さ変動は、ダイに組み込んだベータ線制御計測系によって制御される。

以下の製造条件は１００μｍの厚さのフィルムで使用された（以下の表１及び表２参照）。

縁切り後の、フィルムの最終幅は約１０５０ｍｍであった。

フルオロポリマー層の表面改質
このようにして得られたフルオロポリマーフィルムを、高周波プラズマ放電法によって処理した。使用したエッチングガスは、Ｎ_２であった。作動高周波及び電圧は、それぞれ４０ｋＨｚ及び２０ｋＶであった。
このようにして得られた、プラズマ処理されたフルオロポリマーフィルムのＦＴ−ＩＲ全反射測定（ＡＴＲ）スペクトルから示されるように、アミン官能基（−ＮＨ_２）、イミン官能基（−ＣＨ＝ＮＨ）及びニトリル官能基（−ＣＮ）などのＮ含有官能基が、前記フルオロポリマーフィルムのプラズマ処理された表面に結合していた。

実施例１−フルオロポリマー層の金属被覆工程
上で詳述した、プラズマによって処理したフルオロポリマーフィルムを、無電解めっきによって金属ニッケルで被覆した。ニッケル成膜の前に、フルオロポリマー層を、Ｐｄ活性化の湿式プロセスによって触媒化した。この活性化プロセスは、０．０３ｇ／ＬのＰｄＣｌ_２を含む水溶液へ１分間フルオロポリマー層を浸漬することによって行い、高密度でＰｄ粒子に完全に覆われた基材を得た。
フルオロポリマー層を、２９．８６ｇ／Ｌの酢酸ニッケル四水和物と、２８．１５ｇ／Ｌの次亜リン酸ナトリウムと、４５．０４ｇ／Ｌの乳酸とを含む水性めっき浴に浸漬した。めっき温度は８５℃であり、そのｐＨ値は９であった。

比較例１−フルオロポリマー層の金属被覆工程
フルオロポリマーフィルムのプラズマによる表面改質をしない意外は上で詳述した実施例１と同じ手順に従って、フルオロポリマーフィルムを製造した。

比較例２−フルオロポリマー層の金属被覆工程
上で詳述したプラズマによって処理されたフルオロポリマーフィルムを、従来技術に従ったスパッタリングによって金属ニッケルで被覆した。

金属被覆したフルオロポリマーアセンブリの密着性評価
フルオロポリマー基材上の金属層の密着性を、ＡＳＴＭ Ｄ３３５９クロスカット試験基本手順に従って評価した。切込み工具を用いて、金属層上に２組の垂直な切り込みを入れて格子模様を形成した。その後、テープを貼って格子上で平らにし、金属層に対して１８０°の角度で剥がす。その後、フルオロポリマー上の金属層の密着性を、ＡＳＴＭ Ｄ３３５９基本手順の切込み格子と比較することによって評価した。試験結果の分類は５Ｂ〜０Ｂの範囲であり、その説明は表３に記載されている。

実施例１、比較例１及び２に従って得られた、金属被覆されたフルオロポリマーアセンブリの密着性の値は、以下の表４に記載されている。

このことから、本発明にかかる多層ミラーアセンブリは、有利なことには、比較例１及び２にかかる多層アセンブリと比較して非常に優れた層間密着性を示すことが見出された。

フルオロポリマーフィルムの表面がプラズマ処理によって改質されなかった比較例１に従って得られた多層アセンブリでは、層間密着性が認められなかった。

金属被覆したフルオロポリマーアセンブリの密着性及び柔軟性の評価
フルオロポリマー層上の金属フィルムの密着性の指標及び金属被覆したフルオロポリマーアセンブリの柔軟性の評価は、曲げ試験によって行った。１〜１０ｍｍの範囲の異なる曲率半径を有する１０個の円筒工具を輪郭とし、多層アセンブリを円筒の輪郭にあわせるように置いて曲げた。曲げ試験の結果は、下記の表５に示されている。

このことから、本発明にかかる多層ミラーアセンブリは、有利なことには、比較例２にかかる多層アセンブリと比較して、非常に優れた層間密着性を示しつつも、より高い柔軟性を示すことが見出された。

金属被覆したフルオロポリマーアセンブリの透過率評価
金属被覆したフルオロポリマーアセンブリの透過率評価は、ダブルビーム分光光度計のＰｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ Ｌａｍｂｄａ ２を使用して行った。波長は測定範囲２００〜１０００ｎｍであり、データポイント間隔は１ｎｍであった。透過率測定の結果は、下記の表６に示されている。

このことから、本発明にかかる多層ミラーアセンブリは、金属被覆していないフルオロポリマー層と比較して、及び金属層との層間密着性が見られない比較例１にかかる多層アセンブリと比較して、フルオロポリマー層に実質的に連続的に密着した金属層のため、有利なことに非常に低い透過率を示すことが示された。

また、本発明にかかる多層ミラーアセンブリは、有利なことには比較例２にかかる公知の多層ミラーアセンブリで得られる透過率よりも低い透過率を示す。

以上の点から、本発明の多層ミラーアセンブリは、その特に優れた反射率、柔軟性、及び耐候性と相まった、向上した層間密着性のため、特に太陽光集光器での使用に好適である。

Claims (16)

1. 多層ミラーアセンブリの製造方法であって、
   （ｉ）少なくとも１種のフルオロポリマー［ポリマー（Ｆ）］を含む組成物［組成物（Ｃ１）］から作られる、好ましくは少なくとも１種のフルオロポリマー［ポリマー（Ｆ）］からなる組成物［組成物（Ｃ１）］から作られる、光透過性層［層（Ｌ１）］を準備する工程であって、前記層（Ｌ１）は内表面及び外表面を有する工程と、
   （ｉｉ）前記層（Ｌ１）の前記内表面を、エッチングガスの存在下、高周波グロー放電法によって処理する工程と、
   （ｉｉｉ）工程（ｉｉ）で準備した前記層（Ｌ１）の、前記処理した内表面に、金属層［層（Ｌ２）］を無電解めっきする工程であって、前記層（Ｌ２）は少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ）］を含む組成物［組成物（Ｃ２）］から作られる工程と、
   を含む、方法。
2. 前記工程（ｉ）において、前記ポリマー（Ｆ）が、
   （１）テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）及びクロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ）から選択される少なくとも１種のフッ素化モノマーに由来する繰り返し単位、ならびにエチレン、プロピレン及びイソブチレンから選択される少なくとも１種の水素化モノマーに由来する繰り返し単位を含み、任意選択的には、典型的にはＴＦＥ及び／又はＣＴＦＥならびに前記水素化モノマーの総重量基準で０．０１モル％〜３０モル％の量の１種以上の追加的なコモノマーを含む、ポリマー（Ｆ−１）；
   （２）フッ化ビニリデン（ＶＤＦ）由来の繰り返し単位を含み、任意選択的に、ＶＤＦとは異なる１種以上のフッ素化モノマーも含む、ポリマー（Ｆ−２）；
   （３）テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）由来の繰り返し単位と、以下の群、すなわち、
   − 式ＣＦ_２＝ＣＦＯＲ_ｆ１’（式中、Ｒ_ｆ１’はＣ_１〜Ｃ_６パーフルオロアルキル基である）のパーフルオロアルキルビニルエーテル；
   − 式ＣＦ_２＝ＣＦＯＸ_０ （式中、Ｘ_０はパーフルオロ−２−プロポキシ−プロピル基などの、１つ以上のエーテル基を有するＣ_１〜Ｃ_１２パーフルオロオキシアルキル基である）のパーフルオロ−オキシアルキルビニルエーテル；
   − ヘキサフルオロプロペン（ＨＦＰ）などの、Ｃ_３〜Ｃ_８のパーフルオロオレフィン；及び
   − 式（Ｉ）のパーフルオロジオキソール：
   

   

   （式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３及びＲ_４は互いに同じ又は異なり、独立に、−Ｆ、任意選択的に１つ以上の酸素原子を含んでいてもよいＣ_１〜Ｃ_６フルオロアルキル基、及び任意選択的に１つ以上の酸素原子を含んでいてもよいＣ_１〜Ｃ_６フルオロアルコキシ基からなる群から選択される）
   からなる群から選択される、ＴＦＥとは異なる少なくとも１種のフッ素化モノマー由来の繰り返し単位とを含む、ポリマー（Ｆ−３）；
   （４）式ＣＲ_７Ｒ_８＝ＣＲ_９ＯＣＲ_１０Ｒ_１１（ＣＲ_１２Ｒ_１３）_ａ（Ｏ）_ｂＣＲ_１４＝ＣＲ_１５Ｒ_１６（式中、各Ｒ_７〜Ｒ_１６は互いに独立に、−Ｆ及びＣ_１〜Ｃ_３フルオロアルキル基から選択され、ａは０又は１であり、ｂは０又は１であり、ただし、ａが１の場合はｂは０である）の少なくとも１種の環化重合可能なモノマー由来の繰り返し単位を含む、ポリマー（Ｆ−４）；
   からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
3. 工程（ｉ）において、前記ポリマー（Ｆ）が、
   （ａ）３０モル％〜４８モル％、好ましくは３５モル％〜４５モル％のエチレン（Ｅ）と、
   （ｂ）５２モル％〜７０モル％、好ましくは５５モル％〜６５モル％のクロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）又はそれらの混合物と、
   （ｃ）モノマー（ａ）及び（ｂ）の総量を基準として、５モル％以下、好ましくは２．５モル％以下の１種以上のフッ素化及び／又は水素化コモノマーと、
   を含むポリマー（Ｆ−１）である、請求項１又は２に記載の方法。
4. 工程（ｉｉ）において、前記エッチングガスが酸素を含まず、前記グロー放電がプラズマ放電である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
5. 工程（ｉｉ）において、前記エッチングガスがＮ_２、ＮＨ_３、ＣＯ_２、Ｈ_２及びこれらの混合物から選択される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
6. 前記層（Ｌ１）が入射電磁放射の少なくとも７０％、好ましくは少なくとも８０％、より好ましくは少なくとも８５％の透過率を有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
7. 工程（ｉｉｉ）において、前記層（Ｌ１）の前記処理された内表面を無電解めっき触媒と接触させることで触媒表面を得た後、前記触媒表面を少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ）］を含む無電解めっき浴と接触させることで、層（Ｌ２）で被覆された前記内表面を有する層（Ｌ１）を得る、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
8. 前記無電解めっき浴が、１種以上の金属塩を含む少なくとも１種の化合物（Ｍ）と、少なくとも１種の還元剤と、少なくとも１種の液体媒体と、任意選択的な１種以上の添加剤とを含む、請求項７に記載の方法。
9. 前記方法が、
   （ｉｖ）工程（ｉｉｉ）で準備した前記層（Ｌ２）の反対側に、金属層［層（Ｌ３）］を電着塗装する工程であって、前記層（Ｌ３）は、少なくとも１種の金属化合物［化合物（Ｍ）］を含む組成物［組成物（Ｃ３）］から作られており、前記組成物（Ｃ３）は組成物（Ｃ２）と同じ又は異なる工程と、
   （ｖ）任意選択的に、工程（ｉｖ）で準備した前記層（Ｌ３）の反対側に、１つ以上の別の層を設ける工程と、
   を更に含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
10. 請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法によって得られる多層ミラーアセンブリ。
11. 窒素ベースの官能基が前記層（Ｌ１）の前記処理された内表面に結合している、請求項１０に記載の多層ミラーアセンブリ。
12. 前記層（Ｌ２）が、０．０５μｍ〜５μｍ、好ましくは０．８μｍ〜１．５μｍの厚さを有する、請求項１０又は１１に記載の多層ミラーアセンブリ。
13. 前記層（Ｌ３）が存在する場合、前記層（Ｌ３）が０．１μｍ〜３０μｍ、好ましくは１μｍ〜１５μｍの厚さを有する、請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の多層ミラーアセンブリ。
14. 請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の少なくとも１つの多層ミラーアセンブリを含む、太陽光集光器。
15. − 請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の少なくとも１つの多層ミラーアセンブリと、
    − 伝熱流体と、
    を含む、請求項１４に記載の太陽光集光器。
16. − 請求項１〜１３のいずれか１項に記載の少なくとも１つの多層ミラーアセンブリと、
    − 太陽電池と、
    を含む、請求項１４に記載の太陽光集光器。